JP2019219496A - 電子写真感光体の検査方法および製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】電子写真感光体の中間層の凹凸欠陥を識別する検査方法を提供する。【解決手段】支持体、中間層、および感光層をこの順に有する円筒形の電子写真感光体をその軸周りに回転させる支持手段と、その軸方向に沿う検査光を照射する手段と、該電子写真感光体の中間層からの反射光分布を取得する撮像手段とを備えた検査機構において、該検査光の波長が９００ｎｍ以上であり、該検査光が被検査物の法線に対し３１°＜θ１°＜６４°の角度で入射した際の、該撮像手段の反射光の被検査物の法線に対する受光角度θ２が、θ１＋１［°］＜θ２＜θ１＋２［°］であり、該検査機構により中間層の凹凸欠陥を判別することを特徴とする。【選択図】図１

Description

本発明は、電子写真感光体の凹凸欠陥の検査方法および製造方法に関する。

電子写真感光体の感光層としては、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とを積層してなる積層型感光層が主流である。積層型感光層は、高感度及び材料設計の多様性などの利点を有している。

電荷発生層と支持体の間には、一般に中間層が設けられる。中間層の役割は、支持体と感光層の密着性向上および支持体側から感光層側への電荷注入を抑制するところが大きいが、支持体表面の欠陥の隠ぺいや干渉縞抑制を目的として設けられることもある。

ところが支持体表面の欠陥の状態によっては、中間層では十分に隠ぺいできず、中間層表面に局所的に凹凸形状が形成されることがある。この凹凸欠陥は、感光体の電子写真画像上の黒点や白点等の画像不良をもたらすだけでなく、絶縁破壊の原因となり得るため、製造上、良品と識別して取り除く必要がある。

凹凸形状の検査としては、代表的なものとして目視による検査や、光学的な検査（特許文献１〜２参照）、電気的な検査（特許文献３参照）が提案されてきた。

光学的な検査は、白色光を感光体に照射し、その反射光の撮像から感光体面内の色濃度の変化が大きい領域を欠陥として判定する方法である。中間層表面に凹凸欠陥が存在すると、電荷発生層の塗布時、顔料が凹凸欠陥の周囲に凝集する。この凝集による欠陥周囲の色濃度変化から光学的に判定することができるというものである。しかしこの方法では、画像に影響のないレベルの電荷発生物質の凝集塊による色濃度変化と、画像に影響を与える中間層凹凸欠陥起因の色濃度変化を十分に見分けることができず、良品までも取り除いてしまう課題があった。

また、感光体表面に電圧を印加し、欠陥部に流れる過大電流や欠陥の有無による電流変化から欠陥の有無を評価する方法も提案されている（特許文献３参照）。この方法は、支持体表面の欠陥がある程度大きい場合は有効だが、欠陥のサイズが小さい場合の電流変化は十分なＳＮ比で得ることが困難なため、十分な精度で良品を識別することができなかった。

特開平６−１３７８４４号公報 特開平１１−１１８４４９号公報 特公平２−４３１３４号公報

以上、電子写真感光体（以下、「感光体」ともいう。）の中間層の凹凸欠陥の検査方法としては様々な検査方法が検討されている。しかしながら、本発明者らの検討によれば、上記従来の検査方法では中間層の凹凸欠陥を十分に識別できているとは言えず、凹凸欠陥自体を撮像する検査方法が求められていた。

本発明の目的は、積層型感光体、あるいは製造途中の感光体にも有効な中間層の凹凸欠陥形状を十分に高い精度で識別する電子写真感光体の検査方法、および該検査方法を用いた電子写真感光体の製造方法を提供することにある。

本発明は、一態様では、
支持体、中間層、および、感光層をこの順に有する電子写真感光体の検査方法であって、該検査方法が、円筒形の該電子写真感光体をその軸周りに回転させる支持手段と、その軸方向に沿う検査光を照射する手段と、該電子写真感光体の中間層からの反射光分布を取得する撮像手段とを備えた検査機構により、該中間層の凹凸欠陥を判別する方法であり、該検査機構において、該検査光の波長が９００ｎｍ以上であり、該検査光が被検査物の法線に対し３１°＜θ１°＜６４°の角度で入射した際の、該撮像手段の反射光の被検査物の法線に対する受光角度θ２が、θ１＋１［°］＜θ２＜θ１＋２［°］であることを特徴とする電子写真感光体の検査方法を提供することにある。

また別の様態によれば、
電子写真感光体に供される円筒体の検査方法であって、該検査方法が、円筒体を軸周りに回転させる支持手段と、その軸方向に沿う検査光を照射する照射手段と、該円筒体の反射光分布を取得する撮像手段とを備えた検査機構により、検査対象層の凹凸欠陥を判別する方法であり、該検査機構において、検査光が被検査物の法線に対し３１°＜θ１°＜６４°の角度で入射した際の、該撮像手段の反射光の被検査物の法線に対する受光角度θ２が、θ１＋１［°］＜θ２＜θ１＋２［°］であることを特徴とする電子写真感光体の検査方法を提供することにある。

本発明によれば、積層型感光体中の中間層の凹凸欠陥形状を精度よく判別でき、非積層型感光体であっても、凹凸欠陥を精度よく判別可能な電子写真感光体の検査方法、および該検査方法を用いた電子写真感光体の製造方法を提供できる。

