JPH0638239U - 基板の位置決め装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 位置決め部材への塗布液の付着に起因するパ
ーティクル発生や位置決め精度の低下を回避する。 【構成】 表面に薄膜が形成された角型基板の端面に当
接して位置決めを行う位置決め部材１７を設けた基板の
位置決め装置において、位置決め終了後に角型基板の端
面から離間した状態で、位置決め部材１７を構成するピ
ン１９に対して、その基板端面と接触した箇所に溶剤ノ
ズル２１から溶剤を吹き付けて付着した塗布液を溶解す
るとともに、その溶解物をガスノズル２２から吐出した
ガスにより吹き飛ばして除去する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、フォトレジスト塗布液や感光性ポリイミド樹脂やカラーフィルター 用の染色剤といった薄膜が表面に形成された半導体ウエハや液晶用のガラス基板 やフォトマスク用のガラス基板やサーマルヘッド製造用のセラミック基板などの 基板に対し、その薄膜形成後の基板の端面に当接して位置決めを行う位置決め部 材を設けた基板の位置決め装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

上述のような基板の位置決め装置としては、従来、特開昭５８−１５５１４０ 号公報に開示されているものがあった。 この公知例によれば、角型基板の４辺のうちの２辺にそれぞれ当接するように 固定ピンが設けられ、一方、それに対向する２辺側に、角型基板を固定ピン側に 押圧するように移動する可動ピンとが設けられ、その可動ピンと固定ピンとを角 型基板の４辺に当接させることによって角型基板を所定位置に位置させるように 構成されている。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上述した公知例の場合、その薄膜形成後の角型基板において、 表面のみならず端面にも塗布液が付着しているため、位置決めに際して可動ピン および固定ピンそれぞれが角型基板の端面に当接するに伴い、塗布液が可動ピン および固定ピンそれぞれに付着する。

【０００４】 このため、次の角型基板の位置決めを行うときに、可動ピンおよび固定ピンそ れぞれに付着した塗布液の一部が剥離してパーティクルとなり、角型基板の表面 を汚染する虞があった。また、位置決めの繰り返しに伴い、可動ピンおよび固定 ピンそれぞれに塗布液が付着していってピン径が大きくなり、位置決め精度が低 下する欠点があった。

【０００５】 本考案は、このような事情に鑑みてなされたものであって、請求項１に係る考 案の基板の位置決め装置は、位置決め部材への塗布液の付着に起因するパーティ クル発生や位置決め精度の低下を回避できるようにすることを目的とし、また、 請求項２に係る考案の基板の位置決め装置は、付着した塗布液を効率良く除去で きるようにすることを目的とし、また、請求項３に係る考案の基板の位置決め装 置は、除去した溶解物を飛散無く回収できるようにすることを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】

請求項１に係る考案の基板の位置決め装置は、上述のような目的を達成するた めに、表面に薄膜が形成された基板の端面に当接して位置決めを行う位置決め部 材を設けた基板の位置決め装置において、位置決め終了後に基板の端面から離間 した状態で、位置決め部材の基板端面と接触した箇所を洗浄する洗浄手段を設け て構成する。

【０００７】 また、請求項２に係る考案の基板の位置決め装置は、上述のような目的を達成 するために、請求項１に記載の洗浄手段を、位置決め部材の基板端面と接触した 箇所に溶剤を吹き付ける溶剤供給手段で構成する。

【０００８】 使用する溶剤としては、フォトレジスト塗布液を溶解する場合には、アセトン 、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブ チルケトンなどのケトン類や、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、蟻 酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどのエス テル類や、トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水 素類や、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチ ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエーテル 類や、ジメチルホルムアミドやジメチルスルホキサイドなどを用いることができ る。また、染色剤を溶解する場合には、30〜60℃の温湯や、メタノール、エタノ ール、プロパノールなどの低級アルコールや、アセトンなどを用いることができ 、そして、これらの液体中に角型基板との濡れを良くするために界面活性剤を添 加しても良い。

【０００９】 また、請求項３に係る考案の基板の位置決め装置は、上述のような目的を達成 するために、請求項２に記載の洗浄手段を、溶剤供給手段で吹き付けられた溶剤 によって溶解された溶解物を吹き飛ばすガスノズルと、吹き飛ばされた溶解物を 排出回収する回収手段を備えて構成する。 ガスノズルから供給するガスとしては、窒素ガスなどの不活性ガスや空気を用 いることができる。

【００１０】

【作用】

請求項１に係る考案の基板の位置決め装置の構成によれば、位置決めのために 基板の端面との当接によって塗布液が付着しても、その付着した塗布液を洗浄手 段によって洗浄除去することができる。

