JP2019500432A - 開裂可能な架橋剤を含むパターン化されたフィルム物品及び方法 - Google Patents
開裂可能な架橋剤を含むパターン化されたフィルム物品及び方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019500432A JP2019500432A JP2018515529A JP2018515529A JP2019500432A JP 2019500432 A JP2019500432 A JP 2019500432A JP 2018515529 A JP2018515529 A JP 2018515529A JP 2018515529 A JP2018515529 A JP 2018515529A JP 2019500432 A JP2019500432 A JP 2019500432A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copolymer
- weight percent
- subscript
- acid
- monomer unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 60
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 title claims description 49
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 234
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 76
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 61
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 132
- -1 acrylate ester Chemical class 0.000 claims description 69
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 69
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 66
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 52
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 44
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 35
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 32
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 32
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 claims description 26
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 26
- 230000007017 scission Effects 0.000 claims description 26
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 25
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 23
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 22
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 22
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 18
- GGZZISOUXJHYOY-UHFFFAOYSA-N 8-amino-4-hydroxynaphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C2C(N)=CC=CC2=C1O GGZZISOUXJHYOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 12
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 claims description 11
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 9
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 6
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 6
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 claims description 4
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 claims 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 claims 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 claims 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 37
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 37
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 27
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 27
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 21
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 16
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 14
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 12
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 6
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 6
- SJWFXCIHNDVPSH-UHFFFAOYSA-N octan-2-ol Chemical compound CCCCCCC(C)O SJWFXCIHNDVPSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 6
- QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-1-ol Chemical compound CCC(C)CO QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Chemical class C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Chemical class O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 5
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 5
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 5
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Chemical class OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 4
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 0 CC(CCCC(C)C1(C2)C2C1)C(C)CC**=C(CCC1)C1=C Chemical compound CC(CCCC(C)C1(C2)C2C1)C(C)CC**=C(CCC1)C1=C 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 3
- 125000004404 heteroalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000005537 sulfoxonium group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 1-Tridecanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCO XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTWVMOWQLZMOKQ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)propan-2-yloxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(C)(C)OCCOC(=O)C=C WTWVMOWQLZMOKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- PFNHSEQQEPMLNI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-pentanol Chemical compound CCCC(C)CO PFNHSEQQEPMLNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWTBVKIGCDZRPL-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentanol Chemical compound CCC(C)CCO IWTBVKIGCDZRPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWDBEAQIHAEVLV-UHFFFAOYSA-N 6-methylheptan-1-ol Chemical compound CC(C)CCCCCO BWDBEAQIHAEVLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical group CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZKSECIXORKHQS-UHFFFAOYSA-N Heptan-3-ol Chemical compound CCCCC(O)CC RZKSECIXORKHQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VSYMNDBTCKIDLT-UHFFFAOYSA-N [2-(carbamoyloxymethyl)-2-ethylbutyl] carbamate Chemical compound NC(=O)OCC(CC)(CC)COC(N)=O VSYMNDBTCKIDLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001266 acyl halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002314 glycerols Chemical class 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N hexan-2-ol Chemical compound CCCCC(C)O QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- AWGZKFQMWZYCHF-UHFFFAOYSA-N n-octylprop-2-enamide Chemical compound CCCCCCCCNC(=O)C=C AWGZKFQMWZYCHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 2