電子写真感光体の検査装置の概念的側面図を示す図である。 被検査物の電子写真感光体の断面の一例を示す図である。

本発明は、支持体、中間層、および感光層をこの順に有する電子写真感光体の検査方法であって、該検査方法が、円筒形の該電子写真感光体をその軸周りに回転させる支持手段と、その軸方向に沿う検査光を照射する手段と、該電子写真感光体の中間層からの反射光分布を取得する撮像手段とを備えた検査機構により、該中間層の凹凸欠陥を判別する方法であり、該検査機構において、該検査光の波長が９００ｎｍ以上であり、該検査光が被検査物の法線に対し３１°＜θ１°＜６４°の角度で入射した際の、該撮像手段の反射光の被検査物の法線に対する受光角度θ２が、θ１＋１［°］＜θ２＜θ１＋２［°］であることを特徴とする電子写真感光体の検査方法、に関する。

さらに、本発明は、前記中間層の検査光波長における正反射率が８０％以上であることを特徴とする上記に記載の検査方法、に関する。

さらに、本発明は、前記感光層における電荷発生層が該検査光の波長域に吸収帯域を持たないことを特徴とする電子写真感光体を対象とした上記に記載の検査方法、に関する。

さらにまた、本発明は、前記検査方法がさらに前記凹凸欠陥を判別できる画像処理手段を備えており、該画像処理手段が、撮像範囲の欠陥候補領域を抽出する抽出手段と、欠陥候補領域の射影プロファイルを抽出し、累積化したプロファイルの対称性の相関係数を得る手段によって中間層の形状から欠陥を判別する機能を備えた画像処理手段であることを特徴とする上記に記載の検査方法、に関する。

さらに、本発明は、支持体、中間層、および感光層をこの順に有する円筒形の該電子写真感光体をその軸周りに回転させる支持手段と、その軸方向に沿う検査光を照射する手段と、該電子写真感光体の中間層からの反射光分布を取得する撮像手段とを備えた検査機構、該検査機構において、該検査光の波長が９００ｎｍ以上であり、該検査光が被検査物の法線に対し３１°＜θ１°＜６４°の角度で入射した際の、該撮像手段の反射光の被検査物の法線に対する受光角度θ２が、θ１＋１［°］＜θ２＜θ１＋２［°］であることを特徴とする該中間層の凹凸欠陥を判別する電子写真感光体の検査方法、を用いた電子写真感光体の製造方法、に関する。

さらにまた、本発明は、電子写真感光体に供される円筒体の検査方法であって、該検査方法が、円筒体を軸周りに回転させる支持手段と、その軸方向に沿う検査光を照射する照射手段と、該円筒体の反射光分布を取得する撮像手段とを備えた検査機構により、検査対象層の凹凸欠陥を判別する方法であり、該検査機構において、検査光が被検査物の法線に対し３１°＜θ１°＜６４°の角度で入射した際の、該撮像手段の反射光の被検査物の法線に対する受光角度θ２が、θ１＋１［°］＜θ２＜θ１＋２［°］であることを特徴とする円筒体の検査方法、に関する。

さらに、本発明は、前記検査対象層の検査光波長における正反射率が８０％以上であることを特徴とする上記に記載の検査方法、に関する。

（検査方法）
本発明の検査方法は、
電荷発生層を透過する波長域の検査光として用い、かつ受光角を、正反射光よりもやや拡散光を拾う領域に設定することにより、電荷発生層の濃度ムラを拾うことなく、精度よく中間層の凹凸形状分布を取得できるというものである。

入射光は、検査物である感光体の法線に対し３１°＜θ１°＜６４°の角度で入射する必要がある。３１°よりも浅い角度だと、表面層からの反射光が強くなる一方で内部層への透過光が減少するため、凹凸欠陥の判定に十分な反射光量が得られない。また、６４°よりも深い角度だと、欠陥の凹凸形状の陰影のコントラストが低く、凹凸欠陥を判別することができない。また、反射光は、法線に対する受光角度θ２が、θ１＋１［°］＜θ２＜θ１＋２［°］つまり正反射光からやや拡散よりの反射光を拾う領域である必要がある。この角度を設定することによって、中間層の凹凸欠陥をより鮮明に撮像することができる。この角度よりも拡散よりの角度では、受光光量が少なく、十分なＳ／Ｎ比で凹凸欠陥を判定することができない。

また、検査光波長における±２°範囲の反射率が７０％以上、より好ましくは８０％以上を有する中間層であることが望ましい。反射率が７０％以下であっても、前述の角度範囲内で入射・受光角を定めれば中間層の凹凸欠陥は判別可能だが、受光光量が少なくなるために反射撮像のＳ／Ｎ比が低くなる場合がある。

積層型感光体の場合、電荷発生層の吸収域と検査光波長域は、重複していないことが望ましい。重複していた場合であっても、電荷発生層を透過する光の量が多ければ十分な測定は可能であるが、検査光波長域を外すことで、電荷発生層の濃度ムラを分離することができる。

積層型感光体に照射する場合、照射波長は９００ｎｍ以上であることが望ましい。この波長域は感光体にフォトメモリ等の弊害を与えない点、前述の通り電荷発生層の吸収帯域、特に汎用電荷発生材料として用いられるフタロシアニン系顔料の吸収帯域を外す波長域である点で有用である。

照射光源は、ＬＥＤや、キセノン、水銀・キセノン等のランプを用い、単色光源でない場合は適切な波長フィルターを挟むことにより所望の波長域の光を得るとよい。上記波長域の放射輝度が最も強ければそれ以外の波長域の光は存在していてもよいが、前述のように感光体にダメージを与える波長の光、たとえば紫外域の光は除いた領域が選択されることが好ましい。

反射光の撮像装置は、光電変換素子からなる受光手段であり、例えばラインセンサ型ＣＣＤカメラや光電子倍増管（フォトマル）が挙げられる。必要に応じて、上記波長領域を取り込むことができればよく、それ以外の波長域を含んでも良い。