【００１１】 また、請求項２に係る考案の基板の位置決め装置の構成によれば、位置決め部 材に付着した塗布液を溶剤の吹き付けにより溶解して除去することができる。

【００１２】 また、請求項３に係る考案の基板の位置決め装置の構成によれば、溶剤によっ て溶解された溶解物をガスノズルからガスを吐出することにより吹き飛ばして回 収除去することができる。

【００１３】

【実施例】

次に、本考案の実施例を図面を用いて説明する。

【００１４】 ＜第１実施例＞ 図１は、本考案の実施例に係る基板の位置決め装置を備えた基板端縁洗浄装置 の一部切欠全体概略側面図であり、回転塗布によって表面に薄膜が形成された角 型基板１を載置保持する基板保持手段２の周囲に基板端縁洗浄具３が備えられて 、基板端縁洗浄装置４が構成されている。

【００１５】 基台Ｂに、第１および第２のエアシリンダ５，６と、ガイド７，７とを介して プレート支持台８が昇降可能に設けられるとともに、そのプレート支持台８に、 角型基板１を真空吸着によって載置保持する基板載置プレート９が一体的に設け られ、前記基板保持手段２が構成されている。

【００１６】 前記基板端縁洗浄具３は、角型基板１の表面に溶剤を吐出する第１の溶剤ノズ ル１０ａと、角型基板１の裏面に溶剤を吐出する第２の溶剤ノズル１０ｂと、第 １および第２の溶剤ノズル１０ａ，１０ｂから供給された溶剤によって溶解され た溶解物を吹き飛ばす第１および第２のガスノズル１１ａ，１１ｂとから構成さ れ、それらの第１および第２の溶剤ノズル１０ａ，１０ｂ、ならびに、第１およ び第２のガスノズル１１ａ，１１ｂが、電動モータ１２によって駆動されるベル ト１３に一体的に移動するように取り付けられていて、角型基板１の端縁に沿っ て移動しながら、その端縁に付着した不用薄膜を溶解除去するように構成されて いる。

【００１７】 基台Ｂの所定箇所に、第３のエアシリンダ１４を介して昇降可能に支持プレー ト１５が設けられるとともに、その支持プレート１５に第４のエアシリンダ１６ を介して、角型基板１の端面に当接して位置決めを行う位置決め部材１７が水平 方向に移動可能に設けられ、基板保持手段２に所定の姿勢で角型基板１を載置保 持できるように位置決め装置が構成されている。

【００１８】 位置決め部材１７は、先端を下方側に曲げたＬ字アーム１８ａの先端に連接し た支持アーム１８ｂに、下方に突出する状態で一対のピン１９，１９を連接して 構成されている。そして、第４のエアシリンダ１６を短縮した状態のピン１９， １９それぞれの下方に相当する箇所に、ピン１９，１９を挿入するカップ２０が 設けられ、そのカップ２０，２０それぞれに、図３の（ｂ）の一部切欠斜視図に 示すように、溶剤を吹き付ける溶剤供給手段としての溶剤ノズル２１と、窒素ガ スを供給するガスノズル２２と、回収手段としてのドレン管２３とが接続され、 ピン１９，１９それぞれをカップ２０内に挿入した状態で、ピン１９の角型基板 １の端面と接触した箇所に溶剤を吹き付けて付着した塗布液Ｙを溶解し、その溶 解物を窒素ガスによって吹き飛ばし、溶剤および溶解物をドレン管２３を介して 回収するように洗浄手段２４が構成されている。

【００１９】 次に、位置決め部材１７による位置決め動作、その位置決め部材１７に対する 洗浄処理動作につき、図２および図３の概略斜視図を用いて説明する。

【００２０】 通常時には、図２の（ａ）に示すように、常に初期位置で停止していて、基板 位置決めに際し、先ず、図２の（ｂ）に示すように、第４のエアシリンダ１６を 所定量伸長して位置決め部材１７を基板保持手段２側に移動し、その後に、図２ の（ｃ）に示すように、第３のエアシリンダ１４を短縮して所定位置まで下降さ せてから、更に、第４のエアシリンダ１６をストロークエンドまで伸長して位置 決め部材１７を角型基板１の端面に当接する位置決め位置に移動する。

【００２１】 １枚の角型基板１に対する位置決めが終了すると、第４のエアシリンダ１６を 所定量短縮して所定位置まで戻してから、第３のエアシリンダ１４を伸長して上 昇するとともに第４のエアシリンダ１６を短縮して初期位置に戻す。

【００２２】 次いで、図３の（ａ）および（ｂ）に示すように、第３のエアシリンダ１４を 短縮して位置決め部材１７を下降し、ピン１９，１９それぞれをカップ２０内に 挿入し、前述したように、溶剤を吹き付けるとともに窒素ガスを吹き付け、ピン １９，１９に付着した塗布液を溶解除去して回収する。その後、窒素ガスの吹き 付けを継続することにより、ピン１９，１９を乾燥し、その乾燥終了後に、第３ のエアシリンダ１４を伸長して位置決め部材１７を初期位置に戻しておく。