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical class OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N pentan-2-ol Chemical compound CCCC(C)O JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQIXEPGDORPWBJ-UHFFFAOYSA-N pentan-3-ol Chemical compound CCC(O)CC AQIXEPGDORPWBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O selenonium Chemical compound [SeH3+] SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HLZKNKRTKFSKGZ-UHFFFAOYSA-N tetradecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCO HLZKNKRTKFSKGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009482 thermal adhesion granulation Methods 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 2
- FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfonium triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001618 (3R)-3-methylpentan-1-ol Substances 0.000 description 1
- NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N (3S)-octan-3-ol Natural products CCCCCC(O)CC NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXSLFXLNXREQFW-UHFFFAOYSA-M (4-methoxyphenyl)-phenyliodanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC(OC)=CC=C1[I+]C1=CC=CC=C1 YXSLFXLNXREQFW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IVRUHRJWHGHDCR-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)iodanium Chemical compound CC1=CC=C([IH+])C=C1 IVRUHRJWHGHDCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005968 1-Decanol Substances 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FODCFYIWOJIZQL-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfanyl-3,5-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound CSC1=CC(C(F)(F)F)=CC(C(F)(F)F)=C1 FODCFYIWOJIZQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNQPQJLMERNWGN-UHFFFAOYSA-N 11-methyldodecyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCOC(=O)C=C NNQPQJLMERNWGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical group C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEWZVZIVELJPQZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxypropane Chemical compound COC(C)(C)OC HEWZVZIVELJPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMZIFDLWYUSZCC-UHFFFAOYSA-N 2,6-dibromo-4-nitroaniline Chemical compound NC1=C(Br)C=C([N+]([O-])=O)C=C1Br YMZIFDLWYUSZCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRAMZQXXPOLCIY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethanesulfonic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCS(O)(=O)=O PRAMZQXXPOLCIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 1
- WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1-hexanol Natural products CCCCC(O)CCC WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNVRIHYSUZMSGM-LURJTMIESA-N 2-Hexanol Natural products CCCC[C@H](C)O QNVRIHYSUZMSGM-LURJTMIESA-N 0.000 description 1
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C=C FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZYRSLHNPKPEFV-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1-butanol Chemical compound CCC(CC)CO TZYRSLHNPKPEFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXYJVFYWCLAXHO-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C(C)=C YXYJVFYWCLAXHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCTBYWFEJFTVEL-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(C)COC(=O)C=C NCTBYWFEJFTVEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNWOJVJCRAHBJJ-UHFFFAOYSA-N 2-pentylcyclopentan-1-one Chemical compound CCCCCC1CCCC1=O VNWOJVJCRAHBJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAWQXWZJKKICSZ-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethyl-2-methylidenebutanamide Chemical class CC(C)(C)C(=C)C(N)=O ZAWQXWZJKKICSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BODRLKRKPXBDBN-UHFFFAOYSA-N 3,5,5-Trimethyl-1-hexanol Chemical compound OCCC(C)CC(C)(C)C BODRLKRKPXBDBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRNCMAKCNVRZFX-UHFFFAOYSA-N 3,7-dimethyloctan-1-ol Chemical compound CC(C)CCCC(C)CCO PRNCMAKCNVRZFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZQFHGSMNZKGQN-GZTJUZNOSA-N 3-[(5e)-5-[[3-[(4-chlorophenyl)methoxy]phenyl]methylidene]-4-oxo-2-sulfanylidene-1,3-thiazolidin-3-yl]propanoic acid Chemical compound O=C1N(CCC(=O)O)C(=S)S\C1=C\C1=CC=CC(OCC=2C=CC(Cl)=CC=2)=C1 JZQFHGSMNZKGQN-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- SKKHNUKNMQLBTJ-UHFFFAOYSA-N 3-bicyclo[2.2.1]heptanyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1CC2C(OC(=O)C(=C)C)CC1C2 SKKHNUKNMQLBTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVYGIPWYVVJFRW-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C=C ZVYGIPWYVVJFRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNQLSPCOMMQISZ-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dimethoxyphenyl)-6-(trichloromethyl)triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NN=NC(=C1)C1=CC(=C(C=C1)OC)OC VNQLSPCOMMQISZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical group C1=C(CC=C)C(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIZIEBZIRUDMLP-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-methylidenepentanoic acid propan-2-one Chemical compound OC(CC(C(=O)O)=C)C.OC(CC(C(=O)O)=C)C.CC(=O)C IIZIEBZIRUDMLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004861 4-isopropyl phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MMVUZMIOJNPDME-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzenesulfonate;triethylazanium Chemical compound CC[NH+](CC)CC.