凹凸欠陥を前記の入射・受光角度で観察した場合、一方で凸欠陥ならば入射光側の山の輝度が高く、受光側の山の輝度が低い反射光分布が得られる。他方で凹欠陥ならば、入射光側の谷の輝度が低く、受光側の谷の輝度が高くなる。このように、ある角度で撮像した凹凸欠陥の反射光分布は、輝度が高い領域と低い領域が明確に分かれた分布となるのである。凹凸欠陥が正円錐型であるようなケースではより輝度の高低領域が対照的な分布となる。また、中間層の凹凸欠陥の中でも、支持体表面の欠陥が中間層に飛び出た場合、各正円錐型の凹凸形状が得られる場合が多い。この凹凸欠陥の輝度分布の特徴的な形は人間の目で識別することができるが、検査上の安定性・定量性を踏まえ、画像処理で人の目に頼らず機械的に判別する手法を例として以下に説明する。

まず、背景ノイズおよび、感光体回転の偏心によって生じる撮像面内の大域的な陰影を除去する目的で平滑化処理を行う。具体的な例としては、背景ノイズの除去を目的として小平滑フィルターを用い平滑化した画像と、面内の大域的なグラデーション情報のみを残す目的で大平滑フィルターにて平滑化した画像の差分を得ることで、小平滑画像から大域的なグラデーションを除去した画像を得る。平滑化のフィルターは、移動平均フィルター、メディアンフィルター、ガウシアンフィルターなど、処理後の画像ノイズ除去状態を確認しながら適時選択するとよい。

次に、判定対象とする欠陥候補の外接矩形を得る方法の例を説明する。まず、平滑化処理を行った画像に対し二値化処理を行い、白側閾値よりも輝度の高い画素、黒側閾値よりも輝度が低い画素を抽出する。これにより、凹凸欠陥のような輝度の高低が対称的な欠陥を抽出することができる。次に、カーネル内の最大値を注目画素の値と置き換える膨張処理を行い、凹凸欠陥の画素を一つの塊とする。面内の微小点の除去を目的とし縮小処理を行った後、再度膨張処理を行い、得られた白画素の塊の外接矩形を得る。

このように抽出した欠陥候補領域に対し、感光体母線方向の射影プロファイルを得た後、累積したプロファイルの対称性の相関係数を得る。凹凸欠陥のように、輝度の明暗の画素域が対称的に分かれているものは、対称性が高い。一方で、その他の欠陥、たとえば電荷発生顔料の凝集、中間層表面に付着したゴミ・ほこりによる陰影のパターンは非対称であるため、一連の処理によって凹凸欠陥と区別することができる。

次に、本発明の検査工程について詳細を説明する。
まず、図１に、本発明の検査工程において検査される感光体１ならびに検査に用いられる光源２および受光手段３の概略図の一例を示す。
感光体１を矢印の方向に回転させながら、光源２から感光体１の法線に対しθ１の入射角で光を照射する。照射する光は、波長が９００ｎｍ以上の光である。感光体１の法線に対しθ２の角度の位置に受光手段３を設け、不図示の撮像手段により反射光分布を得る。

図２に示したのは、本発明において検査対象とする被検査物の一例としての感光体１であり、支持体２１上に、中間層２２とその直上に第二中間層２３、電荷発生層２４、表面層２５の順で積層された断面を図示したものである。中間層に凸欠陥２６があると、その上層の電荷発生層２４に濃度ムラが現れる。

〔支持体〕
支持体としては、導電性を有するもの（導電性支持体）が好ましい。例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金などの金属又は合金製の支持体を用いることができる。ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ガラスなどの絶縁性支持体上にアルミニウム、クロム、銀、金などの金属の薄膜を形成した支持体が挙げられる。

〔中間層〕
支持体上には、中間層が設けられる。
中間層は、導電性を付与する目的で金属酸化物粒子を含有する。中間層は、溶剤、結着樹脂などを用いて金属酸化物粒子を含有する中間層用塗布液を支持体上に塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を乾燥及び／又は硬化させることによって形成することができる。

分散方法としては、例えば、ペイントシェーカー、サンドミル、ボールミル、液衝突型高速分散機を用いた方法が挙げられる。

結着樹脂としては、フェノール樹脂、ウレタン樹脂またはアミノ樹脂が挙げられる。中間層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコールや、アセトン、メチルエチルケトン、シクロへキサノンなどのケトンや、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテルや、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステルや、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素が挙げられる。

また、中間層の表面で反射した光が干渉して出力画像に干渉縞が発生することを抑制するため、中間層用塗布液には、中間層の表面を粗面化するための表面粗し付与材を含有させてもよい。表面粗し付与材としては、平均粒径が１μｍ以上５μｍ以下の樹脂粒子が好ましい。樹脂粒子としては、例えば、硬化性ゴム、ポリウレタン、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル、シリコーン樹脂、アクリル−メラミン樹脂などの硬化性樹脂の粒子が挙げられる。これらの中でも、凝集しにくいシリコーン樹脂の粒子が好ましい。また、中間層用塗布液には、中間層の表面性を高めるためのレベリング剤を含有させてもよい。また、中間層用塗布液には、中間層の隠蔽性をより向上させるため、顔料粒子を含有させてもよい。

金属酸化物粒子と結着樹脂の質量比率は５／１〜０．５／１が好ましく、より好ましくは３／１〜１／１の比率が好ましい。

また、中間層の膜厚は２〜４０μｍ、好ましくは１０〜３０μｍとするのが適当である。

中間層の基準長さ０．８ｍｍでの十点平均粗さＲｚｊｉｓは、０．５μｍ以上２．５μｍ以下であることが耐リーク性という観点で好ましい。

〔第二中間層〕
中間層上には、さらに第二中間層を設けてもよい。逆に、前記の中間層を抜いたうえで、第二中間層のみを塗布してもよい。

第二中間層は、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアクリル酸類、メチルセルロース、エチルセルロース、ポリグルタミン酸、カゼイン、でんぷんなどの水溶性樹脂や、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド酸、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリグルタミン酸エステル、などから構成される。

