JP2019197061A5

JP2019197061A5 -

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Publication number: JP2019197061A5
Application number: JP2019118340A
Authority: JP
Filing date: 2019-06-26
Publication date: 2020-09-10

Claims

時計ムーブメント用のピボット軸（１）であって、磁場に対する感受性を限定するために、第１の非磁性の金属素材（４）からなる少なくとも１つのピボット（３）を少なくとも１つの端部に備え、少なくとも前記ピボット（３）の外面は、Ｎｉ、ＮｉＢおよびＮｉＰ、および好ましくは化学ＮｉＰを含む群から選択される第２の素材の第１の層（５）によって被膜され、少なくとも前記第２の素材の前記第１の層（５）は、金、銀、銅、白金、ロジウム、パラジウムおよびそれらの合金を含む群から選択される第３の素材の第２の層（６）によって少なくとも部分的に被膜されることを特徴とする、ピボット軸（１）。
請求項１に記載のピボット軸（１）であって、前記ピボット軸（１）は磁場に対する感受性を限定するために、第１の非磁性の金属素材からなり、前記外面はＮｉ、ＮｉＢおよびＮｉＰ、および好ましくは化学ＮｉＰを含む群から選択される第２の素材の第１の層によって被膜されることを特徴とし、前記第２の素材の前記第１の層は、金、銀、銅、白金、ロジウム、パラジウムおよびそれらの合金を含む群から選択される第３の素材の第２の層によって少なくとも部分的に被膜されることを特徴とする、ピボット軸（１）。
請求項１または２のいずれかに記載のピボット軸（１）であって、前記第１の非磁性の金属素材（４）は、オーステナイト鋼、オーステナイトコバルト合金、オーステナイトニッケル合金、チタニウム合金、アルミニウム合金、銅および亜鉛系真ちゅう、ベリリウム銅、ニッケル銀、青銅、アルミニウム青銅、銅−アルミニウム、銅−ニッケル、銅−ニッケル−スズ、銅−ニッケル−ケイ素、銅−ニッケル−リン、銅−チタニウムを含む群から選択されることを特徴とする、ピボット軸（１）。
前記第１の非磁性の金属素材（４）は６００ＨＶ未満の硬度を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１つに記載のピボット軸（１）。
請求項１〜４のいずれか１つに記載のピボット軸（１）であって、前記第２の素材の第１の層（５）は、０．５μｍから１０μｍ、好ましくは１μｍから５μｍ、およびより好ましくは１μｍから２μｍの厚さを有することを特徴とする、ピボット軸（１）。
請求項１〜５のいずれか１つに記載のピボット軸（１）であって、前記第２の素材の第１の層（５）は、４００ＨＶを超える硬度、好ましくは５００ＨＶを超える硬度を有することを特徴とする、ピボット軸（１）。
請求項１〜６のいずれか１つに記載のピボット軸（１）であって、前記第３の素材の第２の層（６）は、０．１μｍから１μｍ、好ましくは０．１μｍから０．５μｍの厚さを有することを特徴とする、ピボット軸（１）。
請求項１〜７のいずれか１つに記載のピボット軸（１）であって、前記第１の非磁性の金属素材（４）はベリリウム銅合金であり、前記第２の素材の第１の層（５）は化学ＮｉＰ層であり、前記第３の素材の第２の層（６）は金層であることを特徴とする、ピボット軸（１）。
請求項１〜７のいずれか１つに記載のピボット軸（１）であって、前記第１の非磁性の金属素材（４）は銅−ニッケル−スズ合金であり、前記第２の素材の第１の層（５）は化学ＮｉＰ層であり、前記第３の素材の第２の層（６）は金層であることを特徴とする、ピボット軸（１）。
請求項１〜７のいずれか１つに記載のピボット軸（１）であって、前記第１の非磁性の金属素材（４）はステンレス鋼であり、前記第２の素材の層（５）は化学ＮｉＰ層であり、前記第３の素材の第２の層（６）は金層であることを特徴とする、ピボット軸（１）。
時計ムーブメントであって、前記ムーブメントは、請求項１〜１０のいずれか１つに記載のピボット軸（１）を備えることを特徴とする、時計ムーブメント。
時計ムーブメントであって、前記ムーブメントは、請求項１〜１０のいずれか１つに記載のピボット軸（１）を備えるテン真、アンクル真および／またはガンギかなを備えることを特徴とする、時計ムーブメント。
時計ムーブメント用のピボット軸（１）を製造する方法であって、
ａ）第１の非磁性の金属素材（４）からなる少なくとも１つのピボット（３）を１つの端部に備えるピボット軸（１）を形成するステップと、
ｂ）第２の素材の第１の層（５）を少なくとも前記ピボット（３）の外面に蒸着するステップであって、前記第２の素材はＮｉ、ＮｉＢおよびＮｉＰを含む群から選択されるステップと、
ｃ）少なくとも部分的に前記第２の素材の前記第１の層（５）に、金、銀、銅、白金、ロジウム、パラジウムおよびそれらの合金を含む群から選択される第３の素材の第２の層（６）を蒸着するステップと、
を含む、方法。
請求項１３に記載の方法であって、前記第２の素材の第１の層（５）は、０．５μｍから１０μｍ、好ましくは１μｍから５μｍ、より好ましくは１μｍから２μｍの厚さを示すように蒸着されることを特徴とする、方法。
請求項１３または１４のいずれか１つに記載の方法であって、前記第２の素材の第１の層（５）を蒸着するステップｂ）は、ＰＶＤ、ＣＶＤ、ＡＬＤ、電気メッキおよび化学蒸着を含む群から選択される方法によって実現されることを特徴とする、方法。
請求項１５に記載の方法であって、前記第２の素材はＮｉＰであり、前記ＮｉＰ層（５）を蒸着する前記ステップは、次亜リン酸塩からの化学ニッケル蒸着プロセスによって生成されることを特徴とする、方法。
請求項１３〜１６のいずれか１つに記載の方法であって、前記第３の素材の第２の層（６）は０．１μｍから１μｍ、好ましくは０．１μｍから０．５μｍの厚さを示すように蒸着されることを特徴とする、方法。
請求項１３〜１７のいずれか１つに記載の方法であって、前記第３の素材の第２の層（６）を蒸着するステップｃ）は、ＰＶＤ、ＣＶＤ、および電気メッキを含む群から選択される方法によって実現されることを特徴とする、方法。
請求項１３〜１８のいずれか１つに記載の方法であって、前記第２の素材はＮｉＰまたはＮｉＢであり、前記方法はさらに、ステップｂ）とｃ）の間、および／またはステップｃ）の後に、熱処理ステップｄ）を含むことを特徴とする、方法。