CN110391151B - 真空装置、真空系统、设备制造装置、设备制造系统以及设备的制造方法 - Google Patents

真空装置、真空系统、设备制造装置、设备制造系统以及设备的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明的真空装置是用于对多个处理空间进行排气的真空装置，包括：分别对所述多个处理空间中的任意一个进行排气的多个泵部，和分别与所述多个泵部的至少一个连接、使泵动作的多个泵动作部，所述多个泵部的至少一个与互不相同的两个以上的泵动作部连接，所述互不相同的两个以上的泵动作部的至少一个与互不相同的两个以上的泵部连接。

Description

真空装置、真空系统、设备制造装置、设备制造系统以及设备 的制造方法
技术领域
本发明涉及包括泵和泵动作部的真空装置。
背景技术
最近，作为平板显示装置，有机EL显示装置受到关注。有机EL显示装置是自发光显示器，其响应速度、视场角、薄型化等特性优于液晶面板显示器，在以监视器、电视、智能手机为代表的各种便携式终端等领域以较快的速度代替现有的液晶面板显示器。另外，在汽车用显示器等方面也在扩大其应用领域。
有机EL显示装置的元件具有在两个相对的电极(阴极电极、阳极电极)之间形成有引起发光的有机物层的基本构造。有机EL显示元件的有机物层和电极金属层通过在真空腔室内隔着形成有像素图案的掩模在基板上蒸镀蒸镀物质来进行制造。
在有机EL显示装置的生产线中，除了进行有机物层和电极金属层的蒸镀的成膜室之外，为了将缓冲室、旋转室、输送室、掩模储存腔室等腔室的内部空间维持为真空状态还使用泵。特别是为了维持高真空状态而使用低温泵。
低温泵是通过使腔室内的气体分子凝结或吸附于超低温面进行捕集而进行排气的泵，包括用于维持超低温面的制冷机。在低温泵的制冷机上连接有用于压缩制冷剂的压缩机。
发明内容
发明所要解决的课题
在专利文献1(日本特开公报第2000-9036号)中公开了一种将多个低温泵连接于一个压缩机的技术，但在压缩机发生故障的情况下，存在所有的低温泵不发挥作用，无法进行腔室内的排气的问题。
本发明用于解决这样的问题，其目的在于提供一种用于稳定地进行处理空间内的排气的真空装置、真空系统、使用了该真空系统的设备制造装置、设备制造系统以及设备的制造方法。
用于解决课题的方案
本发明的第一方案的真空装置，用于对多个处理空间进行排气，其中，包括：分别对所述多个处理空间的任意一个进行排气的多个泵部；分别与所述多个泵部的至少一个连接、使泵动作的多个泵动作部，所述多个泵部的至少一个与互不相同的两个以上的泵动作部连接，所述互不相同的两个以上的泵动作部的至少一个与互不相同的两个以上的泵部连接。
本发明的第二方案的真空装置，用于对多个处理空间进行排气，其中，包括：分别对所述多个处理空间的任意一个进行排气的多个泵；分别与所述多个泵的至少一个泵连接、使泵动作的多个泵动作部，用于对所述多个处理空间中的第一处理空间进行排气的泵包括第一泵和第二泵，所述第一泵和所述第二泵的任意一个与所述多个泵动作部中的第一泵动作部连接，所述第一泵和所述第二泵中的另一个与第二泵动作部连接，用于对所述多个处理空间中的第二处理空间进行排气的泵包括第三泵，所述第三泵与所述第二泵动作部连接。
本发明的第三方案的真空装置，用于对多个处理空间进行排气，其中，包括：分别对所述多个处理空间的任意一个进行排气的多个泵；分别与所述多个泵的至少一个连接、使泵动作的多个泵动作部，用于对所述多个处理空间中的第一处理空间进行排气的泵包括第一泵和第二泵，所述第一泵和所述第二泵的任意一个与所述多个泵动作部中的第一泵动作部连接，所述第一泵和所述第二泵中的另一个与第二泵动作部连接，用于对所述多个处理空间中的第二处理空间进行排气的泵包括第三泵和第四泵，所述第三泵和所述第四泵的任意一个与所述第二泵动作部连接，所述第三泵和所述第四泵中的另一个与第三泵动作部连接。