また第二中間層は、有機電子輸送物質を含有してもよく、有機電子輸送物質としては、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物などが挙げられる。有機電子輸送物質は、電荷発生層への溶出を抑制するため、重合物に組み込まれていることが好ましいため、重合性官能基を有する電子輸送物質であることが好ましい。重合性官能基としては、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、又はメトキシ基が挙げられる。以下に、電子輸送物質の具体例として、下記式（Ａ１）〜（Ａ１１）のいずれかで示される化合物を示す。

式（Ａ１）〜（Ａ１１）中、Ｒ^１１〜Ｒ^１６、Ｒ^２１〜Ｒ^３０、Ｒ^３１〜Ｒ^３８、Ｒ^４１〜Ｒ^４８、Ｒ^５１〜Ｒ^６０、Ｒ^６１〜Ｒ^６６、Ｒ^７１〜Ｒ^７８、Ｒ^８１〜Ｒ^９０、Ｒ^９１〜Ｒ^９８は、Ｒ^１０１〜Ｒ^１１０は、Ｒ^１１１〜Ｒ^１２０は、それぞれ独立に、下記式（Ａ）で示される１価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換の複素環を示す。アルキル基の主鎖中のＣＨ_２の１つがＯ、Ｓ、ＮＨ又はＮＲ^１２１（Ｒ^１２１はアルキル基）で置き換わっていても良い。Ｒ^１１〜Ｒ^１６の少なくとも１つ、Ｒ^２１〜Ｒ^３０の少なくとも１つ、Ｒ^３１〜Ｒ^３８の少なくとも１つ、Ｒ^４１〜Ｒ^４８の少なくとも１つ、Ｒ^５１〜Ｒ^６０の少なくとも１つ、Ｒ^６１〜Ｒ^６６の少なくとも１つ、Ｒ^７１〜Ｒ^７８の少なくとも１つ、Ｒ^８１〜Ｒ^９０の少なくとも１つ、Ｒ^９１〜Ｒ^９８の少なくとも１つ、Ｒ^１０１〜Ｒ^１１０の少なくとも１つ、Ｒ^１１１〜Ｒ^１２０の少なくとも１つは、式（Ａ）で示される１価の基を有する。

置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基である。置換のアリール基の置換基、置換の複素環基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基である。Ｚ^２１、Ｚ^３１、Ｚ^４１及びＺ^５１は、それぞれ独立に、炭素原子、窒素原子、又は酸素原子を示す。Ｚ^２１が酸素原子である場合はＲ^２９及びＲ^３０は存在せず、Ｚ^２１が窒素原子である場合はＲ^３０は存在しない。Ｚ^３１が酸素原子である場合はＲ^３７及びＲ^３８は存在せず、Ｚ^３１が窒素原子である場合はＲ^３８は存在しない。Ｚ^４１が酸素原子である場合はＲ^４７及びＲ^４８は存在せず、Ｚ^４１が窒素原子である場合はＲ^４８は存在しない。Ｚ^５１が酸素原子である場合はＲ^５９及びＲ^６０は存在せず、Ｚ^５１が窒素原子である場合はＲ^６０は存在しない。

式（Ａ）中、α、β、及びγの少なくとも１つは置換基を有する基であり、置換基は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも１種の基である。ｌ及びｍは、それぞれ独立に、０又は１であり、ｌとｍの和は、０以上２以下である。

αは、主鎖の原子数が１〜６のアルキレン基、炭素数１〜６のアルキル基で置換された主鎖の原子数が１〜６のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数１〜６のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数１〜６のアルキレン基、又はフェニル基で置換された主鎖の原子数が１〜６のアルキレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも１種の基を有しても良い。アルキレン基の主鎖中のＣＨ_２の１つは、Ｏ、Ｓ、ＮＲ^１２２（式中、Ｒ^１２２は、水素原子、又はアルキル基を示す。）で置き換わっても良い。

βは、フェニレン基、炭素数１〜６のアルキル置換フェニレン基、ニトロ置換フェニレン基、ハロゲン基置換フェニレン基、又はアルコキシ基置換フェニレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも１種の基を有しても良い。

γは、水素原子、主鎖の原子数が１〜６のアルキル基、又は炭素数１〜６のアルキル基で置換された主鎖の原子数が１〜６のアルキル基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも１種の基を有しても良い。アルキル基の主鎖中のＣＨ_２の１つは、Ｏ又はＳ又はＮＲ^１２３（式中、Ｒ^１２３は、水素原子又はアルキル基を示す。）で置き換わっていても良い。

式（Ａ）で表される基の具体例としては、式（Ａ１０１）で示される構造式、

または式（Ａ１０２）で示される構造式などが挙げられる。

本発明では、より好ましくは、第二中間層が有機電子輸送物質を含有する重合物の組成物であることが、乱反射が抑制され、反射光の強度が高くなるため、検査の精度が向上する。
また第二中間層は必要に応じて、金属酸化物を含有しても良い。

〔電荷発生層〕
中間層上（第二中間層が存在する場合には第二中間層上）には、電荷発生層が形成される。

本発明に用いられる電荷発生物質としては、検査工程に用いられる光の波長を吸収する特性を有するものが用いられる。具体的には、アゾ顔料、フタロシアニン顔料、インジゴ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、スクワリリウム色素、チアピリリウム塩、トリフェニルメタン色素、キナクリドン顔料や、アズレニウム塩顔料、シアニン染料、アントアントロン顔料、ピラントロン顔料、キサンテン色素、キノンイミン色素、スチリル色素などが挙げられる。これら電荷発生物質は１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。これら電荷発生物質の中でも、感度の観点から、フタロシアニン顔料やアゾ顔料が好ましく、特にはフタロシアニン顔料がより好ましい。

