JP2019204892A - 液処理装置、液処理方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】ノズルの下端面への処理液の付着を抑制することが可能な液処理装置、液処理方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。【解決手段】液処理装置は、基板Ｗの表面側に位置するノズルＮから処理液Ｌ１を表面に供給するように構成された処理液供給部と、ノズルから吐出される処理液の流れを誘導するように構成された誘導部材７０と、制御部とを備える。ノズルは、処理液が吐出される吐出口Ｎａが設けられた平坦な下端面Ｓを含む。制御部は、下端面が表面Ｗａに近接した状態で、吐出口から処理液を表面に本吐出させるように処理液供給部を制御することと、誘導部材が吐出口の近傍にある状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出させるように処理液供給部を制御することとを実行する。【選択図】図６

Description

本開示は、液処理装置、液処理方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体に関する。

特許文献１は、カップ体の中において基板を保持するように構成された基板保持部と、基板に処理液を供給するように構成されたノズルと、カップ体の外側においてノズルから垂れた処理液の液滴を除去するように構成された液取り部とを備える液処理装置を開示している。特許文献１の装置によれば、液取り部がノズルの下端面と接触しながら当該下端面を払うことで、ノズルから処理液が不意に落下することを防止している。

特開２０１０−１８６９７４号公報

本開示は、ノズルの下端面への処理液の付着を抑制することが可能な液処理装置、液処理方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体を説明する。

本開示の一つの観点に係る液処理装置は、基板の表面側に位置するノズルから処理液を表面に供給するように構成された処理液供給部と、ノズルから吐出される処理液の流れを誘導するように構成された誘導部材と、制御部とを備える。ノズルは、処理液が吐出される吐出口が設けられた平坦な下端面を含む。制御部は、下端面が表面に近接した状態で、吐出口から処理液を表面に本吐出させるように処理液供給部を制御することと、誘導部材が吐出口の近傍にある状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出させるように処理液供給部を制御することとを実行する。

本開示に係る液処理装置、液処理方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体によれば、ノズルの下端面への処理液の付着を抑制することが可能となる。

図１は、液処理装置の一例を示す概略構成図である。 図２は、図１の液受部及び誘導部材を中心に示す概略断面である。 図３は、コントローラの機能的な構成を示すブロック図である。 図４は、コントローラのハードウェア構成を示すブロック図である。 図５は、液処理手順の一例を示すフローチャートである。 図６は、液処理手順の一例を説明するための図である。 図７（ａ）は誘導部材の他の例を示す概略断面であり、図７（ｂ）は図７（ａ）の誘導部材を上方から見た図である。 図８は、液処理方法の他の例を説明するための図である。 図９は、液処理方法の他の例を説明するための図である。 図１０は、誘導部材の他の例を示す面である。 図１１は、誘導部材の他の例を示す面である。 図１２は、誘導部材の他の例を示す面である。 図１３は、誘導部材の他の例を示す面である。 図１４は、ノズルの他の例を示す図である。 図１５は、液処理方法の他の例を説明するための図である。

以下に、本開示に係る実施形態の一例について、図面を参照しつつより詳細に説明する。以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。

［液処理装置］
図１及び図２を参照して、液処理装置１の構成について説明する。液処理装置１は、図１に示されるように、ウエハＷ（基板）の表面Ｗａに対して処理液Ｌ１を供給するように構成されている。処理液Ｌ１は、ウエハＷの表面Ｗａに適用可能な各種の液体であってもよく、例えば、感光性レジスト膜となる感光性レジスト液、非感光性レジスト膜となる非感光性レジスト液等であってもよい。

ウエハＷは、円板状を呈してもよいし、多角形など円形以外の板状を呈していてもよい。ウエハＷは、一部が切り欠かれた切り欠き部を有していてもよい。切り欠き部は、例えば、ノッチ（Ｕ字形、Ｖ字形等の溝）であってもよいし、直線状に延びる直線部（いわゆる、オリエンテーション・フラット）であってもよい。ウエハＷは、例えば、半導体基板、ガラス基板、マスク基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）基板その他の各種基板であってもよい。ウエハＷの直径は、例えば２００ｍｍ〜４５０ｍｍ程度であってもよい。

液処理装置１は、回転保持部１０と、カップ２０と、処理液供給部３０と、液受部４０と、溶剤供給部５０と、ガス供給部６０と、コントローラＣｔｒ（制御部）とを備える。

回転保持部１０は、回転部１１と、シャフト１２と、保持部１３とを有する。回転部１１は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、シャフト１２を回転させる。回転部１１は、例えば電動モータ等の動力源である。保持部１３は、シャフト１２の先端部に設けられている。保持部１３上にはウエハＷを配置可能である。保持部１３は、例えば吸着等によりウエハＷを略水平に保持するように構成された吸着チャックである。

すなわち、回転保持部１０は、ウエハＷの姿勢が略水平の状態で、ウエハＷの表面Ｗａに対して垂直な軸（回転軸）周りでウエハＷを回転させる機能を有する。本実施形態では、回転軸は、円形状を呈するウエハＷの中心を通っているので、中心軸でもある。

カップ２０は、回転保持部１０の周囲に設けられている。カップ２０は、ウエハＷの処理のためにウエハＷに供給された液体を受け止める集液容器として機能する。カップ２０は、例えば、ポリプロピレン（ＰＰ：polypropylene）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ： polyvinyl chloride）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ：Poly Phenylene Sulfide）樹脂等で形成されていてもよい。

処理液供給部３０は、ウエハＷの表面Ｗａに処理液Ｌ１を供給するように構成されている。処理液供給部３０は、液源３１と、ポンプ３２と、バルブ３３と、ノズルＮと、配管３４と、駆動機構３５（駆動部）とを有する。

