JP2019183828A - 真空装置、真空システム、デバイス製造装置、デバイス製造システム、及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
一つは、前記第2ポンプ作動部に接続され、前記第3ポンプ及び前記第4ポンプのうち他の一つは、第3ポンプ作動部に接続される。
図1は、電子デバイスの製造ラインの構成の一部を模式的に図示した平面図である。
図2は、真空装置(真空システム)が設置された成膜室11を模式的に示している。
る構成としてもよい。
図3乃至図5を参照して、本発明による真空装置/真空システムにおける、ポンプ(ポンプ部)とポンプ作動部との接続構造について説明する。
本発明の第1実施例に係る真空装置/真空システムは、二つのチャンバー(第1チャンバー及び第2チャンバー)の内部空間を真空排気するためのものであって、図3の(a)に示すように、第1チャンバーCH1(例えば、成膜室11a)に接続され、その内部空間を排気するための第1ポンプ部30と、第2チャンバーCH2(例えば、成膜室11b)に接続され、その内部空間を排気するための第2ポンプ部31とを含む。
図4は、本発明の第2実施例に係る真空装置/真空システムの配置と接続構造を模式的に示している。
とで、第1チャンバーCH1乃至第3チャンバーCH3が同等な圧力に維持されるようにする。
図5は、本発明の第3実施例により、各々がn個(nは4以上の整数)のチャンバーを真空排気するn個のポンプ部とn個のポンプ作動部との接続構造を模式的に示している。
ンプに対する第k+1ポンプ作動部の出力を増加させる。
図6は、有機EL表示パネルの製造ラインにおいて、本発明の技術的思想を適用した、ポンプ部とポンプ作動部との間の接続構造を模式的に示している。
膜室11cと第4成膜室11dとを通過しながら成膜処理が行われた後、下流側バッファー室16bに搬送される2つの流れで処理される。
られる真空装置/真空システムには、ポンプ作動部が含まれないが、パス室15にクライオポンプを設置してもよい。この場合、パス室15を他の二つのチャンバー(例えば、バッファー室16a、旋回室17)と共に、本発明の第2実施例に係る真空装置/真空システムで真空排気してもよく、他の一つのチャンバー(例えば、搬送室13)と共に、本発明の第1実施例による真空装置/真空システムで真空排気してもよい。
以下、本発明に係る真空装置/真空システムが用いられる有機EL表示パネルの製造ラインで、各チャンバーを真空排気する方法と、これを用いてデバイスを製造する方法について説明する。
程度になるように制御する。
12:マスクストックチャンバー
13:搬送室
14:搬送ロボット
15:パス室
16:バッファー室
20:クライオポンプ
20a、20b、20c、20d、20e、20f:第1ポンプ〜第6ポンプ
21:ラフ排気用ポンプ
22:ポンプ作動部
22a、22b、22c:第1ポンプ作動部〜第3ポンプ作動部
23:冷媒配管
24:制御部
25:冷媒圧力センサ
30:第1ポンプ部
31:第2ポンプ部
32:第3ポンプ部
Claims (29)
- 複数の処理空間を排気するための真空装置であって、
各々が前記複数の処理空間のいずれか一つを排気する複数のポンプ部と、
各々が前記複数のポンプ部の少なくとも一つに接続され、ポンプを作動させる複数のポンプ作動部とを含み、
前記複数のポンプ部の少なくとも一つは、互いに異なる2つ以上のポンプ作動部に接続され、
前記互いに異なる2つ以上のポンプ作動部の少なくとも一つは、互いに異なる2つ以上のポンプ部に接続される真空装置。 - 前記複数の処理空間のうち第1処理空間を排気するための第1ポンプ部は、第1ポンプと第2ポンプとを含み、
前記第1ポンプと前記第2ポンプのいずれか一つは、前記複数のポンプ作動部のうち第1ポンプ作動部に接続され、前記第1ポンプと前記第2ポンプのうち他の一つは、第2ポンプ作動部に接続される請求項1に記載の真空装置。 - 複数の処理空間を排気するための真空装置であって、
各々が前記複数の処理空間のいずれか一つを排気する複数のポンプ部と、
各々が前記複数のポンプ部の少なくとも一つに接続され、ポンプを作動させる複数のポンプ作動部とを含み、
前記複数の処理空間のうち第1処理空間を排気するためのポンプ部は、第1ポンプと第2ポンプとを含み、