フタロシアニン顔料の中でも、特にオキシチタニウムフタロシアニンあるいはクロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが優れた電荷発生効率を示す。さらに、ヒドロキシガリウムフタロシアニンの中でも、感度の観点から、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角２θが７．４°±０．３°および２８．２°±０．３°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶がより好ましい。

電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、アクリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、スチレン−ブタジエンコポリマー、ブチラール樹脂、ベンザール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリルエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリプロピレン樹脂、メタクリル樹脂、ユリア樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂が挙げられる。これらの中でも、特には、ブチラール樹脂が好ましい。これらは、単独、混合または共重合体として１種または２種以上用いることができる。

電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂および溶剤とともに分散処理して得られる電荷発生層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。また、電荷発生層は、電荷発生物質の蒸着膜としてもよい。

分散方法としては、ホモジナイザー、超音波分散機、ボールミル、サンドミル、ロールミル、振動ミル、アトライター、液衝突型高速分散機を用いた方法が挙げられる。
電荷発生物質と結着樹脂との割合は、結着樹脂１質量部に対して電荷発生物質が０．３質量部以上１０質量部以下であることがより好ましい。

電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、脂肪族ハロゲン化炭化水素系溶剤、芳香族化合物などが挙げられる。電荷発生層の膜厚は、０．０１μｍ以上５μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。また、電荷発生層には、種々の増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤を必要に応じて添加することもできる。

〔表面層〕
電荷発生層上には、表面層が形成される。表面層は電荷輸送物質と樹脂を含有する。

本発明で用いられる電荷輸送物質としては、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物、ブタジエン化合物などが挙げられる。これら電荷輸送物質は、１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。これらの中でも、電荷の移動度の観点から、トリアリールアミン化合物が好ましい。

積層型感光層である場合、表面層に用いられる結着樹脂としては、アクリル樹脂、アクリロニトリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリルエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリプロピレン樹脂、メタクリル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂が好ましい。これらは、単独、混合または共重合体として１種または２種以上用いることができる。

表面層は、電荷輸送物質と結着樹脂を溶剤に溶解させて得られる表面層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。表面層における電荷輸送物質と結着樹脂との割合は、結着樹脂１質量部に対して電荷輸送物質が０．３質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。また、表面層のクラックを抑制する観点から、乾燥温度は６０℃以上１５０℃以下が好ましく、８０℃以上１２０℃以下がより好ましい。また、乾燥時間は１０分以上６０分以下が好ましい。

表面層用塗布液に用いられる溶剤としては、プロパノールやブタノールなどのアルコール系溶剤（特に炭素原子数３以上のアルコール）、アニソール、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサンなどが挙げられる。

本発明において、被検査物が電子写真感光体の場合、第二中間層まで入る光を強くしたいため、照射する光に対して、表面層の透過率が９７％以上であることが反射光の強度差が高くなり好ましい。

本発明において、表面層の膜厚ムラや膜厚が異なっていても、第二中間層の膜厚ムラや膜残りは精度よく判定できる。

電子写真感光体の表面層が１層である場合、その表面層の膜厚は５μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、透過性という観点で、８μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましい。

表面層を積層構成とした場合、支持体側の層の膜厚は、５μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、表面側の層の膜厚は、１μｍ以上８μｍ以下であることが好ましい。
積層構成とした場合の透過率は、すべての層の透過率が９７％以上であることが好ましい。

また、表面層には、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを必要に応じて添加することもできる。

また、電子写真感光体の表面層には、シリコーンオイル、ワックス、ポリテトラフルオロエチレン粒子などのフッ素原子含有樹脂粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ホウ素などの潤滑剤を含有させてもよい。

上記各層の塗布液を塗布する際には、例えば、浸漬塗布法（浸漬コーティング法）、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ローラーコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法などの塗布方法を用いることができる。

以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。

（感光体作製例１）
長さ２６０．５ｍｍ、直径３０ｍｍのアルミニウムシリンダー（ＪＩＳ−Ａ３００３、アルミニウム合金）を支持体（導電性支持体）とした。

中間層：金属酸化物粒子としての酸素欠損型酸化スズ（ＳｎＯ_２）が被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ_２）粒子（個数平均一次粒子径２００ｎｍ）２１４部、結着樹脂としてのフェノール樹脂（商品名：プライオーフェンＪ−３２５。）１３２部、及び、
メタノール４０部、１−メトキシ−２−プロパノール５８部を、
直径０．８ｍｍのガラスビーズ４５０部を用いたサンドミルに入れ、回転数：２０００ｒｐｍ、分散処理時間：４．５時間、冷却水の設定温度：１８℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。この分散液からメッシュ（目開き：１５０μｍ）でガラスビーズを取り除いた。ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して０．０１質量％になるように、レベリング剤としてのシリコーンオイル（東レダウコーニング社製、ＳＨ２８ＰＡ）及び１５質量％になるように、シリコーン樹脂粒子（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、トスパール１２０）を分散液に添加した。この分散液を撹拌することによって、中間層用塗布液を調製した。この中間層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を６０分間１６０℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が３０．２μｍの第一中間層を形成した。また、ゴニオメータを用い測定した１〜２°範囲の反射率は、９５％であった。