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 MMVUZMIOJNPDME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVDBXCXQMHBGQM-UHFFFAOYSA-N 4-methylpentan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CC(C)OC(=O)C=C BVDBXCXQMHBGQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXUDFWSZQAEDCP-UHFFFAOYSA-N 4-phenylsulfanylbenzenethiol Chemical compound C1=CC(S)=CC=C1SC1=CC=CC=C1 FXUDFWSZQAEDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 6-methylheptyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCOC(=O)C=C DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUXGDKOCSSIRKK-UHFFFAOYSA-N 7-methyloctyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCOC(=O)C=C CUXGDKOCSSIRKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 8-methylnonyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCOC(=O)C=C LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001247482 Amsonia Species 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRAOLCGBRBCBJT-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)IC1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)IC1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C LRAOLCGBRBCBJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVOGBYVAQCCJQG-UHFFFAOYSA-N OC(CC=C(C(=O)O)C)C.OC(CC=C(C(=O)O)C)C.CC(=O)C Chemical compound OC(CC=C(C(=O)O)C)C.OC(CC=C(C(=O)O)C)C.CC(=O)C XVOGBYVAQCCJQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101710134942 Putative protein-tyrosine sulfotransferase Proteins 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 239000012963 UV stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000037338 UVA radiation Effects 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- PFHLXMMCWCWAMA-UHFFFAOYSA-N [4-(4-diphenylsulfoniophenyl)sulfanylphenyl]-diphenylsulfanium Chemical compound C=1C=C([S+](C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC(C=C1)=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PFHLXMMCWCWAMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMNPXXIGUOKIPP-UHFFFAOYSA-N [4-(carbamothioylamino)phenyl]thiourea Chemical compound NC(=S)NC1=CC=C(NC(N)=S)C=C1 AMNPXXIGUOKIPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004036 acetal group Chemical group 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical class 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical class [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N benzene carboxamide Chemical group NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920006378 biaxially oriented polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011127 biaxially oriented polypropylene Substances 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 239000012620 biological material Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- MDUKBVGQQFOMPC-UHFFFAOYSA-M bis(4-tert-butylphenyl)iodanium;(7,7-dimethyl-3-oxo-4-bicyclo[2.2.1]heptanyl)methanesulfonate Chemical compound C1CC2(CS([O-])(=O)=O)C(=O)CC1C2(C)C.C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 MDUKBVGQQFOMPC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UEJFJTOGXLEPIV-UHFFFAOYSA-M bis(4-tert-butylphenyl)iodanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 UEJFJTOGXLEPIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VGZKCAUAQHHGDK-UHFFFAOYSA-M bis(4-tert-butylphenyl)iodanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 VGZKCAUAQHHGDK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000707 boryl group Chemical group B* 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- VXTQKJXIZHSXBY-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(C)OC(=O)C(C)=C VXTQKJXIZHSXBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N decyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C=C FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 1
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-O diphenylsulfanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SH+]C1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 238000012674 dispersion polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229920005570 flexible polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000004682 monohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N n-butyl methyl ketone Natural products CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OPECTNGATDYLSS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2-sulfonyl chloride Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S(=O)(=O)Cl)=CC=C21 OPECTNGATDYLSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSAJWMJJORKPKS-UHFFFAOYSA-N octadecyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C FSAJWMJJORKPKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- HZLFQUWNZMMHQM-UHFFFAOYSA-N piperazin-1-ylmethanol Chemical compound OCN1CCNCC1 HZLFQUWNZMMHQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000004626 polylactic acid Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQLIQIAXYRMDL-UHFFFAOYSA-N propylheptyl alcohol Chemical compound CCCCCC(CO)CCC YLQLIQIAXYRMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- WBHHMMIMDMUBKC-XLNAKTSKSA-N ricinelaidic acid Chemical compound CCCCCC[C@@H](O)C\C=C\CCCCCCCC(O)=O WBHHMMIMDMUBKC-XLNAKTSKSA-N 0.000 description 1