前記第1ポンプと前記第2ポンプのいずれか一つは、前記複数のポンプ作動部のうち第1ポンプ作動部に接続され、前記第1ポンプと前記第2ポンプのうち他の一つは、第2ポンプ作動部に接続され、
前記複数の処理空間のうち第2処理空間を排気するためのポンプ部は、第3ポンプを含み、
前記第3ポンプは、前記第2ポンプ作動部に接続される真空装置。 - 前記第2処理空間を排気するためのポンプ部は、第4ポンプをさらに含み、
前記第4ポンプは、前記第1ポンプ作動部に接続される請求項3に記載の真空装置。 - 複数の処理空間を排気するための真空装置であって、
各々が前記複数の処理空間のいずれか一つを排気する複数のポンプ部と、
各々が前記複数のポンプ部の少なくとも一つに接続され、ポンプを作動させる複数のポンプ作動部とを含み、
前記複数の処理空間のうち第1処理空間を排気するためのポンプ部は、第1ポンプと第2ポンプとを含み、
前記第1ポンプと前記第2ポンプのいずれか一つは、前記複数のポンプ作動部のうち第1ポンプ作動部に接続され、前記第1ポンプと前記第2ポンプのうち他の一つは、第2ポンプ作動部に接続され、
前記複数の処理空間のうち第2処理空間を排気するためのポンプ部は、第3ポンプと第4ポンプとを含み、
前記第3ポンプ及び前記第4ポンプのいずれか一つは、前記第2ポンプ作動部に接続され、前記第3ポンプ及び前記第4ポンプのうち他の一つは、第3ポンプ作動部に接続される真空装置。 - 前記複数の処理空間のうち第3処理空間を排気するためのポンプ部は、第5ポンプと第6ポンプとを含み、
前記第5ポンプ及び前記第6ポンプのいずれか一つは、前記第3ポンプ作動部に接続され、前記第5ポンプ及び前記第6ポンプのうち他の一つは、前記第1ポンプ作動部に接続される請求項5に記載の真空装置。 - 前記ポンプ作動部は、ポンプに電力又は圧縮冷媒を供給するための供給部である請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の真空装置。
- 前記ポンプは、冷凍機を有するクライオポンプを含み、
前記ポンプ作動部は、冷媒を圧縮して前記冷凍機に供給するためのコンプレッサーである請求項7に記載の真空装置。 - 複数の処理空間を排気するための真空システムであって、
請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の真空装置と、
前記真空装置を制御するための制御部とを含む真空システム。 - 前記制御部は、前記真空装置の複数のポンプ作動部の動作を制御する請求項9に記載の真空システム。
- 前記制御部は、前記複数の処理空間の圧力が同等になるように、前記複数のポンプ作動部を制御する請求項10に記載の真空システム。
- デバイス製造装置であって、
複数のチャンバーと、
各々が前記複数のチャンバーのいずれかに設けられる複数のポンプ部と、
各々が前記複数のポンプ部の少なくとも一つに接続され、ポンプを作動させる複数のポンプ作動部とを含み、
前記複数のポンプ部の少なくとも一つは、互いに異なる2つ以上のポンプ作動部に接続され、
前記互いに異なる2つ以上のポンプ作動部の少なくとも一つは、互いに異なる2つ以上のポンプ部に接続されるデバイス製造装置。 - 前記複数のチャンバーのうち第1チャンバーに設けられた第1ポンプ部は、第1ポンプと第2ポンプとを含み、
前記第1ポンプと前記第2ポンプのいずれか一つは、前記複数のポンプ作動部のうち第1ポンプ作動部に接続され、前記第1ポンプと前記第2ポンプのうち他の一つは、第2ポンプ作動部に接続される請求項12に記載のデバイス製造装置。 - デバイス製造装置であって、
複数のチャンバーと、
各々が前記複数のチャンバーのいずれかに設けられる複数のポンプ部と、
各々が前記複数のポンプ部の少なくとも一つに接続され、ポンプを作動させる複数のポンプ作動部とを含み、
前記複数のチャンバーのうち第1チャンバーに設けられたポンプ部は、第1ポンプと第2ポンプとを含み、
前記第1ポンプと前記第2ポンプのいずれか一つは、前記複数のポンプ作動部のうち第1ポンプ作動部に接続され、前記第1ポンプと前記第2ポンプのうち他の一つは、第2ポンプ作動部に接続され、
前記複数のチャンバーのうち第2チャンバーに設けられたポンプ部は、第3ポンプを含み、
前記第3ポンプは、前記第2ポンプ作動部に接続されるデバイス製造装置。 - 前記複数のチャンバーのうち第2チャンバーに設けられたポンプ部は、第4ポンプをさらに含み、