次に、以下の方法で第一中間層上に第二中間層を形成した。
Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス（株）（旧・帝国化学産業（株））製）４．５部および共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ（株）製）１．５部を、メタノール６５部／ｎ−ブタノール３０部の混合溶剤に溶解させることによって、第二中間層用塗布液を調製した。この第二中間層用塗布液を第一中間層上に浸漬塗布し、これを６分間７０℃で乾燥させることによって、膜厚が０．４μｍの第二中間層を形成した。

電荷発生層：
ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶（電荷発生物質、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°及び２８．３°にピークを有する。）１０部、
ポリアセタール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業（株）製）５部及び
シクロヘキサノン２５０部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、１．５時間分散処理した。次に、これに酢酸エチル２５０部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。電荷発生層用塗布液を、第二中間層及び露出した第一中間層面上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。

表面層：
電荷輸送物質として下記式（４）で示されるアミン化合物７部と、
式（５）と式（６）で示される構造単位を有し、式（５）と（６）のモル比率が５／５である重量平均分子量が１２０，０００であるポリエステル樹脂１０部を、
ジメトキシメタン５０部とＯ−キシレン５０部の混合溶剤に溶解させ、さらに、シリカ微粒子（信越化学（株）製ＫＭＰＸ−１００：平均一次粒径０．１μｍ）を固形分に対して、２質量％添加し、撹拌することによって、表面層用塗布液を調製した。この表面層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を２０分間１２０℃で乾燥させることによって、膜厚が２０μｍの電荷輸送層としての表面層を形成した。

（感光体作製例２）
感光体作製例１において、第一中間層を以下の通り変更した以外は感光体作製例１と同様に感光体を作製した。
導電性粒子としての、リン（Ｐ）がドープされている酸化スズ（ＳｎＯ_２）で被覆されている酸化チタン粒子（ＴｉＯ_２）粒子２０７部、結着材料としてのフェノール樹脂（商品名：プライオーフェンＪ−３２５）１４４部、および、溶剤としての１−メトキシ−２−プロパノール９８部を、直径０．８ｍｍのガラスビーズ４５０部を用いたサンドミルに入れ、回転数：２０００ｒｐｍ、分散処理時間：４．５時間、冷却水の設定温度：１８℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。
この分散液からメッシュ（目開き：１５０μｍ）でガラスビーズを取り除いた。ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して１５質量％になるように、シリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール１２０）を分散液に添加した。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して０．０１質量％になるように、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ）を分散液に添加して撹拌することによって、中間層用塗布液を調製した。この中間層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を３０分間１５０℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が３０μｍの中間層を形成した。また、ゴニオメータを用い測定した１〜２°範囲の反射率は、８８％であった。

（感光体作製例３）
感光体作製例１において、第一中間層を以下の通り変更した以外は感光体作製例１と同様に感光体を作製した。
酸化スズで被覆した硫酸バリウム粒子（商品名：パストランＰＣ１、三井金属鉱業（株）製）６０部、酸化チタン粒子（商品名：ＴＩＴＡＮＩＸ ＪＲ、テイカ（株）製）１５部、レゾール型フェノール樹脂（商品名：フェノライト Ｊ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、固形分７０質量％）４３部、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レシリコーン（株）製）０．０１５部、シリコーン樹脂（商品名：トスパール１２０、東芝シリコーン（株）製）３．６部、２−メトキシ−１−プロパノール ５０部、メタノール ５０部からなる溶液を２０時間、ボールミルで分散処理することによって、中間層用塗布液を調製した。この中間層用塗布液を、支持体としてのアルミニウムシリンダー（直径２４ｍｍ、導電性支持体）上に浸漬塗布し、得られた塗膜を３０分間１４０℃で乾燥させることによって、膜厚が１５μｍの中間層を形成した。また、ゴニオメータを用い測定した１〜２°範囲の反射率は、９０％であった。

（感光体作製例４）
感光体作製例１において、第一中間層を以下の通り変更し、第二中間層を塗布しなかった以外は感光体作製例１と同様に感光体を作製した。
酸化亜鉛粒子（平均一次粒子径：５０ｎｍ、比表面積：１９ｍ^２／ｇ、粉体抵抗：１．０×１０^７Ω・ｃｍ、テイカ（株）製）１００部をトルエン５００部に撹拌しながら混合した。これに表面処理剤としてＮ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学（株）製）０．７５部を添加し、２時間攪拌しながら混合した。その後、トルエンを減圧留去して、３時間１２０℃で乾燥させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子を得た。
酸化チタン粒子（商品名：ＪＲ−４０５、平均一次粒子径：２１０ｎｍ、テイカ（株）製）１００部をトルエン５００部に撹拌しながら混合した。これに表面処理剤としてＮ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学（株）製）０．７５部を添加し、２時間攪拌しながら混合した。その後、トルエンを減圧留去して、３時間１２０℃で乾燥させることによって、表面処理された酸化チタン粒子を得た。
前記表面処理された酸化亜鉛粒子１００部、前記表面処理された酸化チタン１２部、式（８）で示されるブロック化されたイソシアネート化合物（商品名：スミジュール３１７５、固形分：７５質量％、住友バイエルウレタン社製）３０部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−１、積水化学工業（株）製）１５部、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン（東京化成工業（株）製）１部を、メチルエチルケトン７０部とシクロヘキサノン７０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液に、平均粒径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて２３℃雰囲気下、回転数１，５００ｒｐｍで３時間分散処理した。分散処理後、得られた分散液に架橋ポリメタクリル酸メチル粒子（商品名：ＳＳＸ−１０３、平均粒径：３μｍ、積水化学工業（株）製）７部と、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング（株）製）０．０１部を添加して攪拌することで、中間層用塗布液を調製した。この中間層用塗布液を支持体上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を２０分間１７０℃で乾燥させることによって、膜厚が３０μｍの中間層を形成した。