- 229960003656 ricinoleic acid Drugs 0.000 description 1
- FEUQNCSVHBHROZ-UHFFFAOYSA-N ricinoleic acid Natural products CCCCCCC(O[Si](C)(C)C)CC=CCCCCCCCC(=O)OC FEUQNCSVHBHROZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003509 tertiary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical class C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N vinylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C=C ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/12—Polymerisation in non-solvents
- C08F2/16—Aqueous medium
- C08F2/22—Emulsion polymerisation
- C08F2/24—Emulsion polymerisation with the aid of emulsifying agents
- C08F2/28—Emulsion polymerisation with the aid of emulsifying agents cationic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
- C08F220/1808—C8-(meth)acrylate, e.g. isooctyl (meth)acrylate or 2-ethylhexyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
- C08F220/1811—C10or C11-(Meth)acrylate, e.g. isodecyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate or 2-naphthyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/28—Treatment by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09J133/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J143/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium, or a metal; Adhesives based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
- C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
- C09J7/381—Pressure-sensitive adhesives [PSA] based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C09J7/385—Acrylic polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
- C08F220/1806—C6-(meth)acrylate, e.g. (cyclo)hexyl (meth)acrylate or phenyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2333/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
- C08J2333/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C08J2333/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2343/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium or a metal; Derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/20—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive itself
- C09J2301/21—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive itself the adhesive layer being formed by alternating adhesive areas of different nature
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/40—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
- C09J2301/414—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components presence of a copolymer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/40—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
- C09J2301/416—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components use of irradiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2433/00—Presence of (meth)acrylic polymer
Abstract
Description
本開示は、パターン化されたフィルム物品、及びその製造方法に関する。
当技術分野では、接着剤層がパターンコーティングされている、又は2種以上の接着剤がパターン状に配置されている、多くのパターン化された物品が記載されている。
本開示は、パターン化された接着フィルム物品を含むパターン化されたフィルム物品であって、パターンが、高架橋密度接着剤コポリマーの要素及び低架橋密度接着剤コポリマーの領域を含む、物品を提供する。
シロップが少なくとも1つの開裂可能な架橋性モノマーを含むか、又は(メタ)アクリル溶質ポリマーが、少なくとも1つの開裂可能な架橋性モノマー、少なくとも2つのフリーラジカル重合性基、及び式−O−C(R2)(R3)−O−(式中、R2及びR3は独立して、水素、アルキル、又はアリールである)を有する少なくとも1つの基から誘導される重合単位を含む。
「シロップ組成物」は、1種以上の溶媒モノマー中の溶質ポリマーの溶液を指し、この組成物は、25℃で100〜8,000cPsの典型的な粘度を有する。シロップは、溶媒モノマーより高い粘度を有する。
(式中、
R1は、水素又はメチルであり、
R2及びR3は独立して、水素、(例えばC1〜C6)アルキル、又はアリールであり、
L1は、二価の結合基である)を有する。
(式中、R1、R3及びL1は前述のものと同じである)を有する。
H2C=CR1C(O)OR8
(式中、R1はH又はメチルであり、R8は、1〜24個の炭素を有するアルキル、又は2〜20個の炭素及び酸素若しくは硫黄から選択される1〜6個のヘテロ原子を有するヘテロアルキルである)を有し得る。アルキル基又はヘテロアルキル基は、直鎖状、分枝状、環状、又はこれらの組み合わせであり得る。
(式中、このトリアジン架橋剤のR1、R2、R3及びR4は独立して、水素又はアルコキシ基であり、R1、R2、R3及びR4のうちの1〜3個は水素である)を有し得る。アルコキシ基は、典型的には、12個以下の炭素原子を有する。有利な実施形態において、アルコキシ基は独立してメトキシ又はエトキシである。1つの代表的な種は、2,4,−ビス(トリクロロメチル)−6−(3,4−ビス(メトキシ)フェニル)−トリアジンである。このようなトリアジン架橋化合物は、米国特許第4,330,590号に更に記載されている。
−[Mエステル]a−[M酸]b−[M極性]c−[Mビニル]d−[M不安定]e−[Mx結合]g−、III
(式中、
[Mエステル]は、(メタ)アクリレートエステルモノマー単位を表し、下付き文字aは、その重量パーセントを表し、
[M酸]は、酸官能性モノマー単位を表し、下付き文字bは、その重量パーセントを表し、
[M極性]は、極性モノマー単位を表し、下付き文字cは、その重量パーセントを表し、
[Mビニル]は、ビニルモノマー単位を表し、下付き文字dは、その重量パーセントを表し、
[M不安定]は、式I又はIIの不安定架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字eは、その重量パーセントを表し、
[Mx結合]は、開裂不可能な架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字gは、その重量パーセントを表す)
で表され得る。
−[Mエステル]a−[M酸]b−[M極性]c−[Mビニル]d−[M不安定]e−f−[M残留部]f−[Mx結合]g−、IV
(式中、
[Mエステル]は、(メタ)アクリレートエステルモノマー単位を表し、下付き文字aは、その重量パーセントを表し、
[M酸]は、酸官能性モノマー単位を表し、下付き文字bは、その重量パーセントを表し、
[M極性]は、極性モノマー単位を表し、下付き文字cは、その重量パーセントを表し、
[Mビニル]は、ビニルモノマー単位を表し、下付き文字dは、その重量パーセントを表し、
[M不安定]は、式I又はIIの不安定架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字e−fは、残留している前記不安定架橋単位の残りの量の重量パーセントを表し、
[M残留部]は、式I又はIIの不安定架橋剤から誘導されるモノマー単位の残留部を表し、fは、その重量パーセントを表し、
[Mx結合]は、開裂不可能な架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字gは、その重量パーセントを表す)
で表され得る。
2つの剥離ライナーの間で調製された約0.002インチ(51マイクロメートル)の厚さを有するコーティングされたサンプルを使用して、以下のように剥離接着強度を測定した。第1の剥離ライナーを取り外し、露出したコーティング表面を0.002インチ(51マイクロメートル)の厚さのポリエステルフィルムに積層し、ゴムローラーを使用して手で伸ばした。いくつかのサンプルは、剥離ライナーを所定位置に置いて照射した。他のサンプルは、第2の剥離ライナーを取り外した後に照射した(完全曝露)。完全曝露したサンプルについて、露出した照射表面に剥離ライナーを前述のように積層した。他のサンプルでは、第2のライナーを取り外し、照射前にマスクフィルムを適用した(パターン化曝露)。前述のようにポリエステルフィルムを適用して対照サンプルも調製し、照射を行わずに評価した。次に、サンプルストリップを幅25.4ミリメートル及び長さ6センチメートルの寸法で切断し、剥離ライナー又はマスクフィルムを取り外し、剥離試験機(Model SP−2100 Slip/Peel Tester、IMass Incorporated(Accord,MA)から入手可能)を使用して剥離接着力を測定した。ストリップの露出表面を、事前にイソプロパノールで拭いたステンレス鋼試験板に貼り付け、2キログラムのゴムローラーを使用して伸ばした。次に、サンプルを貼りつけたステンレス鋼板を機器のプラットフォームに取り付けた。サンプルストリップの一端を、180度の角度で折り、試験機の水平剥離アームに取り付けた。接着剤を試験板に適用してから1分後に剥離試験を開始し、サンプルを12インチ/分(30.5センチメートル/分)又は90インチ/分(305センチメートル/分)の速度で剥離した。平均剥離力をオンス/インチ幅で記録し、ニュートン/デシメートルで報告した。各サンプルについて、報告した値は3つのサンプルストリップの平均である。加えて、剥離距離に対する力の剥離プロファイルを記録して、活性化された接着フィルムにおいて得られたパターンを示す。