液源３１は、処理液Ｌ１の供給源として機能する。ポンプ３２は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、液源３１から処理液Ｌ１を吸引し、配管３４及びバルブ３３を介して処理液Ｌ１をノズルＮに送り出す。バルブ３３は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、バルブ３３の前後において配管３４を開放及び閉塞させる。

配管３４は、上流側から順に、液源３１、ポンプ３２、バルブ３３及びノズルＮを接続している。駆動機構３５は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、ノズルＮを水平方向又は上下方向に移動させる。駆動機構３５は、例えばエンコーダ付きのサーボモータであり、ノズルＮの移動速度及び移動位置を制御してもよい。

ノズルＮは、吐出口Ｎａ（図２参照）がウエハＷの表面Ｗａに向かうように、ウエハＷの上方（カップ２０上方）と液受部４０との間を駆動機構３５によって移動可能である。ノズルＮは、ポンプ３２から送り出された処理液Ｌ１を下方に向けて吐出口Ｎａから吐出する機能を有する。吐出口Ｎａは、ノズルＮの平坦な下端面Ｓに設けられている。

液受部４０は、ダミー吐出時の処理液Ｌ１及び溶剤Ｌ２を受け止める集液容器として機能する。液受部４０は、図１及び図２に示されるように、筐体４１と、ノズル４２と、排液管４３と、誘導部材７０とを含む。筐体４１は、上方が開放された有底筒体である。筐体４１は、上下方向においてカップ２０と重なり合わない位置（カップ２０の外方）に配置されている。ノズル４２は、筐体の側壁面に設けられており、溶剤Ｌ２を筐体４１内に吐出するように構成されている。排液管４３は、筐体４１内に吐出された処理液Ｌ１及び溶剤Ｌ２を排出するように構成されている。

誘導部材７０は、鉛直方向に沿って延びる棒状体である。誘導部材７０は、例えば円柱であってもよいし、多角柱であってもよい。誘導部材７０は、筐体４１内において固定されている。

溶剤供給部５０は、筐体４１内に溶剤Ｌ２を供給するように構成されている。溶剤Ｌ２は、各種の有機溶剤（例えばシンナー）であってもよい。溶剤供給部５０は、液源５１と、ポンプ５２と、バルブ５３と、配管５４とを有する。

液源５１は、溶剤Ｌ２の供給源として機能する。ポンプ５２は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、液源５１から溶剤Ｌ２を吸引し、配管５４及びバルブ５３を介して溶剤Ｌ２をノズル４２に送り出す。バルブ５３は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、バルブ５３の前後において配管５４を開放及び閉塞させる。配管５４は、上流側から順に、液源５１、ポンプ５２、バルブ５３及びノズル４２を接続している。

ガス供給部６０は、ノズルＮの下端部に向けてガスを供給するように構成されている。ガスＧは、各種の不活性ガスであってもよく、例えば窒素ガス（Ｎ_２ガス）であってもよい。ガス供給部６０は、ガス源６１と、ポンプ６２と、バルブ６３と、配管６４と、ノズル６５とを有する。

ガス源６１は、ガスＧの供給源として機能する。ポンプ６２は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、ガス源６１からガスＧを吸引し、配管６４及びバルブ６３を介してガスＧをノズル６５に送り出す。バルブ６３は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、バルブ６３の前後において配管６４を開放及び閉塞させる。

配管６４は、上流側から順に、ガス源６１、ポンプ６２、バルブ６３及びノズル６５を接続している。ノズル６５は、先端の吐出口が斜め下方を向くように、筐体４１内に固定されている。ノズル６５は、ポンプ６２から送り出されたガスＧを斜め下方に向けて吐出口から吐出する機能を有する。

コントローラＣｔｒは、図３に示されるように、機能モジュールとして、読取部Ｍ１と、記憶部Ｍ２と、処理液供給制御部Ｍ３と、溶剤供給制御部Ｍ４と、ガス供給制御部Ｍ５とを有する。これらの機能モジュールは、コントローラＣｔｒの機能を便宜上複数のモジュールに区切ったものに過ぎず、コントローラＣｔｒを構成するハードウェアがこのようなモジュールに分かれていることを必ずしも意味するものではない。各機能モジュールは、プログラムの実行により実現されるものに限られず、専用の電気回路（例えば論理回路）、又は、これを集積した集積回路（ＡＳＩＣ：Application Specific Integrated Circuit）により実現されるものであってもよい。

読取部Ｍ１は、コンピュータ読み取り可能な記録媒体ＲＭからプログラムを読み取る機能を有する。記録媒体ＲＭは、液処理装置１の各部を動作させるためのプログラムを記録している。記録媒体ＲＭとしては、例えば、半導体メモリ、光記録ディスク、磁気記録ディスク、光磁気記録ディスクであってもよい。

記憶部Ｍ２は、種々のデータを記憶する機能を有する。記憶部Ｍ２は、例えば、読取部Ｍ１において記録媒体ＲＭから読み出したプログラム、ウエハＷを処理する際の各種データ（いわゆる処理レシピ）、外部入力装置（図示せず）を介してオペレータから入力された設定データ等を記憶する。