また、ゴニオメータを用い測定した１〜２°範囲の反射率は、８５％であった。

（感光体作製例５）
感光体作製例１において、電荷発生層を以下の通り変更した以外は感光体作製例１と同様に感光体を作製した。
ＣｕＫα線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角２θ±０．２°の７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．４°にピークを有するクロロガリウムフタロシアニン顔料３０部、ポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業製）１０部、シクロヘキサノン２５３部、直径０．９ｍｍのガラスビーズ３５４部を冷却水温度１８℃下で４時間、サンドミル（Ｋ−８００、五十嵐機械製造（現アイメックス）製、ディスク径７０ｍｍ、ディスク枚数５枚）を用いて分散処理した。この際、ディスクが１分間に１，８００回転する条件で行った。この分散液にシクロヘキサノン５９２部及び酢酸エチル８４５部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を上述の第二中間層及び露出した第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を１００℃で１０分間加熱乾燥させることにより、膜厚が１５０ｎｍの電荷発生層を形成した。

（感光体作製例６）
感光体作製例１において、電荷発生層を以下の通り変更した以外は感光体作製例１と同様に感光体を作製した。

ＣｕＫα線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角２θの２７．２°±０．２°にピークを有するチタニルフタロシアニン顔料１２部、ポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業製）１０部、シクロヘキサノン１３９部、直径０．９ｍｍのガラスビーズ３５４部を冷却水温度１８℃下で４時間、サンドミル（Ｋ−８００、五十嵐機械製造（現アイメックス）製、ディスク径７０ｍｍ、ディスク枚数５枚）を用いて分散処理した。この際、ディスクが１分間に１，８００回転する条件で行った。この分散液にシクロヘキサノン３２６部及び酢酸エチル４６５部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を上述の第二中間層及び露出した第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、塗膜を１００℃で１０分間加熱乾燥させることにより、膜厚が１５０ｎｍの電荷発生層を形成した。

以上のような方法で作製した感光体１〜６について、以下に示す方法で各感光体あたり３種類の欠陥を有する電子写真感光体を作製した。

（欠陥作製例１−Ａ）
感光体作製例１において、中間層の乾燥前に中間層の塗料塊を表面に付着させた以外は感光体作製例１と同様にして感光体を作製した。中間層の乾燥後にレーザー顕微鏡ＶＫ−９５００（キーエンス製）で表面の凸高さを観察すると、３．４μｍ、長軸長さが７９．１μｍだった。

（欠陥作製例１−Ｂ）
感光体作製例１において、中間層の乾燥後、センター・ポンチ先端（Φ１）を１０Ｎで中間層に押し付け、凹部を作製した以外は感光体作製例１と同様にして感光体を作製した。中間層加工後にレーザー顕微鏡で表面の凹深さを観察すると、７．４μｍ、長軸長さが１０２．０μｍだった。

（欠陥作製例１−Ｃ）
感光体作製例１において、電荷発生層の乾燥前に電荷発生層の塗料塊を表面に付着させた以外は感光体作製例１と同様にして感光体を作製した。

（欠陥作製例２−Ａ）〜（２−Ｃ）
（欠陥作製例１−Ａ）〜（１−Ｃ）の手順において、感光体作製例２で作製した感光体を用いた以外は（欠陥作製例１−Ａ）〜（１−Ｃ）と同様にして感光体を作製した。それぞれの中間層凸高さ、欠陥の長軸長さを表１に記す。

（欠陥作製例３−Ａ）〜（３−Ｃ）
（欠陥作製例１−Ａ）〜（１−Ｃ）の手順において、感光体作製例３で作製した感光体を用いた以外は（欠陥作製例１−Ａ）〜（１−Ｃ）と同様にして感光体を作製した。それぞれの中間層凸高さ、欠陥の長軸長さを表１に記す。

（欠陥作製例４−Ａ）〜（４−Ｃ）
（欠陥作製例１−Ａ）〜（１−Ｃ）の手順において、感光体作製例４で作製した感光体を用いた以外は（欠陥作製例１−Ａ）〜（１−Ｃ）と同様にして感光体を作製した。それぞれの中間層凸高さ、欠陥の長軸長さを表１に記す。

（欠陥作製例５−Ａ）〜（５−Ｃ）
（欠陥作製例１−Ａ）〜（１−Ｃ）の手順において、感光体作製例５で作製した感光体を用いた以外は（欠陥作製例１−Ａ）〜（１−Ｃ）と同様にして感光体を作製した。それぞれの中間層凸高さ、欠陥の長軸長さを表１に記す。

（欠陥作製例６−Ａ）〜（６−Ｃ）
（欠陥作製例１−Ａ）〜（１−Ｃ）の手順において、感光体作製例６で作製した感光体を用いた以外は（欠陥作製例１−Ａ）〜（１−Ｃ）と同様にして感光体を作製した。それぞれの中間層凸高さ、欠陥の長軸長さを表１に記す。

以上のようにして、凸状、凹状、顔料凝集３種類の欠陥を、各感光体構成について作製した。外観を人間の目視によって図ったサイズを表１に併記する。外観で目視した限りでは、各種欠陥Ａ〜Ｃの形状判別はできなかった。

（実施例１）
欠陥作製例１−Ａ〜１−Ｃについて、検査光として波長９４０ｎｍのＬＥＤ、撮像手段として２０４８画素のラインセンサ（竹中システム機器：ＴＬ−２０４８ＵＣＬ）を使用した。検査光を感光体の法線に対し４５°の角度、ラインカメラを同法線に対し４６°の角度に配置し、感光体を１１０ｒｐｍの速度で回転させながら反射光を撮像し、２０４８ｐｉｘｅｌ×４０９６ｐｉｘｅｌの撮像を得た。
得た観察画像について、次に示す手順で画像処理を行い、欠陥該当箇所の相関係数を求めた。結果を表２に記す。