2つの剥離ライナーの間で調製された約0.002インチ(51マイクロメートル)の厚さを有するコーティングされたサンプルを使用して、以下のように70℃でのせん断強度を測定した。第1の剥離ライナーを取り外し、露出したコーティング表面を0.002インチ(51マイクロメートル)の厚さのポリエステルフィルムに積層し、ゴムローラーを使用して手で伸ばした。次に、第2の剥離ライナーを取り外し、照射に完全に曝露した。次に、露出した照射表面に剥離ライナーを前述のように積層した。
2つの剥離ライナーの間で調製された約0.012インチ(300マイクロメートル)の厚さを有するコーティングされたサンプルを使用して、以下のように引張伸びを測定した。いくつかのサンプルは、第2の剥離ライナーを取り外した後に照射した(完全曝露)。完全曝露したサンプルについて、露出した照射表面に剥離ライナーを前述のように積層した。他のサンプルでは、第2のライナーを取り外し、照射前にマスクフィルムを適用した(パターン化曝露)。次に、サンプルストリップを長さ5.0センチメートル及び幅1センチメートルの寸法で切断し、剥離ライナーを両面から取り外し、又は他の例では剥離ライナー及びマスクフィルムを取り外した。試験ストリップの各端部の両面を、3M Scotch(商標)Heavy Duty Shipping Packaging Tapeで覆い、ストリップの中央3センチメートルが露出したままになるようにした。次に、テープを貼ったストリップを、3センチメートルのギャップ設定で、TA XT Plus Texture Analyzer(Texture Technologies Corporation(Scarsdale,NY))の引張クランプに置いた。次にクランプを5ミリメートル/秒の速度で引き離し、破断時応力及びひずみを記録した。各サンプルについて2つの試験片を測定し、平均値を報告した。
785グラム(6.76モル、3当量)の2−ヒドロキシエチルアクリレート及び0.429グラム(2.25ミリモル、0.001当量)のp−トルエンスルホン酸(一水和物)の混合物に、235グラム(2.25モル、1当量)の2,2−ジメトキシプロパン、0.236グラムのMEHQ及び1.12リットルのシクロヘキサンを添加した。一定の空気流をフラスコに通し、混合物を80℃に加熱し、そこで10時間維持した。共沸蒸留でメタノールを回収した(約160ミリリットルを回収した)。溶液に空気を数日間通して、溶媒を除去した。次に、反応混合物を約400ミリリットルの酢酸エチルで希釈し、200ミリリットルの炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液で抽出し、続いて水/ブラインで数回洗浄した。約7リットルの水で洗浄した後、サンプルを濃縮し、H1 NMR分析は1%未満の残留2−ヒドロキシエチルアクリレートが残留していることを示した。残留している反応生成物混合物を減圧濃縮し、H1 NMR分析で残留している酢酸エチルが0.05%未満であることが示されるまで、この混合物に空気を数日間通した。合計429グラム(64%収率)の開裂可能なジアクリレート架橋剤2,2−ジ(2−アクリルオキシエトキシ)プロパン生成物が得られた。
プレ接着剤シロップ調製
表1の選択アクリルモノマーをそれぞれ共重合させ、表2の実施例1の以下の配合物例を使用して、サンプルフィルムに配合した。84.4グラムのIOA、6.03グラムのAA及び0.04グラムのI−651を、透明なガラスジャー内で磁気撹拌棒を使用して混合した。ジャーの蓋にある開口部から挿入した管を通して窒素ガスを導入することによって混合物を脱気し、少なくとも5分間激しくバブリングした。窒素流量を減少させた後、ジャーの内容物を穏やかに混合し、コーティングに適していると考えられる粘度を有するプレ接着剤シロップが形成するまでUV−A光に曝露した。次に窒素供給を空気に切り換え、これを少なくとも5分間ジャーに導入した。UV−A光源は、360ナノメートルのピーク発光を有するブラックライト蛍光ランプであった。次に、更なる光開始剤及び架橋剤を、下記の通り各シロップサンプルに添加した。
更なる0.16グラムのIRGACURE 651光開始剤を、実施例1のプレ接着剤シロップに添加し、光開始剤が溶解するまで混合し、その後、0.24グラムのHDDA、9.0グラムのCDAC、及び0.04gのTPSTを添加した。次に、得られたプレ接着剤シロップを、ノッチバーコーター及び200マイクロメートルのギャップ設定を使用して、RL1及びRL2シリコン処理PET剥離ライナー(SKC Hass(Seoul,SK))間にコーティングし、コーティング厚さを約50マイクロメートルとした。ピーク発光が350ナノメートルのブラックライト蛍光ランプを使用して、コーティングされた組成物の両面を500ミリジュール/平方センチメートルの総UV−Aエネルギーに曝露した。
実施例1〜2及び比較例1
パターン化曝露サンプルについて、2つの剃刀の刃を平行な配置に保持したカッターを使用して、RL1シートから約10センチメートルの長さの一連の平行な線を切り取ることによってマスクフィルムを調製し、1.5ミリメートルの線幅及び間隔を有するマスクフィルムを得た。これを、UV照射前にサンプル上に置いた。D−バルブアークランプを使用したFusion Processer UVランプシステム(Heraeus Noblelight(Gaithersburg,MD))の下を通過させることによって、サンプルを照射した。UV照射後、マスクフィルムを取り外し、PSAの表面を、12インチ/分の剥離速度を使用して上記の試験方法において記述した通り、剥離接着強度及びせん断強度に関して評価した。
実施例3〜6及び比較例2〜4
2つの剃刀の刃を平行な配置に保持したカッターを使用して、RL1シートから約10センチメートルの長さの一連の平行な線を切り取ることによって、線のパターン形状を有するマスクフィルムを上記実施例で記述した通り調製した。所望の直径のオウルパンチ(owl punch)を使用して、六角形の配置で点のパターン形状を有するマスクフィルムを調製した。これらのマスクフィルムを、UV照射前に組成物3のサンプル上に置いた。マスクフィルムを用いなかった比較例、又はパターンを含まないマスクフィルムを用いた比較例もまた評価した。これらの寸法を使用して曝露した面積%を算出した。D−バルブアークランプを使用したFusion Processer UVランプシステム(Heraeus Noblelight(Gaithersburg,MD))の下を通過させることによって、サンプルをUV照射した。UV照射後、マスクフィルムを取り外し、PSAの表面を、上記の試験方法において記述した通り、剥離接着強度及びせん断強度に関して評価した。剥離接着力試験は、線と平行な(ウェブ下流(downweb))方向に12インチ/分(30.5センチメートル/分)で行った。
実施例8a及び8b
2つの剃刀の刃を平行な配置に保持したカッターを使用して、RL1シートから約10センチメートルの長さの一連の平行な線を切り取ることによってマスクフィルムを調製し、3.5ミリメートルの線幅及び間隔を有するマスクフィルムを得た。これを、UV照射前に組成物4のフィルムサンプル上に置いた。D−バルブアークランプを用いたFusion Processer UVランプシステムを使用して、前述の通りサンプルをUV照射して、2ジュール/平方センチメートルの照射量を得た。UV照射後、マスクフィルムを取り外し、PSAの表面を、上記の試験方法において記述した通り、剥離接着強度に関して評価した。剥離接着力試験は、線と平行な(ウェブ下流)方向及び線に垂直な(ウェブ横断)方向の両方向に12インチ/分(30.5センチメートル/分)で行った。剥離強度接着プロファイルを図1及び2に示す。
以下の変更を行って実施例8を繰り返した。線幅は7ミリメートルであり、線間隔は3.5ミリメートルであり、剥離速度は90インチ/分(229センチメートル/分)であった。線は、ウェブ横断方向にパターン化した。剥離接着力は、垂直(ウェブ横断)方向に評価した。図3で分かるように、また実施例8bと同様に、ウェブ横断方向に移動するとき、照射された面積は曝露領域と非曝露領域との間で変わり、剥離力も同様に変わる。更に、剥離接着強度がより高い領域(すなわち曝露面積)は、剥離接着強度がより低い領域(すなわち非曝露面積)の寸法のほぼ2倍であり、それぞれ約7.0ミリメートル及び3.5ミリメートルの線幅及び間隔と一致する。
以下の変更を行って実施例8を繰り返した。マスクフィルムは、形が横51mm及び縦33mmの矩形であり、上部に11mm、右側及び左側に3mm、並びに底部に3mmの狭い境界エリアを有していた。境界を曝露し、広い方の内部エリア(横45mm及び縦19mmの矩形)は曝露しなかった。剥離接着力を、この矩形の寸法を横断して評価した。図4で分かるように、剥離プロファイルの初期の部分は、完全に曝露された領域からの剥離を反映し、より高い剥離接着強度を示す。データは、基準の1インチ(25.4mm)幅に対して正規化した。試験が進むにつれて、剥離プロファイルは、主に曝露されなかった領域からの剥離を反映し、より低い剥離接着強度を示す。試験の最終部分は、完全に曝露された領域からの剥離を再び反映し、より高い剥離接着強度を示す。加えて、剥離プロファイルから得られる寸法は、非曝露面積の寸法とほぼ同じであり、剥離接着強度が曝露面積に直接比例すること、及びマスクされたパターンがサンプルに正確に転写されることを示す。
以下の変更を行って実施例8を繰り返した。マスクフィルムは、六角形の配置で点のパターン形状を有し、点の直径は6ミリメートルであり、中心間の間隔は12mmであった。剥離接着強度は、平行な(ウェブ下流)方向に評価した。実施例8aのように、ウェブ下流方向に移動するとき、照射された面積は一定であり、剥離力は一定のままである。更に、剥離接着強度がより高い領域(すなわち、曝露面積)は、剥離接着強度がより低い領域(すなわち非曝露面積)と寸法がほぼ同じであり、点の直径が一定であること及び点間の間隔が一定であることと一致する。点のサイズが均一であること、及びパターンが両方向に同じであることから、ウェブ横断方向プロファイルは、ウェブ下流方向プロファイルとほぼ同じになると予想される。
本発明の活性化可能な接着剤シート内に高粘着性及び低粘着性のパターンを付与する別の方法は、活性化触媒のパターンをライナー上に印刷し、その後、印刷したライナーを接着剤シートと接触させることである。約0.002インチ(51マイクロメートル)の厚さを有するコーティングされたサンプルを、表2に記載の通り2つの剥離ライナー間に調製した。第1の剥離ライナーを取り外し、露出したコーティング表面を0.002インチ(51マイクロメートル)の厚さのポリエステルフィルムに積層し、ゴムローラーを使用して手で伸ばした。第2の剥離ライナーを取り外し、乾燥した緩衝組成物(BDH)をその上にパターン化しコーティングしたRL1剥離ライナーに、ゴムローラーを使用して手で積層した。
パターン化UV曝露を使用して特定のフィルム挙動(パターン化されたPSA挙動に加えて)を標的とする能力を実証するために、表2の手順に従って、組成物6の高弾性かつ高度に架橋されたフィルムを生成した。次に、D−バルブアークランプを使用したFusion Processer UVランプシステム(Heraeus Noblelight(Gaithersburg,MD))の下で、線状のマスクを使用して、このフィルムを2J/cm2のUV照射に曝露してフィルムに対する曝露をパターン化した。1mm間隔又は3.5mm間隔の切断刃のいずれかを使用して、RL1ライナーから平行な線状のマスクを再び切断した。下記の表5中の比較例6及び7は、調製フィルム6の初期フィルム及び完全曝露フィルム(すなわち、マスクもパターン化もされない曝露)の伸長挙動を示す。完全曝露の後、ネットワーク架橋を分解するために、比較例7はその後、より大きい破断前のひずみ%を示す。
