JP2019192872A - プラズマ処理装置、及び電源制御方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[プラズマ処理装置の構成]
図1は、第1実施形態に係るプラズマ処理装置10を概略的な構成を示す概略断面図である。プラズマ処理装置10は、処理容器12を備えている。処理容器12は、略円筒形状を有している。処理容器12は、プラズマが生成される処理空間を画成する。処理容器12は、例えばアルミニウムから構成されている。処理容器12は、接地電位に接続されている。処理容器12の内壁面には、耐プラズマ性を有する膜が形成されている。この膜は、陽極酸化処理によって形成された膜、又は、酸化イットリウムから形成された膜といったセラミック製の膜であり得る。また、処理容器12の側壁には通路12pが形成されている。被処理体であるウェハWが処理容器12に搬入されるとき、また、ウェハWが処理容器12から搬出されるときに、ウェハWは通路12pを通過する。この通路12pの開閉のために、ゲートバルブ12gが処理容器12の側壁に沿って設けられている。
次に、本実施形態に係るプラズマ処理装置10を用いた電源制御方法について説明する。図4は、第1実施形態に係る電源制御方法の流れの一例を示すフローチャートである。この電源制御方法は、所定のタイミング、例えば、ウェハWに対するプラズマ処理が開始されるタイミングで実行される。
[プラズマ処理装置の構成]
次に、第2実施形態について説明する。第2実施形態に係るプラズマ処理装置10は、図1に示した第1実施形態に係るプラズマ処理装置10の構成と同様であるため、その詳細な説明を省略する。ここでは、第2実施形態に係る制御部100について詳細に説明する。
次に、本実施形態に係るプラズマ処理装置10を用いた電源制御方法について説明する。図10は、第2実施形態に係る電源制御方法の流れの一例を示すフローチャートである。この電源制御方法は、所定のタイミング、例えば、ウェハWに対するプラズマ処理を開始するタイミングで実行される。
16 載置台
18 基台
70 直流電源
100 制御部
111 取得部
112 測定部
113 算出部
114 電源制御部
130 記憶部
131 電圧測定値テーブル
W ウェハ
Claims (9)
- プラズマ処理の対象となる被処理体が載置され、下部電極として機能する載置台と、
前記載置台に印加される正の直流電圧及び負の直流電圧を交互に発生する直流電源と、
前記載置台に載置された被処理体の電圧を測定する測定部と、
前記測定された被処理体の電圧に基づいて、前記載置台に負の直流電圧が印加される期間における、前記載置台と前記被処理体との間の電位差を算出する算出部と、
前記載置台に印加される負の直流電圧の値が前記算出された電位差を減少させるシフト量だけシフトするように前記直流電源を制御する電源制御部と、
を有することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記電源制御部は、前記載置台に印加される正の直流電圧及び負の直流電圧の絶対値の総和を維持しつつ、前記載置台に印加される負の直流電圧の値がシフトするように前記直流電源を制御することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記電源制御部は、前記載置台と前記被処理体との間の電位差が所定の閾値よりも小さい場合に、前記載置台に正の直流電圧及び負の直流電圧が印加される1周期の期間に対する、前記載置台に負の直流電圧が印加される期間の比率が変更されるように前記直流電源を制御することを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記電源制御部は、前記載置台と前記被処理体との間の電位差が所定の閾値よりも小さい場合に、前記載置台に印加される正の直流電圧及び負の直流電圧の絶対値の総和が変更されるように前記直流電源を制御することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載のプラズマ処理装置。
- 前記電源制御部は、前記載置台と前記被処理体との間の電位差が所定の閾値よりも小さい場合に、前記載置台に印加される正の直流電圧及び負の直流電圧の周波数が変更されるように前記直流電源を制御することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載のプラズマ処理装置。
- 前記載置台に印加されるべき正の直流電圧及び負の直流電圧の絶対値の総和を取得する取得部をさらに有し、
前記直流電源は、前記取得された絶対値の総和が予め定められた割合で分配されて得られた正の直流電圧の絶対値と負の直流電圧の絶対値とを初期値として有する正の直流電圧及び負の直流電圧を前記載置台に交互に印加することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載のプラズマ処理装置。 - 前記算出部は、前記測定された被処理体の電圧に基づいて、前記載置台に負の直流電圧が印加される期間における、前記載置台と前記被処理体との間の第1の電位差と、前記載置台に正の直流電圧が印加される期間における、前記載置台と前記被処理体との間の第2の電位差とを算出し、
前記電源制御部は、前記載置台に印加される負の直流電圧の値が前記算出された第1の電位差及び第2の電位差の両方を減少させるシフト量だけシフトするように前記直流電源を制御することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記載置台に印加されるべき正の直流電圧及び負の直流電圧の絶対値の総和ごとに、前記載置台に負の直流電圧が印加される期間において予め測定された前記被処理体の電圧の測定値を対応付けて記憶する電圧測定値テーブルを記憶する記憶部と、
前記載置台に印加されるべき正の直流電圧及び負の直流電圧の絶対値の総和を取得する取得部と、をさらに有し、
前記測定部は、前記電圧測定値テーブルを参照して、前記取得された絶対値の総和に対応する測定値を前記被処理体の電圧として測定することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - プラズマ処理の対象となる被処理体が載置され、直流電源から正の直流電圧及び負の直流電圧が交互に印加され、下部電極として機能する載置台に載置された被処理体の電圧を測定し、
前記測定された被処理体の電圧に基づいて、前記載置台に負の直流電圧が印加される期間における、前記載置台と前記被処理体との間の電位差を算出し、
前記載置台に印加される負の直流電圧の値が前記算出された電位差を減少させるシフト量だけシフトするように前記直流電源を制御する、
処理をコンピュータが実行することを特徴とする電源制御方法。
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