【００２３】 これらの処理により、角型基板１の端面に当接して位置決めを行うときに、常 に、塗布液の付着していない状態のピン１９を角型基板１に当接させることがき るのである。

【００２４】 上記第１実施例では、位置決め部材１７を初期位置から位置決め位置に移動す るのに、水平方向に移動してから下降させるように構成し、位置決め位置と洗浄 箇所との間に、前述のような基板端縁洗浄装置を入れ込ませる空間Ｓを確保でき るようにしているが、それらの装置に邪魔されない場合であれば、図４の第２実 施例の概略斜視図に示すように、単に位置決め部材１７を水平方向にのみ移動さ せるだけで初期位置から位置決め位置に移動させるように構成しても良い。洗浄 のための動作は第１実施例と同じである。

【００２５】 位置決め部材１７としては、前述第１実施例のような、支持アーム１８ｂを、 先端を下方側に曲げたＬ字アーム１８ａの先端に連接する構成のものに限らず、 図５の（ａ）の概略斜視図に示すように、直杆状のアーム２５に支持アーム１８ ｂを連接するとか、また、図５の（ｂ）の概略斜視図に示すように、先端を上方 側に曲げたＬ字アーム２６の先端に連接するなど、各種の変形が可能である。

【００２６】 図６は第３実施例を示す概略斜視図であり、前記カップ２０に代えて溶剤を貯 留する溶剤容器２７を設け、ピン１９を溶剤中に浸漬することによって付着した 塗布液を溶解除去できるように構成されている。

【００２７】 洗浄手段２４としては、図７の（ａ）の概略側面図に示すように、洗浄ブラシ ２８を設け、その洗浄ブラシ２８に対してピン１９を回転し、付着した塗布液を 除去するように構成するとか、あるいは、図７の（ｂ）の概略側面図に示すよう に、洗浄用の布２９を設け、その布２９に対してピン１９を回転し、付着した塗 布液を除去するように構成するなど、各種の変形が可能である。

【００２８】 本考案としては、角型基板１の位置決め装置に限らず、円形基板に対して位置 決めを行う装置に対しても適用できる。

【００２９】

【考案の効果】

以上の説明から明らかなように、請求項１に係る考案の基板の位置決め装置に よれば、位置決め部材に付着した塗布液を洗浄手段によって洗浄除去するから、 塗布液が付着したままで位置決め部材を基板に当接することを回避でき、位置決 め部材への塗布液付着に起因するパーティクルの発生、ならびに、塗布液の付着 成長による位置決め精度の低下のいずれをも回避でき、基板の位置決めを良好に 行うことができるようになった。

【００３０】 また、請求項２に係る考案の基板の位置決め装置によれば、位置決め部材に付 着した塗布液を溶剤の吹き付けにより溶解し、自然溶解と吹き付け力とを利用し て除去するから、例えば、溶剤を溜めた容器中に浸漬して溶解させる場合に比べ て、付着した塗布液を効率良く除去できるようになった。

【００３１】 また、請求項３に係る考案の基板の位置決め装置によれば、溶剤によって溶解 された溶解物をガスノズルからガスを吐出することにより吹き飛ばして回収除去 するから、付着した塗布液を一層効率良く除去でき、しかも、除去した溶解物を 周囲に飛散させること無く良好に回収できるようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の実施例に係る基板の位置決め装置を備
えた基板端縁洗浄装置の一部切欠全体概略側面図であ
る。

【図２】洗浄処理動作を説明する概略斜視図である。

【図３】洗浄処理動作を説明する概略斜視図である。

【図４】第２実施例の概略側面図である。

【図５】位置決め部材の変形例を示す概略斜視図であ
る。

【図６】第３実施例を示す要部の一部切欠側面図であ
る。

【図７】洗浄手段別の実施例を示す要部の側面図であ
る。

【符号の説明】

１…角型基板 １７…位置決め部材 ２１…溶剤供給手段としての溶剤ノズル ２２…ガスノズル ２３…回収手段としてのドレン管

Claims (3)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に薄膜が形成された基板の端面に当
   接して位置決めを行う位置決め部材を設けた基板の位置
   決め装置において、 位置決め終了後に前記基板の端面から離間した状態で、
   前記位置決め部材の基板端面と接触した箇所を洗浄する
   洗浄手段を設けたことを特徴とする基板の位置決め装
   置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の洗浄手段が、位置決め
   部材の基板端面と接触した箇所に溶剤を吹き付ける溶剤
   供給手段である基板の位置決め装置。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の洗浄手段が、溶剤供給
   手段で吹き付けられた溶剤によって溶解された溶解物を
   吹き飛ばすガスノズルと、吹き飛ばされた溶解物を排出
   回収する回収手段を備えたものである基板の位置決め装
   置。