Claims (48)
- a)i.式−O−C(R2)(R3)−O−(式中、R2及びR3は独立して、水素、アルキル、又はアリールである)を有する少なくとも1つの基との架橋を有するアクリルコポリマー、及び
ii.光酸発生剤
を含む組成物の層を有する基材を準備することと、
b)事前に選択されたパターン状に前記層を照射して、前記架橋の少なくとも一部を開裂させることと、
を含む、パターン化されたフィルム物品の製造方法。 - 前記事前に選択されたパターンの照射された部分は、
1.少なくとも10%のポリマーゲル含量の減少、
2.少なくとも10%の貯蔵弾性率の低下、及び
3.少なくとも10%の剥離接着力の増大
から選択される少なくとも1つの物理的特性の変化を示す、請求項1に記載の方法。 - 前記照射工程は、前記光酸発生剤を開裂させ、それによって酸及び前記架橋の一部の開裂を触媒する初期酸を放出する、請求項1に記載の方法。
- 前記コポリマーは、10℃以下のTgを有するアルキル(メタ)アクリレートモノマーから誘導される重合単位を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記コポリマーは、4〜20個の炭素原子を有する1つ以上の非環状アルキル(メタ)アクリレートモノマーから誘導される重合単位を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ポリマーは、4〜20個の炭素原子を有する1つ以上のアルキル(メタ)アクリレートモノマーから誘導される重合単位を少なくとも50、60、65、又は70重量%含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記アクリルコポリマーの前記層は、粘着付与剤、可塑剤、又はこれらの組み合わせを更に含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記アクリルコポリマーは、0.1〜20重量%の開裂可能な架橋性モノマー単位を含む、請求項1〜9のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記コポリマーの非照射部分は、式:
−[Mエステル]a−[M酸]b−[M極性]c−[Mビニル]d−[M不安定]e−[Mx結合]g−のもの
(式中、[Mエステル]は、(メタ)アクリレートエステルモノマー単位を表し、下付き文字aは、その重量パーセントを表し、
[M酸]は、酸官能性モノマー単位を表し、下付き文字bは、その重量パーセントを表し、
[M極性]は、極性モノマー単位を表し、下付き文字cは、その重量パーセントを表し、
[Mビニル]は、ビニルモノマー単位を表し、下付き文字dは、その重量パーセントを表し、
[M不安定]は、式I又はIIの不安定架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字eは、その重量パーセントを表し、
[Mx結合]は、開裂不可能な架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字gは、その重量パーセントを表す)
である、請求項1に記載の方法。 - 前記照射されたコポリマーは、式:
−[Mエステル]a−[M酸]b−[M極性]c−[Mビニル]d−[M不安定]e−f−[M残留部]f−[Mx結合]g−のもの
(式中、[Mエステル]は、(メタ)アクリレートエステルモノマー単位を表し、下付き文字aは、その重量パーセントを表し、
[M酸]は、酸官能性モノマー単位を表し、下付き文字bは、その重量パーセントを表し、
[M極性]は、極性モノマー単位を表し、下付き文字cは、その重量パーセントを表し、
[Mビニル]は、ビニルモノマー単位を表し、下付き文字dは、その重量パーセントを表し、
[M不安定]は、式I又はIIの不安定架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字e−fは、残留している不安定架橋単位の残りの量の重量パーセントを表し、
[M残留部]は、前記式I又はIIの不安定架橋剤から誘導されるモノマー単位の残留部を表し、fは、その重量パーセントを表し、
[Mx結合]は、開裂不可能な架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字gは、その重量パーセントを表す)
である、請求項1に記載の方法。 - 前記基材は、アパーチャマスクを通した照射によって、事前に選択されたパターン状に照射される、請求項1に記載の方法。
- 前記アパーチャマスクは、位置変更可能である、請求項13に記載の方法。
- 前記組成物は、アクリル接着剤コポリマーの総重量を基準にして、0.01〜10重量%の光酸発生剤を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記パターン化されたフィルム物品は、パターン化された接着フィルム物品である、請求項1に記載の方法。
- 式−O−C(R2)(R3)−O−(式中、R2及びR3は独立して、水素、アルキル、又はアリールである)を有する少なくとも1つの基との架橋を有するアクリルコポリマーの層を含むパターン化されたフィルム物品であって、前記パターンは、前記接着剤コポリマー中の高架橋密度領域及び低架橋密度領域を含む、パターン化されたフィルム物品。
- 前記アクリル接着剤コポリマー中の架橋密度は、前記高架橋密度領域と前記低架橋密度領域との間で少なくとも5%異なる、請求項17に記載のパターン化されたフィルム物品。
- 前記コポリマーは、10℃以下のTgを有するアルキル(メタ)アクリレートモノマーから誘導される重合単位を含む、請求項17に記載の接着物品。
- 前記コポリマーは、4〜20個の炭素原子を有する1つ以上の非環状アルキル(メタ)アクリレートモノマーから誘導される重合単位を含む、請求項17〜19のいずれか一項に記載のパターン化されたフィルム物品。
- 前記コポリマーは、前記高架橋密度領域において、25℃及び1Hzで3×105Paを超える貯蔵弾性率を有する、請求項17〜20のいずれか一項に記載のパターン化されたフィルム物品。
- 前記コポリマーは、前記高架橋密度領域において、感圧性接着剤である、請求項17〜21のいずれか一項に記載のパターン化されたフィルム物品。
- 前記コポリマーは、前記高架橋密度領域において、5秒/インチ2未満の浸潤性を有する、請求項17〜22のいずれか一項に記載のパターン化されたフィルム物品。
- 前記コポリマーは、4〜20個の炭素原子を有する1つ以上のアルキル(メタ)アクリレートモノマーから誘導される重合単位を少なくとも50、60、65、又は70重量%含む、請求項17〜23のいずれか一項に記載のパターン化されたフィルム物品。
- 前記コポリマーは、粘着付与剤、可塑剤、又はこれらの組み合わせを更に含む、請求項17〜24のいずれか一項に記載のパターン化されたフィルム物品。
- 前記コポリマーは、前記コポリマーの前記高架橋密度領域中に0.1〜20重量%の開裂可能な架橋性モノマーを含む、請求項17〜25のいずれか一項に記載のパターン化されたフィルム物品。
- 前記ポリマーは、酸官能性モノマー、非酸官能性極性モノマー、ビニルモノマー、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも1種のモノマーから誘導される重合単位を更に含む、請求項17〜28のいずれか一項に記載のパターン化されたフィルム物品。
- 前記ポリマーは、開裂不可能な架橋剤を更に含む、請求項17〜29のいずれか一項に記載のパターン化されたフィルム物品。
- 高架橋密度領域中の前記コポリマーは、式:
−[Mエステル]a−[M酸]b−[M極性]c−[Mビニル]d−[M不安定]e−[Mx結合]g−のもの
(式中、[Mエステル]は、(メタ)アクリレートエステルモノマー単位を表し、下付き文字aは、その重量パーセントを表し、
[M酸]は、酸官能性モノマー単位を表し、下付き文字bは、その重量パーセントを表し、
[M極性]は、極性モノマー単位を表し、下付き文字cは、その重量パーセントを表し、
[Mビニル]は、ビニルモノマー単位を表し、下付き文字dは、その重量パーセントを表し、
[M不安定]は、式I又はIIの不安定架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字eは、その重量パーセントを表し、
[Mx結合]は、開裂不可能な架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字gは、その重量パーセントを表す)
である、請求項17〜30のいずれか一項に記載のパターン化されたフィルム物品。 - 低架橋密度領域中の前記コポリマーは、式:
−[Mエステル]a−[M酸]b−[M極性]c−[Mビニル]d−[M不安定]e−f−[M残留部]f−−[Mx結合]gのもの
(式中、[Mエステル]は、(メタ)アクリレートエステルモノマー単位を表し、下付き文字aは、その重量パーセントを表し、
[M酸]は、酸官能性モノマー単位を表し、下付き文字bは、その重量パーセントを表し、
[M極性]は、極性モノマー単位を表し、下付き文字cは、その重量パーセントを表し、
[Mビニル]は、ビニルモノマー単位を表し、下付き文字dは、その重量パーセントを表し、
[M不安定]は、式I又はIIの不安定架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字e−fは、残留している前記単位の残りの量の重量パーセントを表し、
[M残留部]は、前記式I又はIIの不安定架橋剤から誘導されるモノマー単位の残留部を表し、fは、その重量パーセントを表し、
[Mx結合]は、開裂不可能な架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字gは、その重量パーセントを表す)
である、請求項17〜31のいずれか一項に記載のパターン化されたフィルム物品。 - 前記アクリル接着剤コポリマーのゲル含量は、前記高架橋密度領域と前記低架橋密度領域との間で少なくとも5%異なる、請求項17〜32のいずれか一項に記載のパターン化されたフィルム物品。
- 前記パターン化されたフィルム物品は、パターン化された接着フィルム物品である、請求項17〜33のいずれか一項に記載のパターン化されたフィルム物品。
- a)事前に選択されたパターン状に光酸発生剤のコーティングを有する基材を準備し、前記パターン化された光酸発生剤を、アクリルコポリマーの層と接触させる工程であって、前記アクリルコポリマーは、式−O−C(R2)(R3)−O−(式中、R2及びR3は独立して、水素、アルキル、又はアリールである)を有する少なくとも1つの基との架橋を有する、工程と、
b)前記コーティングされた基材を照射して、前記光酸発生剤を光分解し、初期酸を放出する工程と、
を含み、前記初期酸が前記コポリマーの前記架橋の開裂を触媒する、パターン化されたフィルム物品の製造方法。 - 前記コポリマーは、10℃以下のTgを有するアルキル(メタ)アクリレートモノマーから誘導される重合単位を含む、請求項35〜37のいずれか一項に記載の方法。
- 前記コポリマーは、4〜20個の炭素原子を有する1つ以上の非環状アルキル(メタ)アクリレートモノマーから誘導される重合単位を含む、請求項35〜38のいずれか一項に記載の方法。
- 前記コポリマーは、4〜20個の炭素原子を有する1つ以上のアルキル(メタ)アクリレートモノマーから誘導される重合単位を少なくとも50、60、65、又は70重量%含む、請求項35〜39のいずれか一項に記載の方法。
- 前記コポリマーの層は、粘着付与剤、可塑剤、又はこれらの組み合わせを含む、請求項35〜40のいずれか一項に記載の方法。
- 前記コポリマーは、0.1〜20重量%の開裂可能な架橋性モノマー単位を含む、請求項35〜41のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記コポリマーの非照射部分は、式:
−[Mエステル]a−[M酸]b−[M極性]c−[Mビニル]d−[M不安定]e−[Mx結合]g−のもの
(式中、[Mエステル]は、(メタ)アクリレートエステルモノマー単位を表し、下付き文字aは、その重量パーセントを表し、