本发明的第四方案的真空系统用于对多个处理空间进行排气，其中，包括：本发明的第一方案至第三方案中的任一项所涉及的真空装置；用于控制所述真空装置的控制部。
本发明的第五方案的设备制造装置，包括：多个腔室；分别设置在所述多个腔室的任意一个中的多个泵部；以及分别与所述多个泵部的至少一个连接、使泵动作的多个泵动作部，所述多个泵部的至少一个与互不相同的两个以上的泵动作部连接，所述互不相同的两个以上的泵动作部的至少一个，与互不相同的两个以上的泵部连接。
本发明的第六方案的设备制造装置，包括：多个腔室；分别设置在所述多个腔室的任意一个中的多个泵；分别与所述多个泵的至少一个连接、使泵动作的多个泵动作部，设置于所述多个腔室中的第一腔室的泵包括第一泵和第二泵，所述第一泵和所述第二泵的任意一个与所述多个泵动作部中的第一泵动作部连接，所述第一泵和所述第二泵中的另一个与第二泵动作部连接，设置于所述多个腔室中的第二腔室的泵包括第三泵，所述第三泵与所述第二泵动作部连接。
本发明的第七方案的设备制造装置，包括：多个腔室；分别设置在所述多个腔室的任意一个中的多个泵；分别与所述多个泵中的至少一个连接、使泵动作的多个泵动作部，设置于所述多个腔室中的第一腔室的泵包括第一泵和第二泵，所述第一泵和所述第二泵中的任意一个与所述多个泵动作部中的第一泵动作部连接，所述第一泵和所述第二泵中的另一个与第二泵动作部连接，设置于所述多个腔室中的第二腔室的泵包括第三泵和第四泵，所述第三泵和所述第四泵的任意一个与所述第二泵动作部连接，所述第三泵和所述第四泵中的另一个与第三泵动作部连接。
本发明的第八方案的设备制造系统，包括：本发明的第五方案至第七方案中的任一项所涉及的设备制造装置；用于控制所述设备制造装置的控制部。
本发明的第九方案的设备的制造方法，包括：准备本发明的第八方案的设备制造系统的阶段；从互不相同的两个泵动作部向多个泵供给高压制冷剂的阶段，所述多个泵设置于所述设备制造系统所包含的多个腔室中的任意一个腔室；通过所述多个泵使高压制冷剂膨胀而对所述一个腔室进行真空排气的阶段；测定所述一个腔室内的压力的阶段；测定从所述互不相同的两个泵动作部向所述多个泵供给的制冷剂的压力的阶段；在从所述互不相同的两个泵动作部中的任意一个泵动作部供给的制冷剂的压力偏离规定的范围的情况下，通过调整所述互不相同的两个泵动作部的另一个泵动作部的输出，以将所述多个泵所连接的所述一个腔室内的压力维持在规定的范围内的方式进行控制的阶段。
发明效果
根据本发明，能够稳定地进行处理空间内的排气。
附图说明
图1是有机EL显示装置的生产线的一部分的示意图。
图2是本发明的真空装置的示意图。
图3是表示本发明的第一实施例的真空系统的连接关系的图。
图4是表示本发明的第二实施例的真空系统的连接关系的图。
图5是表示本发明的第三实施例的真空系统的连接关系的图。
图6是表示本发明的第四实施例的设备制造系统的图。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的优选实施方式以及实施例进行说明。但是，以下的实施方式以及实施例例示性地表示本发明的优选的结构，本发明的范围并不限定于这些结构。另外，在以下的说明中，装置的硬件结构以及软件结构、处理的流程、制造条件、大小、材质、形状等只要没有特别指定的记载，就不意味着将本发明的范围限定于此。
<电子设备生产线>
图1是示意性地图示电子设备的生产线的结构的一部分的俯视图。
图1的生产线例如用于智能手机用的有机EL显示装置的显示面板的制造。在智能手机用的显示面板的情况下，例如在全尺寸(约1500mm×约1850mm)或半切割尺寸(约1500mm×约925mm)的基板上进行有机EL的成膜之后，将该基板切下来而制作成多个小尺寸的面板。