処理液供給制御部Ｍ３は、ノズルＮからウエハＷの表面Ｗａに処理液Ｌ１を吐出するように処理液供給部３０を制御する機能を有する。このときの処理液Ｌ１の吐出動作を「本吐出」ともいう。処理液供給制御部Ｍ３は、ノズルＮから筐体４１内に処理液Ｌ１を吐出するように処理液供給部３０を制御する機能を有する。このときの処理液Ｌ１の吐出動作を「ダミー吐出」ともいう。処理液供給制御部Ｍ３は、ノズルＮを駆動機構３５によってウエハＷの上方と液受部４０との間で移動させるように処理液供給部３０を制御する機能を有する。

溶剤供給制御部Ｍ４は、ノズル４２から筐体４１内に溶剤Ｌ２を吐出するように溶剤供給部５０を制御する機能を有する。ガス供給制御部Ｍ５は、ノズル６５から筐体４１内にガスＧを吐出するようにガス供給部６０を制御する機能を有する。

コントローラＣｔｒのハードウェアは、例えば一つ又は複数の制御用のコンピュータにより構成される。コントローラＣｔｒは、ハードウェア上の構成として、例えば図４に示される回路Ｃｔｒ１を有する。回路Ｃｔｒ１は、電気回路要素（circuitry）で構成されていてもよい。回路Ｃｔｒ１は、具体的には、プロセッサＣｔｒ２と、メモリＣｔｒ３（記憶部）と、ストレージＣｔｒ４（記憶部）と、入出力ポートＣｔｒ５とを有する。プロセッサＣｔｒ２は、メモリＣｔｒ３及びストレージＣｔｒ４の少なくとも一方と協働してプログラムを実行し、入出力ポートＣｔｒ５を介した信号の入出力を実行することで、上述した各機能モジュールを構成する。

本実施形態では、液処理装置１は、一つのコントローラＣｔｒを備えているが、複数のコントローラＣｔｒで構成されるコントローラ群（制御部）を備えていてもよい。液処理装置１がコントローラ群を備えている場合には、上記の機能モジュールがそれぞれ、一つのコントローラＣｔｒによって実現されていてもよいし、２個以上のコントローラＣｔｒの組み合わせによって実現されていてもよい。コントローラＣｔｒが複数のコンピュータ（回路Ｃｔｒ１）で構成されている場合には、上記の機能モジュールがそれぞれ、一つのコンピュータ（回路Ｃｔｒ１）によって実現されていてもよいし、２つ以上のコンピュータ（回路Ｃｔｒ１）の組み合わせによって実現されていてもよい。コントローラＣｔｒは、複数のプロセッサＣｔｒ２を有していてもよい。この場合、上記の機能モジュールがそれぞれ、一つのプロセッサＣｔｒ２によって実現されていてもよいし、２つ以上のプロセッサＣｔｒ２の組み合わせによって実現されていてもよい。

［液処理方法］
続いて、図５及び図６を参照して、液処理装置１を用いた液処理方法について説明する。

まず、コントローラＣｔｒは、ノズルＮから処理液Ｌ１をウエハＷの表面Ｗａに向けて本吐出させるように、処理液供給部３０を制御する（図５のステップＳ１参照）。これにより、ウエハＷの表面Ｗａに処理液供給部３０が供給される。（図６（ａ）参照）。

このとき、ノズルＮの下端面Ｓには、処理液Ｌ１が付着していることがある。特に、ノズルＮの下端面ＳをウエハＷの表面Ｗａに近接させた状態で処理液Ｌ１が表面Ｗａに吐出されると、下端面Ｓに処理液Ｌ１が付着しやすい（図６（ａ）参照）。なお、「近接」とは、下端面Ｓが表面Ｗａに接触しておらず表面Ｗａから僅かに離間している状態をいう。下端面Ｓと表面Ｗａとのギャップは、例えば、０．１ｍｍ〜２．０ｍｍ程度であってもよいし、１．０ｍｍ程度であってもよい。

ウエハＷの表面Ｗａへの処理液Ｌ１の供給が完了すると、コントローラＣｔｒは、本吐出後のノズルＮを液受部４０に移動させるように、処理液供給部３０を制御する（図５のステップＳ２参照）。これにより、本吐出後のノズルＮが筐体４１内に配置される。

続いて、コントローラＣｔｒは、ノズルＮの下端部に溶剤Ｌ２を供給させるように、溶剤供給部５０を制御する（図５のステップＳ３参照）。これにより、下端面Ｓ（特に吐出口Ｎａの周囲）に付着している処理液Ｌ１が溶剤Ｌ２によって除去される（図６（ｂ）参照）。下端面Ｓから除去された処理液Ｌ１及びノズルＮに供給された溶剤Ｌ２は、筐体４１において受け止められ、排液管４３を通じて筐体４１外に排出される。一方、ノズルＮの下端部に供給された溶剤Ｌ２は、吐出口ＮａからノズルＮ内部に若干入り込んだり、溶剤Ｌ２が下端面Ｓに残存したりすることがある（同参照）。

続いて、コントローラＣｔｒは、ノズルＮの下端部にガスＧを供給させるように、ガス供給部６０を制御する（図５のステップＳ４参照）。これにより、下端面Ｓに付着している溶剤Ｌ２がガスＧによって吹き飛ばされ、下端面Ｓから溶剤Ｌ２が除去される（図６（ｃ））。ただし、ノズルＮ内部に入り込んでいる溶剤Ｌ２は、依然として残存することがある（同参照）。

続いて、コントローラＣｔｒは、誘導部材７０が吐出口Ｎａの直下に位置した状態で、ノズルＮから処理液Ｌ１を誘導部材７０に向けてダミー吐出させるように、処理液供給部３０を制御する（図５のステップＳ５参照）。これにより、ノズルＮ内部に残存している溶剤Ｌ２が、処理液Ｌ１と共にノズルＮから排出される。このとき、処理液Ｌ１は、吐出口Ｎａから吐出された直後に誘導部材７０に接触し、誘導部材７０の表面張力によって誘導部材７０の表面に拡がりながら、当該表面に沿って流下する（図６（ｄ）参照）。すなわち、吐出口Ｎａから吐出された処理液Ｌ１は、下端面Ｓではなく、誘導部材７０側に誘導される。