[M酸]は、酸官能性モノマー単位を表し、下付き文字bは、その重量パーセントを表し、
[M極性]は、極性モノマー単位を表し、下付き文字cは、その重量パーセントを表し、
[Mビニル]は、ビニルモノマー単位を表し、下付き文字dは、その重量パーセントを表し、
[M不安定]は、式I又はIIの不安定架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字eは、その重量パーセントを表し、
[Mx結合]は、開裂不可能な架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字gは、その重量パーセントを表す)
である、請求項35〜42のいずれか一項に記載の方法。 - 前記照射されたコポリマーは、式:
−[Mエステル]a−[M酸]b−[M極性]c−[Mビニル]d−[M不安定]e−f−[M残留部]f−[Mx結合]g−のもの
(式中、[Mエステル]は、(メタ)アクリレートエステルモノマー単位を表し、下付き文字aは、その重量パーセントを表し、
[M酸]は、酸官能性モノマー単位を表し、下付き文字bは、その重量パーセントを表し、
[M極性]は、極性モノマー単位を表し、下付き文字cは、その重量パーセントを表し、
[Mビニル]は、ビニルモノマー単位を表し、下付き文字dは、その重量パーセントを表し、
[M不安定]は、式I又はIIの不安定架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字e−fは、残留している不安定架橋単位の残りの量の重量パーセントを表し、
[M残留部]は、前記式I又はIIの不安定架橋剤から誘導されるモノマー単位の残留部を表し、fは、その重量パーセントを表し、
[Mx結合]は、開裂不可能な架橋剤から誘導されるモノマー単位を表し、下付き文字gは、その重量パーセントを表す)
である、請求項35〜43のいずれか一項に記載の方法。 - 前記コポリマーは接着剤コポリマーである、請求項35〜44のいずれか一項に記載の方法。
- a)事前に選択されたパターン状に酸のコーティングを有する基材を準備し、前記パターン化された酸を、アクリル接着剤コポリマーの層と接触させる工程であって、前記アクリル接着剤コポリマーは、式−O−C(R2)(R3)−O−(式中、R2及びR3は独立して、水素、アルキル、又はアリールである)を有する少なくとも1つの基との架橋を有する、工程
を含み、前記酸が、前記接着剤コポリマーの前記架橋の開裂を触媒する、パターン化された物品の製造方法。 - 前記パターン化された物品は、高架橋密度領域及び低架橋密度領域を有する、請求項46に記載の方法。
- a)i.式−O−C(R2)(R3)−O−(式中、R2及びR3は独立して、水素、アルキル、又はアリールである)を有する少なくとも1つの基との架橋を有するアクリル接着剤コポリマー、及び
ii.熱酸発生剤
を含む組成物の層を有する基材を準備する工程と、
b)事前に選択されたパターン状に前記層を加熱して、前記架橋の少なくとも一部を開裂させる工程と、
を含み、前記加熱工程が、前記熱酸発生剤を開裂させ、それにより酸及び前記架橋の一部の開裂を触媒する初期酸を放出する、パターン化されたフィルム物品の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201562233455P | 2015-09-28 | 2015-09-28 | |
US62/233,455 | 2015-09-28 | ||
PCT/US2016/051877 WO2017058528A1 (en) | 2015-09-28 | 2016-09-15 | Patterned film article comprising cleavable crosslinker and methods |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019500432A true JP2019500432A (ja) | 2019-01-10 |
JP2019500432A5 JP2019500432A5 (ja) | 2019-10-24 |
JP6983766B2 JP6983766B2 (ja) | 2021-12-17 |
Family
ID=57137231
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018515529A Active JP6983766B2 (ja) | 2015-09-28 | 2016-09-15 | 開裂可能な架橋剤を含むパターン化されたフィルム物品及び方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10768528B2 (ja) |
EP (1) | EP3356450B1 (ja) |
JP (1) | JP6983766B2 (ja) |
KR (1) | KR20180061217A (ja) |
CN (1) | CN108026291B (ja) |
WO (1) | WO2017058528A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023074169A1 (ja) * | 2021-10-26 | 2023-05-04 | 日産化学株式会社 | プライマー層形成用組成物、積層体、及び積層体の分解方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20230101138A1 (en) * | 2020-02-07 | 2023-03-30 | National Institute For Materials Science | Polymer compound, method for producing polymer compound, adhesive composition, cured product, method for producing adhesive composition, and method for adjusting adhesion force |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000199951A (ja) * | 1998-12-31 | 2000-07-18 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ―ンの形成方法、及び、半導体素子。 |
JP2002296782A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
JP2006003844A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-01-05 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
US20130029057A1 (en) * | 2011-07-29 | 2013-01-31 | Mikhail Laksin | Process for curing a composition by electron beam radiation, and by gas-generated plasma and ultraviolet radiation |
US20140158296A1 (en) * | 2012-12-11 | 2014-06-12 | Adhesives Research, Inc. | Reactive film adhesive |
JP2017519849A (ja) * | 2014-04-24 | 2017-07-20 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 開裂型架橋剤を含む組成物及び方法 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3708296A (en) | 1968-08-20 | 1973-01-02 | American Can Co | Photopolymerization of epoxy monomers |
GB1512981A (en) | 1974-05-02 | 1978-06-01 | Gen Electric | Curable epoxide compositions |
US4250311A (en) | 1974-05-02 | 1981-02-10 | General Electric Company | P, As, and Sb hexafluoride onium salts as photoinitiators |
US4216288A (en) | 1978-09-08 | 1980-08-05 | General Electric Company | Heat curable cationically polymerizable compositions and method of curing same with onium salts and reducing agents |
US4330590A (en) | 1980-02-14 | 1982-05-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photoactive mixture of acrylic monomers and chromophore-substituted halomethyl-2-triazine |
US4771891A (en) | 1986-06-12 | 1988-09-20 | Avery International Corporation | Patterned adhesive label structures |
US5124417A (en) | 1990-02-12 | 1992-06-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Initiators for cationic polymerization |
US5084586A (en) | 1990-02-12 | 1992-01-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Novel initiators for cationic polymerization |
US5506279A (en) | 1993-10-13 | 1996-04-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Acrylamido functional disubstituted acetyl aryl ketone photoinitiators |
WO1996005249A2 (en) | 1994-07-29 | 1996-02-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Acrylic syrup curable to a crosslinked viscoelastomeric material |
US5554664A (en) | 1995-03-06 | 1996-09-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-activatable salts with fluorocarbon anions |
US5976690A (en) | 1995-05-18 | 1999-11-02 | 3M Innovative Properties Company | Opaque adhesives and method therefor |
US5872158A (en) * | 1997-06-12 | 1999-02-16 | International Business Machines Corporation | Cleavable diacrylate for removable acrylate compositions |
US6495229B1 (en) | 1999-09-17 | 2002-12-17 | Avery Dennison Corporation | Pattern coated adhesive article |