前記第4ポンプは、前記第1ポンプ作動部に接続される請求項14に記載のデバイス製造装置。 - 前記第1チャンバーと前記第2チャンバーとが、前記複数のチャンバーのうち第3チャンバーを介して、接続される請求項14または請求項15に記載のデバイス製造装置。
- 前記第1チャンバーと前記第2チャンバーは、有機材料を蒸着するための蒸着室であり、
前記第3チャンバーは、基板またはマスクを搬送するための搬送室である請求項16に記載のデバイス製造装置。 - デバイス製造装置であって、
複数のチャンバーと、
各々が前記複数のチャンバーのいずれかに設けられる複数のポンプ部と、
各々が前記複数のポンプ部の少なくとも一つに接続され、ポンプを作動させる複数のポンプ作動部とを含み、
前記複数のチャンバーのうち第1チャンバーに設けられたポンプ部は、第1ポンプと第2ポンプとを含み、
前記第1ポンプと前記第2ポンプのいずれか一つは、前記複数のポンプ作動部のうち第1ポンプ作動部に接続され、前記第1ポンプと前記第2ポンプのうち他の一つは、第2ポンプ作動部に接続され、
前記複数のチャンバーのうち第2チャンバーに設けられるポンプ部は、第3ポンプと第4ポンプとを含み、
前記第3ポンプ及び前記第4ポンプのいずれか一つは、前記第2ポンプ作動部に接続され、前記第3ポンプ及び前記第4ポンプのうち他の一つは、第3ポンプ作動部に接続されるデバイス製造装置。 - 前記複数のチャンバーのうち第3チャンバーに設けられるポンプ部は、第5ポンプと第6ポンプとを含み、
前記第5ポンプ及び前記第6ポンプのいずれか一つは、前記第3ポンプ作動部に接続され、前記第5ポンプ及び前記第6ポンプのうち他の一つは、前記第1ポンプ作動部に接続される請求項18に記載のデバイス製造装置。 - 前記第1チャンバーと前記第2チャンバーとが、前記複数のチャンバーのうち第3チャンバーを介して、接続される請求項18または請求項19に記載のデバイス製造装置。
- 前記第1チャンバー及び前記第2チャンバーは、使用前後のマスクが収納されるマスクストックチャンバーであり、
前記第3チャンバーは、基板またはマスクを搬送するための搬送室である請求項20に記載のデバイス製造装置。 - 前記ポンプ作動部は、ポンプに電力又は圧縮冷媒を供給するための供給部である請求項12から請求項21のいずれか一項に記載のデバイス製造装置。
- 前記ポンプは、冷凍機を有するクライオポンプを含み、
前記供給部は、冷媒を圧縮して前記冷凍機に供給するためのコンプレッサーである請求項22に記載のデバイス製造装置。 - デバイス製造システムであって、
請求項12から請求項23のいずれか一項に記載のデバイス製造装置と、
前記デバイス製造装置を制御するための制御部を含むデバイス製造システム。 - 前記制御部は、前記デバイス製造装置の複数のポンプ作動部の動作を制御する請求項24に記載のデバイス製造システム。
- 前記制御部は、前記デバイス製造装置の複数のチャンバー内の圧力が同等になるように、前記複数のポンプ作動部を制御する請求項24または請求項25に記載のデバイス製造システム。
- デバイスの製造方法であって、
複数のチャンバーのうちいずれか一つのチャンバーに設置された複数のポンプに、互いに異なる2つのポンプ作動部から高圧冷媒を供給する工程と、
前記複数のポンプで高圧冷媒を膨張させて前記一つのチャンバーを真空排気する工程と、
前記一つのチャンバー内の圧力を測定する工程と、
前記互いに異なる2つのポンプ作動部から前記複数のポンプに供給される冷媒の圧力を測定する工程と、
前記互いに異なる2つのポンプ作動部のいずれか一つのポンプ作動部から供給される冷媒の圧力が所定の範囲から外れる場合、前記互いに異なる二つのポンプ作動部の他の一つのポンプ作動部の出力を調整することで、前記複数のポンプが接続された前記一つのチャンバー内の圧力を所定の範囲内に維持するように制御する工程と、
を含むデバイスの製造方法。 - 前記冷媒の圧力を測定する工程は、前記一つのチャンバー内の圧力を測定する工程で測定された圧力が所定の範囲から外れる場合に行われる請求項27記載のデバイスの製造方法。
- 前記制御する工程では、前記複数のチャンバー内の圧力が同等になるように、前記複数のチャンバーのうち他のチャンバーに設けられた他のポンプに高圧冷媒を供給する他のポンプ作動部の出力も調整する請求項27または請求項28に記載のデバイスの製造方法。
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