ダミー吐出の停止に際しては、コントローラＣｔｒは、ノズルＮ内の処理液Ｌ１を吸引するよう処理液供給部３０を制御してもよい（「サックバック」ともいう。）。これにより、ノズルＮの吐出口Ｎａ近傍での処理液Ｌ１の滞留が抑制される（図６（ｅ）参照）。

以上により、次のウエハＷにノズルＮから処理液Ｌ１を吐出するための準備が完了する。その後、コントローラＣｔｒは、ダミー吐出後のノズルＮを、カップ２０内の回転保持部１０に保持されているウエハＷの上方に移動させるように、処理液供給部３０を制御すると共に、ステップＳ１以降を再び実行してもよい。

［作用］
以上の実施形態では、誘導部材７０が吐出口Ｎａの近傍にある状態で、吐出口Ｎａから処理液Ｌ１を誘導部材７０に向けてダミー吐出させている。そのため、吐出口Ｎａから吐出される処理液Ｌ１は、誘導部材７０の表面に沿って流れて周囲に拡がり難くなる。従って、ダミー吐出後にノズルＮの下端面Ｓに処理液が付着し難くなる。その結果、ダミー吐出後にノズルＮの下端面Ｓから処理液Ｌ１を除去する手間を要することなく、ダミー吐出するだけで、ノズルＮの下端面Ｓへの処理液Ｌ１の付着を抑制することが可能となる。

以上の実施形態では、誘導部材７０が吐出口Ｎａの直下にある状態で、吐出口Ｎａから処理液Ｌ１を誘導部材７０に向けてダミー吐出させている。そのため、処理液Ｌ１が誘導部材７０の表面に沿ってより流れやすくなる。

［変形例］
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

（１）図７に示されるように、液受部４０は、誘導部材７０を駆動するように構成された駆動機構８０（駆動部）をさらに含んでいてもよい。駆動機構８０は、誘導部材７０を筐体４１の内壁面との間で支持する支持アーム８１と、支持アーム８１を鉛直方向に沿って上下動させる移動レール８２とを含む。支持アーム８１が移動レール８２上を鉛直方向に沿って上下動することで、支持アーム８１に接続されている誘導部材７０も同様に鉛直方向に沿って上下動する。

このような駆動機構８０を用いて、誘導部材７０を移動させながらダミー吐出してもよい。具体的には、図８（ａ）に示されるように、ダミー吐出の当初は、誘導部材７０が吐出口Ｎａの直下に位置するようにノズルＮ及び誘導部材７０を配置した状態で、ノズルＮから処理液Ｌ１を吐出する。そして、図８（ｂ）に示されるように、処理液Ｌ１が誘導部材７０に到達した後に、コントローラＣｔｒは、誘導部材７０が下方に移動するように駆動機構８０を制御する。

ところで、吐出口Ｎａから吐出される処理液Ｌ１の流れは吐出直後に最も乱れやすく、いったん吐出口Ｎａからの処理液Ｌ１の吐出が始まった後は、処理液Ｌ１の流れが安定しやすい傾向にある。そのため、誘導部材７０が吐出口Ｎａに対して下降するように誘導部材７０を駆動機構８０によって移動させることにより、吐出口Ｎａからの処理液Ｌ１の吐出直後には処理液Ｌ１を誘導部材７０で誘導しつつ、その後は誘導部材７０に衝突して跳ねた処理液Ｌ１がノズルの下端面Ｓに付着し難くなる。従って、ノズルＮの下端面Ｓへの処理液Ｌ１の付着をより抑制することが可能となる。

ノズルＮが誘導部材７０に対して上昇するようにノズルＮを駆動機構３５によって移動させることによっても、同様の効果を得ることができる。すなわち、誘導部材７０が吐出口Ｎａに対して相対的に下降するように、ノズルＮ及び誘導部材７０の少なくとも一方が移動可能に構成されていてもよい。

（２）ダミー吐出の終了時又は終了直前に、ノズルＮ内の処理液Ｌ１を吸引しつつ（サックバックしつつ）、誘導部材７０が吐出口Ｎａに対して相対的に下降するようにノズルＮ及び誘導部材７０の少なくとも一方を移動させてもよい。この場合、吸引動作によりノズルＮ内の処理液Ｌ１はノズルＮの奥側に引っ張られる一方で、誘導部材７０の表面を流れている処理液Ｌ１は誘導部材７０の相対移動に伴い誘導部材７０に引っ張られる。そのため、ダミー吐出の終了に際して、ノズルＮの吐出口Ｎａにおいて処理液Ｌ１が良好に分断される。従って、ダミー吐出後のノズルＮ内における処理液Ｌ１の液面が、ダミー吐出処理ごとに一定の高さ位置に揃いやすくなる。その結果、ウエハＷの表面Ｗａにより均一な厚さの膜を形成することが可能となる。

