JP2011522964A - 基板上へのコーティングの迅速な蒸着方法 - Google Patents
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Abstract
Description
マイクロエレクトロニクス用途やプラスチックコーティング用途を含む様々な種類の用途において、薄膜蒸着層を形成するために、通常、蒸着技術が用いられている。一用途では、ガラス、セラミック、金属、もしくはプラスチック基板上への金属化合物の蒸着は、例えば微小電気機械システム(MEMS)などのようなマイクロエレクトロニクスシステムの分野において一般的に用いられている技術である。蒸着された金属化合物の一般的な形態としては、軟質金属、例えば、アルミニウム(Al)、亜鉛(Zn)、スズ(Sn)、およびそれらの合金など、が挙げられる。別の用途において、蒸着は、携帯電話、PDA、および携帯式ゲーム機などのカバー上に均一で薄い金属コーティングを形成するために使用される。
(1)スパッタリングは、金属化合物を基板上に蒸着するための既知の技術であり、当該技術においては、原子、イオン、または分子が粒子衝撃によってターゲット材料(スパッタターゲットとも呼ばれる)から放出され、放出された原子または分子が、基板表面上に薄膜として蓄積する。スパッタリングは、様々な金属皮膜をウェハー上に蒸着するために最も広く使用される技術の1つとなっている。しかしながら、スパッタリングは、比較的低エネルギーの蒸着プロセスであり、その結果、放出された粒子の蒸着は不均一となり、蒸着された層内の空隙形成の原因となる。したがって、蒸着された材料は、基板表面に対する不十分な接着性、低密度、および強度の減少といった問題を抱える。この問題は、高温でスパッタリングプロセスを実施することによっていくらかは改善できるが(例えば、300℃〜700℃の操作温度)、その一方で、その結果としてエネルギーコストが高くなり、さらに、プラスチック基板などの熱の影響を受けやすい基板に対しては、当該蒸着プロセスは適さない。
(2)蒸着された層と基板表面との間の不十分な接着は、完成製品においての「チッピング」の問題につながる。
(3)スパッタリングは、基板中に不純物を導入しやすい傾向を有する。
一局面により、基板上にコーティングを蒸着する方法であって、
(a)カソーディック真空アーク(CVA)蒸着工程を実施することによって基板上に材料を蒸着する工程;および
(b)CVA蒸着以外の、化学蒸着(CVD)工程および物理蒸着(PVD)工程の少なくとも1つを実施することによって基板上に材料を蒸着する工程
を含み、工程(b)において蒸着された材料の厚さが、工程(a)において蒸着された材料の厚さよりも大きい方法を提供する。
(c)フィルタード真空カソーディックアーク蒸着工程を実施することによって基板上に硬質材料の第一の層を蒸着する工程;および
(d)スパッタリング工程を実施することによって、基板上に硬質材料の第二の層を蒸着する工程
を含む方法を提供する。
(e)フィルタード真空カソーディックアーク蒸着工程を実施することによって基板上に硬質金属の第一の層を蒸着する工程;
(f)スパッタリング工程を実施することによって第一の硬質金属層上に硬質金属の第二の層を蒸着する工程;および
(g)任意で、後続の硬質金属層を形成するために工程(e)および(f)を交互に繰り返す工程
を含む方法を提供する。したがって、有利なことには、結果として得られる金属コーティングは、耐摩耗性で、外部からの衝撃に対して容易には変形または欠けの生じない硬質金属層を含む。
本明細書において使用される以下の言葉および用語は、以下に示された意味を有するものとする。
ここで、迅速にコーティングを基板上に蒸着するための方法の例示的で非限定的な態様について開示する。
ここで図1を参照すると、蒸着されたパターン層33の概略図が示されている。当該概略図は、互いに連続して交互に蒸着されているクロム(Cr)および窒化クロム(CrN)の層を示している。最も内側のCr層42は、FCVA蒸着によってプラスチック基板12の表面上に直接蒸着される。Cr層42の厚さは、通常、約0.02ミクロンである。有利なことに、これの実施において、熱の影響を受けやすいプラスチック基板は、その後に続いて実施される後続の層のスパッタリング蒸着によって生じる高温から部分的に断熱されるであろう。より有利なことに、FCVA層42は、基板表面12aに対して強い接着性を有する。さらにより有利なことに、最下層のCr層42の稠密で均一な粒子配列は、CrまたはCrNのその後の蒸着のための理想的なシーディング層(seeding layer)を提供する。次いで、下から2番目のCrN層44も、FCVA蒸着によって最も内側のCr層42の上に蒸着される。
開示された方法は、プラスチック基板、金属基板、ガラス基板、セラミック基板、およびプラスチック基板などの様々な基板表面上に、硬質金属および硬質金属化合物を迅速に蒸着するために使用され得る。
Claims (14)
- (a)カソーディック真空アーク(CVA)蒸着工程を実施することによって基板上に材料を蒸着する工程;および
(b)CVA蒸着以外の、化学蒸着(CVD)工程および物理蒸着(PVD)工程の少なくとも1つを実施することによって基板上に材料を蒸着する工程
を含む、基板上にコーティングを蒸着する方法であって、工程(b)において蒸着された材料の厚さが、工程(a)において蒸着された材料の厚さよりも大きい、方法。 - 工程(a)が、フィルタード真空カソーディックアーク蒸着(FVCA)工程を実施することによって、基板上に材料を蒸着する工程を含む、請求項1記載の方法。
- 工程(b)が、FVCA工程よりも急速に材料を蒸着するPVD工程を含む、請求項2記載の方法。
- 工程(b)が、スパッタリング工程を含む、請求項3記載の方法。
- 後続の層を形成するために、(a)および(b)の少なくとも1つの工程を交互に繰り返す工程をさらに含む、請求項1記載の方法。
- 前記材料が、硬質金属、硬質金属化合物、および炭素のうちの少なくとも1種類を含む、請求項1記載の方法。
- 前記硬質金属化合物が、硬質金属酸化物、硬質金属炭化物、硬質金属窒化物、硬質金属炭窒化物、硬質金属ケイ化物、および硬質金属ホウ化物のうちの少なくとも1種類である、請求項6記載の方法。
- 前記材料が、軟質金属、軟質金属化合物、および炭素のうちの少なくとも1種類を含む、請求項1記載の方法。
- 前記軟質金属化合物が、軟質金属酸化物、軟質金属炭化物、軟質金属窒化物、軟質金属炭窒化物、軟質金属ケイ化物、および軟質金属ホウ化物のうちの少なくとも1種類である、請求項8記載の方法。
- スパッタリング工程が、FCVA工程よりも大きな厚さ寸法を有する材料の層を蒸着する、請求項4記載の方法。
- スパッタリング工程が、FCVA工程によって蒸着される層の厚さ寸法の2〜10倍の厚さ寸法を有する材料の層を蒸着する、請求項10記載の方法。
- FCVA蒸着層が、基板上に直接蒸着される、請求項2記載の方法。
- スパッタリング工程が、約0.1ミクロン〜約1ミクロンの範囲の厚さの材料層を蒸着する、請求項4記載の方法。
- FCVA工程が、約0.01ミクロン〜約0.2ミクロンの範囲の厚さの材料層を蒸着する、請求項4記載の方法。
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