＜画像処理手順＞
３×３の小平滑フィルターを用い平滑化した画像と、３１×３１の大平滑フィルターにて平滑化した画像の差分を得ることで、小平滑画像から大域的なグラデーションを除去した画像を得た。次に、白側閾値を１３８、黒側閾値を１１８として二値化処理を行った。次に、３×３のカーネルサイズで膨張処理を行った後に５×５の縮小処理、再度５×５の膨張処理を行い、得られた白画素の塊の外接矩形を欠陥候補領域として、欠陥候補領域内の射影プロファイルを得た。この射影プロファイルについて、累積したプロファイルの対称性の相関係数を求めると、表２に示す値が得られた。
０．５５以上の相関係数を持つ場合、凹凸欠陥に特徴的な対象プロファイルを有する基準とし、凹凸欠陥・顔料凝集欠陥識別の指標とした。

（実施例２）
欠陥作製例１−Ａ〜１−Ｃについて、受光角度を４７°に変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表２に記す。

（実施例３）
欠陥作製例１−Ａ〜１−Ｃについて、入射角度を６３°、受光角度を６４°に変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表２に記す。

（実施例４）
欠陥作製例１−Ａ〜１−Ｃについて、入射角度を３１°、受光角度を３２°に変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表２に記す。

（実施例５）
実施例１において、観察対象を欠陥作製例２−Ａ〜２−Ｃに変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表２に記す。

（実施例６）
実施例１において、観察対象を欠陥作製例３−Ａ〜３−Ｃに変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表２に記す。

（実施例７）
実施例１において、観察対象を欠陥作製例４−Ａ〜４−Ｃに変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表２に記す。

（実施例８）
実施例１において、観察対象を欠陥作製例５−Ａ〜５−Ｃに変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表２に記す。

（実施例９）
実施例１において、観察対象を欠陥作製例６−Ａ〜６−Ｃに変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表２に記す。

（実施例１０）
実施例１において、入射波長を９００ｎｍに変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表２に記す。

（実施例１１）
実施例１において、入射波長を１０００ｎｍに変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表２に記す。

（実施例１２）
実施例１において、入射波長を１１００ｎｍに変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表２に記す。

（比較例１）
実施例１において、入射角度を２０°、受光角度を２１°に変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表３に記す。

（比較例２）
実施例１において、入射角度を７０°、受光角度を７１°に変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表３に記す。

（比較例３）
実施例１において、入射波長を７８０ｎｍに変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表３に記す。

（比較例４）
実施例１において、入射波長を６００ｎｍに変更した以外は実施例１と同様の手段で欠陥付近を観察した。結果を表３に記す。

Claims (7)

1. 支持体、中間層、および感光層をこの順に有する電子写真感光体の検査方法であって、
   該検査方法が、円筒形の該電子写真感光体をその軸周りに回転させる支持手段と、その軸方向に沿う検査光を照射する手段と、該電子写真感光体の中間層からの反射光分布を取得する撮像手段とを備えた検査機構により、該中間層の凹凸欠陥を判別する方法であり、
   該検査機構において、該検査光の波長が９００ｎｍ以上であり、該検査光が被検査物の法線に対し３１°＜θ１°＜６４°の角度で入射した際の、該撮像手段の反射光の被検査物の法線に対する受光角度θ２が、θ１＋１［°］＜θ２＜θ１＋２［°］であることを特徴とする電子写真感光体の検査方法。
2. 前記中間層の検査光波長における正反射率が８０％以上であることを特徴とする請求項１に記載の検査方法。
3. 前記感光層における電荷発生層が該検査光の波長域に吸収帯域を持たないことを特徴とする電子写真感光体を対象とした請求項１に記載の検査方法。
4. 前記検査方法がさらに前記凹凸欠陥を判別できる画像処理手段を備えており、該画像処理手段が、撮像範囲の欠陥候補領域を抽出する抽出手段と、欠陥候補領域の射影プロファイルを抽出し、累積化したプロファイルの対称性の相関係数を得る手段によって中間層の形状から欠陥を判別する機能を備えた画像処理手段であることを特徴とする請求項１に記載の検査方法。
5. 支持体、中間層、および感光層をこの順に有する円筒形の電子写真感光体をその軸周りに回転させる支持手段と、その軸方向に沿う検査光を照射する手段と、該電子写真感光体の中間層からの反射光分布を取得する撮像手段とを備えた検査機構、
   該検査機構において、該検査光の波長が９００ｎｍ以上であり、該検査光が被検査物の法線に対し３１°＜θ１°＜６４°の角度で入射した際の、該撮像手段の反射光の被検査物の法線に対する受光角度θ２が、θ１＋１［°］＜θ２＜θ１＋２［°］であることを特徴とする該中間層の凹凸欠陥を判別する電子写真感光体の検査方法、を用いた電子写真感光体の製造方法。
6. 電子写真感光体に供される円筒体の検査方法であって、該検査方法が、円筒体を軸周りに回転させる支持手段と、その軸方向に沿う検査光を照射する照射手段と、該円筒体の反射光分布を取得する撮像手段とを備えた検査機構により、検査対象層の凹凸欠陥を判別する方法であり、該検査機構において、検査光が被検査物の法線に対し３１°＜θ１°＜６４°の角度で入射した際の、該撮像手段の反射光の被検査物の法線に対する受光角度θ２が、θ１＋１［°］＜θ２＜θ１＋２［°］であることを特徴とする円筒体の検査方法。
7. 前記検査対象層の検査光波長における正反射率が８０％以上であることを特徴とする請求項６に記載の検査方法。

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