（３）駆動機構８０（回転駆動部）は、誘導部材７０の中心を通る鉛直軸周りで誘導部材７０を回転させる機能をさらに有していてもよい。この場合、誘導部材７０を回転させながらダミー吐出してもよい。具体的には、図９（ａ）に示されるように、ダミー吐出の当初は、誘導部材７０が吐出口Ｎａの直下に位置するようにノズルＮ及び誘導部材７０を配置した状態で、ノズルＮから処理液Ｌ１を吐出する。そして、図９（ｂ）に示されるように、処理液Ｌ１が誘導部材７０に到達した後に、コントローラＣｔｒは、誘導部材７０が回転するように駆動機構８０を制御する。このようにすると、回転する誘導部材７０に向けて吐出口Ｎａから処理液Ｌ１が吐出されるので、処理液Ｌ１が誘導部材７０の表面に巻き込まれやすくなる傾向にある。そのため、吐出口Ｎａから吐出される処理液Ｌ１がさらに周囲に拡がり難くなる。従って、ノズルＮの下端面Ｓへの処理液Ｌ１の付着をさらに抑制することが可能となる。

（４）誘導部材７０の少なくとも上端部が凹凸形状を呈していてもよい。例えば、図１０（ａ）に示されるように、誘導部材７０の上端面に複数の突起が設けられていてもよい。図１０（ｂ）に示されるように、誘導部材７０の上端縁に複数の片持ち片が設けられていてもよい。図１０（ｃ）に示されるように、誘導部材７０の上端部に、鉛直方向に沿って延びる複数の溝が設けられていてもよい。これらの場合、誘導部材７０の上端部の表面積が増加する。そのため、より多くの処理液が誘導部材７０に接触して、誘導部材７０の表面張力が処理液Ｌ１に作用しやすくなる。従って、処理液Ｌ１が誘導部材７０の表面に沿ってよりいっそう流れやすくなる。

（５）誘導部材７０は筒状を呈していてもよい。図１１に示されるように、筒状の誘導部材７０が吐出口Ｎａの直下にある状態でノズルＮから処理液Ｌ１を吐出してもよい。この場合も、誘導部材７０の表面積が増加するので、処理液Ｌ１が誘導部材７０の表面に沿ってよりいっそう流れやすくなる。

図１２（ａ）に示されるように、筒状の誘導部材７０の上端が下端面Ｓに当接した状態でノズルＮから処理液Ｌ１を吐出してもよい。このとき、誘導部材７０の内径は、吐出口Ｎａの開口径と同程度に設定されていてもよい。ノズルＮから吐出された処理液Ｌ１は、誘導部材７０の内部を流れて誘導部材７０の下端から排出されるので、下端面Ｓに拡がらなくなる。そのため、ノズルＮの下端面Ｓへの処理液Ｌ１の付着を防止することが可能となる。また、この場合も、処理液Ｌ１が誘導部材７０の表面（内周面）に沿ってより流れやすくなる。

図１２（ｂ）に示されるように、筒状の誘導部材７０に吸引ポンプ９０（吸引部）が接続されていてもよい。このとき、吸引ポンプ９０が吸引動作をしている状態で、筒状の誘導部材７０の上端が下端面Ｓに当接した状態でノズルＮから処理液Ｌ１を吐出してもよい。この場合、吐出口Ｎａから吐出される処理液Ｌ１が筒状の誘導部材７０を通じて吸引ポンプ９０に吸引される。そのため、吐出口Ｎａから吐出される処理液Ｌ１がいっそう周囲に拡がり難くなる。従って、ノズルＮの下端面Ｓへの処理液Ｌ１の付着をいっそう抑制することが可能となる。なお、図１２（ｂ）には、誘導部材７０の上端が下端面Ｓに当接している様子が示されているが、誘導部材７０が吐出口Ｎａの直下に位置していてもよい。

（６）図１３に示されるように、吐出口Ｎａよりも外径の小さな誘導部材７０を吐出口Ｎａの内部に挿通した状態で、ダミー吐出してもよい。この場合、処理液Ｌ１が誘導部材７０の表面（内周面）に沿ってより流れやすくなる。

（７）誘導部材７０の表面には、表面の濡れ性を高める表面処理が施されていてもよい。例えば、プラズマ処理により誘導部材７０の表面に親水性を付与してもよいし、親水性を有する被膜を誘導部材７０の表面に形成してもよい。この場合、処理液Ｌ１が誘導部材７０の表面に沿っていっそう流れやすくなる。

（８）ノズルＮが平坦な下端面Ｓを有しており、当該下端面Ｓに吐出口Ｎａが形成されていれば、ノズルＮの形状は特に限定されない。例えば、図１４（ａ）及び図１４（ｂ）に示されるように、ノズルＮの先端部が部分的に切り欠かれていてもよい。図１４（ｃ）に示されるように、吐出口Ｎａの近傍において、ノズルＮ内の流路が拡径されていてもよい。図１４（ｄ）に示されるように、ノズルＮが水平方向において直線状に延びる長尺ノズルであってもよい。この場合、誘導部材７０も、ノズルＮのスリット状の吐出口Ｎａに対応して、平板状を呈していてもよい。

（９）図１５（ａ）に示されるように、本吐出後のノズルＮの下端部に溶剤Ｌ２を供給する際にも、誘導部材７０が吐出口Ｎａの直下に配置されていてもよい。この場合、図１５（ｂ）に示されるように、溶剤Ｌ２が誘導部材７０によってノズルＮの吐出口Ｎａ近傍に誘導されやすくなる。そのため、ノズルＮの下端面Ｓに付着した処理液Ｌ１をより効果的に除去することが可能となる。

（１０）上記の実施形態では、ノズルＮから処理液Ｌ１をウエハＷの表面Ｗａに向けて本吐出させた後に、ノズルＮの下端部に溶剤Ｌ２を供給させていたが（図５のステップＳ３参照）、ノズルＮへの溶剤Ｌ２の供給は本吐出の前に行われてもよい。あるいは、ノズルＮへの溶剤Ｌ２の供給が行われなくてもよい。