KR100557585B1 (ko) | 1999-10-29 | 2006-03-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | 레지스트 플로우 공정용 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 컨택홀의 형성방법 |
US6652970B1 (en) | 2000-07-07 | 2003-11-25 | 3M Innovative Properties Company | Degradable crosslinkers, compositions therefrom, and methods of their preparation and use |
US7108920B1 (en) | 2000-09-15 | 2006-09-19 | Henkel Corporation | Reworkable compositions incorporating episulfide resins |
DE60310030T2 (de) | 2002-01-23 | 2007-06-21 | Contra Vision Ltd., Bramhall | Drucken durch differentialadhäsion |
US20030151118A1 (en) | 2002-02-14 | 2003-08-14 | 3M Innovative Properties Company | Aperture masks for circuit fabrication |
US6821348B2 (en) | 2002-02-14 | 2004-11-23 | 3M Innovative Properties Company | In-line deposition processes for circuit fabrication |
US6897164B2 (en) | 2002-02-14 | 2005-05-24 | 3M Innovative Properties Company | Aperture masks for circuit fabrication |
US20060128165A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-06-15 | 3M Innovative Properties Company | Method for patterning surface modification |
US20060234014A1 (en) | 2005-04-14 | 2006-10-19 | Liu Yaoqi J | Patterned adhesives for tamper evident feature |
JP4548616B2 (ja) | 2006-05-15 | 2010-09-22 | 信越化学工業株式会社 | 熱酸発生剤及びこれを含むレジスト下層膜材料、並びにこのレジスト下層膜材料を用いたパターン形成方法 |
JP2014515714A (ja) | 2011-04-12 | 2014-07-03 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | 再生可能資源に由来する可撓性バリアパッケージング |
-
2016
- 2016-09-15 KR KR1020187009626A patent/KR20180061217A/ko not_active Application Discontinuation
- 2016-09-15 CN CN201680054141.9A patent/CN108026291B/zh active Active
- 2016-09-15 WO PCT/US2016/051877 patent/WO2017058528A1/en active Application Filing
- 2016-09-15 EP EP16781888.9A patent/EP3356450B1/en active Active
- 2016-09-15 JP JP2018515529A patent/JP6983766B2/ja active Active
- 2016-09-15 US US15/745,737 patent/US10768528B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000199951A (ja) * | 1998-12-31 | 2000-07-18 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ―ンの形成方法、及び、半導体素子。 |
JP2002296782A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
JP2006003844A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-01-05 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
US20130029057A1 (en) * | 2011-07-29 | 2013-01-31 | Mikhail Laksin | Process for curing a composition by electron beam radiation, and by gas-generated plasma and ultraviolet radiation |
US20140158296A1 (en) * | 2012-12-11 | 2014-06-12 | Adhesives Research, Inc. | Reactive film adhesive |
JP2017519849A (ja) * | 2014-04-24 | 2017-07-20 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 開裂型架橋剤を含む組成物及び方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023074169A1 (ja) * | 2021-10-26 | 2023-05-04 | 日産化学株式会社 | プライマー層形成用組成物、積層体、及び積層体の分解方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108026291B (zh) | 2021-04-13 |
KR20180061217A (ko) | 2018-06-07 |
CN108026291A (zh) | 2018-05-11 |
US10768528B2 (en) | 2020-09-08 |
US20180231891A1 (en) | 2018-08-16 |
WO2017058528A1 (en) | 2017-04-06 |
EP3356450B1 (en) | 2019-10-23 |
EP3356450A1 (en) | 2018-08-08 |
JP6983766B2 (ja) | 2021-12-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6490100B2 (ja) | 開裂型架橋剤を含む組成物及び方法 | |
RU2620384C2 (ru) | Самоклеящаяся клейкая лента и изделия из нее | |
JP2005511854A (ja) | ホットメルトアクリル感圧接着剤およびその使用 | |
JPH06503848A (ja) | 除去可能な接着テープ | |
KR20150087293A (ko) | 고도로 점착부여된 아크릴레이트 감압 접착제 | |
JP2006299017A (ja) | 紫外線硬化型粘着剤組成物及びそれを用いてなる粘着シート状物 | |
TW201604259A (zh) | 包含矽倍半氧烷聚合物交聯劑之黏著劑組合物、物件及方法 | |
KR20170057311A (ko) | 감압 접착제용 알릴 아크릴레이트 가교결합제 | |
JP2988549B2 (ja) | 両面粘着テープの製造方法 | |
JP6983766B2 (ja) | 開裂可能な架橋剤を含むパターン化されたフィルム物品及び方法 | |
JPH0790229A (ja) | 光重合性組成物、それを用いた接着性テープおよび粘着性テープ | |
JP2001288438A (ja) | 粘着剤組成物 | |
JP3577172B2 (ja) | 難燃性光重合性組成物及びこれを用いた難燃性粘着テープ | |
WO2019166919A1 (en) | Pressure-sensitive adhesive composition, pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive layer, method for preparing pressure-sensitive adhesive, and method for preparing pressure-sensitive adhesive layer | |
JPH10110082A (ja) | 難燃性光重合性組成物及びこれを用いた難燃性粘接着テープもしくはシート | |
JP3091783B2 (ja) | 光重合性接着剤組成物とこれを用いた感圧性接着剤およびその接着シ―ト | |
JPH0625625A (ja) | 両面テープの製造方法 | |
JP2018521154A (ja) | エポキシ官能基及びトリアジン架橋剤を含む(メタ)アクリルポリマーを含む感圧接着剤 | |
JPH09263744A (ja) | アクリル系粘着剤組成物及び粘着テープ | |
JP3154739B2 (ja) | 光重合性接着剤組成物とこれを用いた感圧性接着剤およびその接着シ―ト類 | |
JP2000303046A (ja) | ポリエステルフイルム接着用のアクリル系感圧性接着剤組成物とその接着シ―ト類 | |
JPH093413A (ja) | アクリル系粘着シート | |
JP2010070609A (ja) | 貼り直しが容易な粘着テープ | |
JP2002194312A (ja) | 粘着剤及びそれを用いた粘着シート | |
JP3282857B2 (ja) | 光重合性接着剤組成物とこれを用いた感圧性接着剤およびその接着シ―ト類 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20190617 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20190624 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190911 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190911 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200716 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200804 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20201104 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210713 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211011 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211026 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211124 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6983766 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |