JP2019511100A - 赤外線加熱ユニット - Google Patents
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Abstract
Description
前記加熱基板が、
・赤外スペクトル領域を吸収する添加成分が組み込まれたドープ石英ガラスで構成され、
・炉ライニングの少なくとも一部を形成する。
石英ガラスは、良好な腐食、温度、および温度サイクル耐性を有し、高純度で入手可能である。従って、1100℃までの温度を呈する高温加熱処理においても、考えられる加熱基板である。クリストバライト含有率が低い、すなわち1%以下であると、失透傾向が低くなり、したがって、使用中の亀裂形成の危険性が低いことが保証される。結果として、たとえば半導体製造処理において明らかである粒子の欠如、純度、および不活性に関する厳しい要件さえ満たされる。
αλ=ελ (1)
ελ=1-Rgh−Tgh (2)
これは主に元素形態で存在する微細に分布したケイ素相の特性によるものであり、一方では価電子帯と伝導帯(バンドギャップエネルギー)との間のエネルギーが温度で減少し、および一方、活性化エネルギーが十分に高い場合、価電子帯から伝導帯に電子が持ち上げられ、これは吸収係数の明確な増加と関連している。熱的に活性化された伝導帯の集団は、特定の波長(例えば、1000nm)においては室温である程度透明であり、高温では不透明になる半導体材料をもたらす。したがって、吸収および発光率は、加熱基板の温度が上昇するにつれて急激に増加する可能性がある。この効果は、とりわけ半導体の構造(アモルファス/結晶)およびドーピングに依存する。例えば、純粋なケイ素は、約600℃から発光の顕著な増加を示し、約1,000℃から飽和に達する。
該ツインチューブ4.2は、2つの搬送ベルト4.1の間隔を埋め、熱処理中に、その上に、加熱品5を回転できないように保持する。
ツインチューブ4.2の耐トルクブラケットの詳細図が図3に示されている。クランピングスプリング6は、ツインチューブ4.2の端部を包囲しており、これを搬送ベルトの1つ( ここには示されていない)を耐トルク位置に固定している。 クランプばね6はエルボーに接続され、エルボーは搬送ベルト4.1の1つに固定されている。
サンプルは、個別の炉で所定の温度に加熱され、測定のために、黒体環境が所定の温度に設定された状態でサンプルチャンバのビーム経路に移される。検出器によって検出される強度は、発光、反射、および透過部分、すなわちサンプル自体によって発光される強度、前側の半球からサンプルに入射し、サンプルによって反射される強度、および後ろ側の半球からサンプルに入射し、サンプルによって透過される強度である。個々のパラメータ、すなわち放出、反射、および透過の度合いを決定するために、3回の測定を実施する必要がある。
石英ガラス板(10)は、平均表面粗さRaが約1μmになるように表面研磨されている。蛇行形状の印刷導体11は、スクリーン印刷手順によってその研磨された頂部5に塗布される。この目的のために、市販の白金含有抵抗ペーストが使用される。
印刷導体11が乾燥した後、スラリーの層が石英ガラス板(10)の頂部13に塗布される。このスラリーは、約5μmの粒度を有する球状粒子の形態の非晶質SiO2粒子を、固形成分が84重量%の含量になるまで、均質な安定な塩基性スラリーに混合することによって、(珪素粉末を添加しない)上記したタイプの基本SiO2スラリーを変質させることにより達成される。この混合物を、25rpmの速度で回転する回転ミル中で12時間均質化する。このようにして得られたスラリーは、固形分84%および密度約2.0g / cm 3を有する。石英ガラス粒子の粉砕後に得られたスラリー中のSiO2粒子は、約8μmのD50値および約40μmのD90値によって特徴付けられる粒度分布を有する。
Claims (12)
- 処理空間(3)を提供するハウジング(2)と、加熱手段を備え、処理空間(3)が、少なくとも部分的に石英ガラス製炉ライニングによって区画された炉(1)を備えた赤外線加熱ユニットであって、前記加熱手段が、印刷導体(11)と接触している接触面(13)を持ち、抵抗体材料で形成され、導電性であり、電流が流れると発熱する少なくとも1つの加熱基板(9)によって形成されており、
前記加熱基板(9)が、
・赤外スペクトル領域を吸収する添加成分が組み込まれたドープ石英ガラスで構成され、
・炉ライニング(3.1, 3.2, 3.3)の少なくとも一部を形成する
赤外線加熱ユニット。 - 炉ライニング(3.1, 3.2, 3.3)がドープされた石英ガラスで完全に作られていることを特徴とする請求項1に記載の赤外線加熱ユニット。
- 前記加熱品と前記加熱基板との間の距離が5mm未満に設定されていることを特徴とする請求項1または2に記載の赤外線加熱ユニット。
- 前記添加成分が元素ケイ素であり、2〜8μmの波長において、600℃の温度で少なくとも0.6の発光率εおよび1,000℃の温度で少なくとも0.75の発光率εを呈する量で、前記加熱基板に組み込まれていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の赤外線加熱ユニット。
- 加熱基板(9)の重量に対するケイ素の量が0.1〜5重量%の範囲であることを特徴とする請求項4に記載の赤外線加熱ユニット。
- 前記印刷導体(11)が、該印刷導体の隣接するセクションの間に少なくとも1mm、好ましくは少なくとも2mmの介在空間が残るように焼き付けされた厚膜層として、および前記接触面(13)を覆う線パターンとして設けられていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の赤外線加熱ユニット。
- 接触面(13)が、少なくとも部分的に、多孔質石英ガラスでできた反射体層(12)によって覆われていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の赤外線加熱ユニット。
- 加熱基板(9)が板状に設けられ、板厚が5mm未満であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の赤外線加熱ユニット。
- 処理空間(3)を通る、加熱品(5)の搬送のための搬送手段(4)が設けられており、この搬送手段は、前記処理空間を通って延び、前記加熱品を支持する石英ガラス製の支持部材(4.2)を備えていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の赤外線加熱ユニット。
- 前記搬送手段(4)が、互いに平行に間隔をおいて配置された2つの連続搬送ベルト(4.1)を備え、前記支持部材が、石英ガラス製のシリンダ(4.2)の形態で設けられており、このシリンダ(4.2)が、搬送ベルト(4.1)間の距離を橋渡しし、搬送ベルト(4.1)に、トルクを通さない方法で接続されていることを特徴とする請求項9に記載の赤外線加熱ユニット。
- 前記石英ガラスシリンダ(4.2)は、不透明な石英ガラスで形成されているコーティングを含むことを特徴とする請求項10に記載の赤外線加熱ユニット。
- 炉ライニングが少なくとも1つの加熱面を含み、加熱手段が、加熱面あたり100kW/m2以上の範囲で、表面積当たりの総パワー密度を発生するように設計されていることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の赤外線加熱ユニット。
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