［例示］
例１．本開示の一つの例に係る液処理装置は、基板の表面側に位置するノズルから処理液を表面に供給するように構成された処理液供給部と、ノズルから吐出される処理液の流れを誘導するように構成された誘導部材と、制御部とを備える。ノズルは、処理液が吐出される吐出口が設けられた平坦な下端面を含む。制御部は、下端面が表面に近接した状態で、吐出口から処理液を表面に本吐出させるように処理液供給部を制御することと、誘導部材が吐出口の近傍にある状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出させるように処理液供給部を制御することとを実行する。

例１の装置では、誘導部材が吐出口の近傍にある状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出させている。そのため、吐出口から吐出される処理液は、誘導部材の表面に沿って流れて周囲に拡がり難くなる。従って、ダミー吐出後にノズルの下端面に処理液が付着し難くなる。その結果、ダミー吐出後にノズルの下端面から処理液を除去する手間を要することなく、ダミー吐出するだけで、ノズルの下端面への処理液の付着を抑制することが可能となる。

例２．例１の装置において、吐出口から処理液をダミー吐出させるように処理液供給部を制御することは、誘導部材が吐出口の直下にある状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出させるように処理液供給部を制御すること、吐出口と連通するように筒状の誘導部材が下端面に当接した状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出させるように処理液供給部を制御すること、又は、誘導部材が吐出口の内部に挿通された状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出させるように処理液供給部を制御することを含んでいてもよい。この場合、処理液が誘導部材の表面に沿ってより流れやすくなる。

例３．例１又は例２の装置は、ノズル又は誘導部材を移動させるように構成された駆動部をさらに備え、吐出口から処理液をダミー吐出させるように処理液供給部を制御することは、誘導部材が吐出口の近傍にある状態から誘導部材が吐出口に対して相対的に下降するようにノズル及び誘導部材の少なくとも一方を移動させつつ、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出させるように処理液供給部及び駆動部を制御することを含んでもよい。ところで、吐出口から吐出される処理液の流れは吐出直後に最も乱れやすく、いったん吐出口からの処理液の吐出が始まった後は、処理液の流れが安定しやすい傾向にある。そのため、例３の装置のように、誘導部材が吐出口に対して相対的に下降するようにノズル及び誘導部材の少なくとも一方を移動させることにより、吐出口からの処理液の吐出直後には処理液を誘導部材で誘導しつつ、その後は誘導部材に衝突して跳ねた処理液がノズルの下端面に付着し難くなる。従って、ノズルの下端面への処理液の付着をより抑制することが可能となる。

例４．例１〜例３のいずれかの装置は、誘導部材を回転させるように構成された回転駆動部をさらに備え、吐出口から処理液をダミー吐出させるように処理液供給部を制御することは、誘導部材が吐出口の近傍にある状態で且つ誘導部材が回転した状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出させるように処理液供給部及び回転駆動部を制御することを含んでもよい。この場合、回転する誘導部材に向けて吐出口から処理液が吐出されるので、処理液が誘導部材の表面に巻き込まれやすくなる傾向にある。そのため、吐出口から吐出される処理液がさらに周囲に拡がり難くなる。従って、ノズルの下端面への処理液の付着をさらに抑制することが可能となる。

例５．例１〜例４のいずれかの装置は、筒状を呈する誘導部材の内部から流体を吸引するように構成された吸引部をさらに備え、吐出口から処理液をダミー吐出させるように処理液供給部を制御することは、誘導部材が吐出口の近傍にある状態で且つ吸引部が吸引動作をしている状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出させるように処理液供給部及び吸引部を制御することを含んでもよい。この場合、吐出口から吐出される処理液の少なくとも一部が筒状の誘導部材を通じて吸引される。そのため、吐出口から吐出される処理液がいっそう周囲に拡がり難くなる。従って、ノズルの下端面への処理液の付着をいっそう抑制することが可能となる。

例６．例１〜例５のいずれかの装置において、誘導部材の表面には、表面の濡れ性を高める表面処理が施されていてもよい。この場合、処理液が誘導部材の表面に沿っていっそう流れやすくなる。

例７．例１〜例６のいずれかの装置において、誘導部材の少なくとも上端部は凹凸形状を呈していてもよい。この場合、誘導部材の上端部の表面積が増加する。そのため、より多くの処理液が誘導部材に接触して、誘導部材の表面張力が処理液に作用しやすくなる。従って、処理液が誘導部材の表面に沿ってよりいっそう流れやすくなる。

例８．例１〜例７のいずれかの装置は、ノズルに溶剤を供給するように構成された溶剤供給部をさらに備え、制御部は、本吐出前又は本吐出後の前記吐出口の周囲に溶剤を供給させるように前記溶剤供給部を制御することをさらに実行してもよい。ところで、溶剤をノズルに供給する際に、溶剤はノズルの吐出口からノズル内部に若干入り込んでしまうことがある。そして、そのままノズルから基板に向けて処理液を本吐出すると、基板の表面に形成される膜厚にムラが生ずることがある。そこで、通常は、次の本吐出の前にノズルから処理液を例えば排液容器等にダミー吐出させることにより、ノズル内から溶剤を排出している。しかしながら、ダミー吐出の際にも、吐出口から吐出された処理液の流れが乱れて、処理液が吐出口の周囲に拡がり、ノズルの下端面に処理液が付着する場合がある。ところが、例８によれば、吐出口から吐出される処理液が、誘導部材の表面に沿って流れて周囲に拡がり難くなっている。そのため、ダミー吐出後にノズルの下端面に処理液がより付着し難くなる。

例９．例８の装置において、溶剤供給部を制御することは、誘導部材が吐出口の直下にある状態で、本吐出後の吐出口の周囲に溶剤を供給させるように溶剤供給部を制御することを含んでいてもよい。この場合、溶剤がノズルに供給される際に誘導部材が吐出口の直下にあるので、溶剤が誘導部材によってノズルの吐出口近傍に誘導されやすくなる。そのため、ノズルの下端面に付着した処理液をより効果的に除去することが可能となる。

例１０．例１〜例９のいずれかの装置は、ノズル又は誘導部材を移動させるように構成された駆動部をさらに備え、制御部は、誘導部材が吐出口に対して相対的に下降するようにノズル及び誘導部材の少なくとも一方を移動させつつダミー吐出の終了時又は終了直前にノズル内の処理液を吸引させるように処理液供給部及び駆動部を制御することをさらに含んでいてもよい。この場合、吸引動作によりノズル内の処理液はノズルの奥側に引っ張られる一方で、誘導部材の表面を流れている処理液は誘導部材の相対移動に伴い誘導部材に引っ張られる。そのため、ダミー吐出の終了に際して、ノズルの吐出口において処理液が良好に分断される。従って、ダミー吐出後のノズル内における処理液の液面が、ダミー吐出処理ごとに一定の高さ位置に揃いやすくなる。その結果、基板の表面により均一な厚さの膜を形成することが可能となる。

例１１．本開示の他の例に係る液処理方法は、ノズルの平坦な下端面が基板の表面に近接した状態で、下端面に設けられた吐出口から処理液を表面に本吐出させることと、誘導部材が吐出口の近傍にある状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出することとを含む。この場合、例１の装置と同様の作用効果を奏する。

例１２．例１１の方法において、吐出口から処理液をダミー吐出することは、誘導部材が吐出口の直下にある状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出すること、吐出口と連通するように筒状の誘導部材が下端面に当接した状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出すること、又は、誘導部材が吐出口の内部に挿通された状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出することを含んでいてもよい。この場合、例２の装置と同様の作用効果を奏する。

例１３．例１１又は例１２の方法において、吐出口から処理液をダミー吐出することは、誘導部材が吐出口の近傍にある状態から誘導部材が吐出口に対して相対的に下降するようにノズル及び誘導部材の少なくとも一方を移動させつつ、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出することを含んでいてもよい。この場合、例３の装置と同様の作用効果を奏する。

例１４．例１１〜例１３のいずれかの方法において、吐出口から処理液をダミー吐出することは、誘導部材が吐出口の近傍にある状態で且つ誘導部材が回転した状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出することを含んでいてもよい。この場合、例４の装置と同様の作用効果を奏する。

例１５．例１１〜例１４のいずれかの方法において、吐出口から処理液をダミー吐出することは、筒状を呈する誘導部材が吐出口の近傍にある状態で且つ誘導部材の内部から流体を吸引する吸引動作をしている状態で、吐出口から処理液を誘導部材に向けてダミー吐出することを含んでいてもよい。この場合、例５の装置と同様の作用効果を奏する。

例１６．例１１〜例１５のいずれかの方法において、誘導部材の表面には、表面の濡れ性を高める表面処理が施されていてもよい。この場合、例６の装置と同様の作用効果を奏する。

例１７．例１１〜例１６のいずれかの方法において、誘導部材の少なくとも上端部は凹凸形状を呈していてもよい。この場合、例７の装置と同様の作用効果を奏する。

例１８．例１１〜例１７のいずれかの方法は、本吐出前又は本吐出後の吐出口の周囲に溶剤を供給することをさらに含んでいてもよい。この場合、例８の装置と同様の作用効果を奏する。

例１９．例１８の方法において、溶剤を供給することは、誘導部材が吐出口の直下にある状態で、本吐出後の吐出口の周囲に溶剤を供給することを含んでいてもよい。この場合、例８の装置と同様の作用効果を奏する。

例２０．例１９の方法は、誘導部材が吐出口に対して相対的に下降するようにノズル及び誘導部材の少なくとも一方を移動させつつダミー吐出の終了時又は終了直前にノズル内の処理液を吸引することをさらに含んでいてもよい。この場合、例９の装置と同様の作用効果を奏する。

例２１．コンピュータ読み取り可能な記録媒体の一例は、例１１〜例２０のいずれかの液処理方法を液処理装置に実行させるためのプログラムを記録している。この場合、例１１〜例２０のいずれかの方法と同様の作用効果を奏する。本明細書において、コンピュータ読み取り可能な記録媒体には、一時的でない有形の媒体（non-transitory computer recording medium）（例えば、各種の主記憶装置又は補助記憶装置）や、伝播信号（transitory computer recording medium）（例えば、ネットワークを介して提供可能なデータ信号）が含まれる。

１…液処理装置、３０…処理液供給部、３５…駆動機構（駆動部）、４０…液受部、５０…溶剤供給部、７０…誘導部材、８０…駆動機構（駆動部；回転駆動部）、９０…吸引ポンプ（吸引部）、Ｃｔｒ…コントローラ（制御部）、Ｎ…ノズル、Ｓ…下端面、Ｗ…ウエハ（基板）、Ｗａ…表面。

Claims (21)

1. 基板の表面側に位置するノズルから処理液を前記表面に供給するように構成された処理液供給部と、
   前記ノズルから吐出される前記処理液の流れを誘導するように構成された誘導部材と、
   制御部とを備え、
   前記ノズルは、前記処理液が吐出される吐出口が設けられた平坦な下端面を含み、
   前記制御部は、
   前記下端面が前記表面に近接した状態で、前記吐出口から前記処理液を前記表面に本吐出させるように前記処理液供給部を制御することと、
   前記誘導部材が前記吐出口の近傍にある状態で、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出させるように前記処理液供給部を制御することとを実行する、液処理装置。
2. 前記吐出口から前記処理液をダミー吐出させるように前記処理液供給部を制御することは、
   前記誘導部材が前記吐出口の直下にある状態で、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出させるように前記処理液供給部を制御すること、
   前記吐出口と連通するように筒状の前記誘導部材が前記下端面に当接した状態で、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出させるように前記処理液供給部を制御すること、又は、
   前記誘導部材が前記吐出口の内部に挿通された状態で、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出させるように前記処理液供給部を制御することを含む、請求項１に記載の装置。
3. 前記ノズル又は前記誘導部材を移動させるように構成された駆動部をさらに備え、
   前記吐出口から前記処理液をダミー吐出させるように前記処理液供給部を制御することは、前記誘導部材が前記吐出口の近傍にある状態から前記誘導部材が前記吐出口に対して相対的に下降するように前記ノズル及び前記誘導部材の少なくとも一方を移動させつつ、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出させるように前記処理液供給部及び前記駆動部を制御することを含む、請求項１又は２に記載の装置。
4. 前記誘導部材を回転させるように構成された回転駆動部をさらに備え、
   前記吐出口から前記処理液をダミー吐出させるように前記処理液供給部を制御することは、前記誘導部材が前記吐出口の近傍にある状態で且つ前記誘導部材が回転した状態で、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出させるように前記処理液供給部及び前記回転駆動部を制御することを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の装置。
5. 筒状を呈する前記誘導部材の内部から流体を吸引するように構成された吸引部をさらに備え、
   前記吐出口から前記処理液をダミー吐出させるように前記処理液供給部を制御することは、前記誘導部材が前記吐出口の近傍にある状態で且つ前記吸引部が吸引動作をしている状態で、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出させるように前記処理液供給部及び前記吸引部を制御することを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
6. 前記誘導部材の表面には、前記表面の濡れ性を高める表面処理が施されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の装置。
7. 前記誘導部材の少なくとも上端部は凹凸形状を呈している、請求項１〜６のいずれか一項に記載の装置。
8. 前記ノズルに溶剤を供給するように構成された溶剤供給部をさらに備え、
   前記制御部は、本吐出前又は本吐出後の前記吐出口の周囲に溶剤を供給させるように前記溶剤供給部を制御することをさらに実行する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の装置。
9. 前記溶剤供給部を制御することは、前記誘導部材が前記吐出口の直下にある状態で、本吐出後の前記吐出口の周囲に前記溶剤を供給させるように前記溶剤供給部を制御することを含む、請求項８に記載の装置。
10. 前記ノズル又は前記誘導部材を移動させるように構成された駆動部をさらに備え、
    前記制御部は、前記誘導部材が前記吐出口に対して相対的に下降するように前記ノズル及び前記誘導部材の少なくとも一方を移動させつつダミー吐出の終了時又は終了直前に前記ノズル内の前記処理液を吸引させるように前記処理液供給部及び前記駆動部を制御することをさらに含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の装置。
11. ノズルの平坦な下端面が基板の表面に近接した状態で、前記下端面に設けられた吐出口から処理液を前記表面に本吐出させることと、
    誘導部材が前記吐出口の近傍にある状態で、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出することとを含む液処理方法。
12. 前記吐出口から前記処理液をダミー吐出することは、
    前記誘導部材が前記吐出口の直下にある状態で、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出すること、
    前記吐出口と連通するように筒状の前記誘導部材が前記下端面に当接した状態で、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出すること、又は、
    前記誘導部材が前記吐出口の内部に挿通された状態で、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出することを含む、請求項１１に記載の方法。
13. 前記吐出口から前記処理液をダミー吐出することは、前記誘導部材が前記吐出口の近傍にある状態から前記誘導部材が前記吐出口に対して相対的に下降するように前記ノズル及び前記誘導部材の少なくとも一方を移動させつつ、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出することを含む、請求項１１又は１２に記載の方法。
14. 前記吐出口から前記処理液をダミー吐出することは、前記誘導部材が前記吐出口の近傍にある状態で且つ前記誘導部材が回転した状態で、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出することを含む、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
15. 前記吐出口から前記処理液をダミー吐出することは、筒状を呈する前記誘導部材が前記吐出口の近傍にある状態で且つ前記誘導部材の内部から流体を吸引する吸引動作をしている状態で、前記吐出口から前記処理液を前記誘導部材に向けてダミー吐出することを含む、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
16. 前記誘導部材の表面には、前記表面の濡れ性を高める表面処理が施されている、請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
17. 前記誘導部材の少なくとも上端部は凹凸形状を呈している、請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
18. 本吐出前又は本吐出後の前記吐出口の周囲に溶剤を供給することをさらに含む、請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
19. 前記溶剤を供給することは、前記誘導部材が前記吐出口の直下にある状態で、本吐出後の前記吐出口の周囲に前記溶剤を供給することを含む、請求項１８に記載の方法。
20. 前記誘導部材が前記吐出口に対して相対的に下降するように前記ノズル及び前記誘導部材の少なくとも一方を移動させつつダミー吐出の終了時又は終了直前に前記ノズル内の前記処理液を吸引することをさらに含む、請求項１１〜１９のいずれか一項に記載の方法。
21. 請求項１１〜２０のいずれか一項に記載の液処理方法を液処理装置に実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。

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