如图1所示，有机EL显示装置的生产线的成膜群组1一般具备进行针对基板10的处理(例如成膜)的多个成膜室11、收纳使用前后的掩模的多个掩模储存腔室12、以及配置在其中央的输送室13。
在输送室13内设置有输送机器人14，该输送机器人14在多个成膜室11之间输送基板10，并在成膜室11与掩模储存腔室12之间输送掩模。输送机器人14例如是具有在多关节臂上安装有保持基板10的机械手的结构的机器人。
在各成膜室11中设置有成膜装置(也称为蒸镀装置)。在成膜装置中，收纳于蒸发源的蒸镀材料被加热器加热及蒸发，经由掩模蒸镀到基板上。通过成膜装置自动地进行与输送机器人14的基板10的交接、基板10与掩模的相对位置的调整(对准)、基板10向掩模上的固定、成膜(蒸镀)等一系列成膜工序。成膜装置也可以是具有两个工作台的双工作台(Dual Stage)类型。在双工作台类型的成膜装置中，在对搬入1个工作台的基板10进行成膜期间，对搬入到其他工作台的其他基板10进行对准。
在掩模储存腔室12中，将在成膜室11处的成膜工序中使用的新的掩模和使用完的掩模分开收纳于两个盒。输送机器人14将已使用过的掩模从成膜室11输送至掩模储存腔室12的盒，将收纳于掩模储存腔室12的其他的盒中的新的掩模输送至成膜室11。
在有机EL显示装置的生产线的成膜群组1上连结有通路室15和缓冲室16，所述通路室15用于在基板10的流动方向上将来自上游侧的基板10传递至成膜群组1，所述缓冲室16用于将在该成膜群组1中完成了成膜处理的基板10向下游侧的其他成膜群组传递。输送室13的输送机器人14从上游侧的通路室15接收基板10，并输送到该成膜群组1内的一个成膜室11(例如，成膜室11a)。另外，输送机器人14从多个成膜室11中的1个(例如，成膜室11b)接收该成膜群组1内的成膜处理完成了的基板10，并向连结于下游侧的缓冲室16输送。
在缓冲室16与通路室15之间设置有改变基板的方向的旋转室17。由此，在上游侧的成膜群组和下游侧的成膜群组中，基板的朝向相同，基板处理变得容易。
构成有机EL显示装置的生产线的成膜室11、掩模储存腔室12、输送室13、缓冲室16、旋转室17等的腔室在有机EL显示面板的制造过程中维持为高真空状态。因此，在这些腔室中设置有用于将该腔室内的空间排气为高真空的泵、特别是低温泵。在通路室15中也设置有真空排气用泵(例如后述的粗排气用泵)，但高真空排气用的低温泵既可以设置，也可以不设置。
虽然参照图1对本发明的有机EL显示装置的生产线的结构进行了说明，但本发明的设备生产线并不限定于此，也可以具有其他种类的腔室，还可以改变腔室间的配置。
以下，以成膜室11为例，对用于对成膜室11进行真空排气的真空装置及真空系统的结构进行说明。
<真空装置及真空系统>
图2示意性地表示设置有真空装置(真空系统)的成膜室11。
在成膜室11内的下部设置有蒸发源111，在上部设置有用于保持基板10的基板支架112和用于保持掩模18的掩模支架113。另外，在面向输送室13的成膜室11的侧壁，设置有搬出搬入基板10或掩模18的搬出搬入用阀114。
在成膜室11中设置有用于对成膜室11内的处理空间进行真空排气的真空系统。本发明的真空系统包括真空装置和控制部24，真空装置包括与成膜室11连接而将成膜室11的内部空间排气成高真空(例如，～10-8Torr)的低温泵20、用于将成膜室11的内部空间排气成低真空(例如10-3Torr)的粗排气用泵21、和与低温泵20连接的泵动作部22。
低温泵20经由设置于成膜室11的腔室底面的排气口115和高真空排气用阀116与成膜室11连接。
低温泵20是通过使腔室内的气体分子凝结或吸附于超低温面进行捕集而将成膜室11的内部空间排气为高真空的泵，包括超低温板(也称为低温板)和用于降低超低温板的温度的制冷机(未图示)。在超低温板的表面形成有用于捕集凝结的气体、水分的多孔性层(未图示)。低温泵20的制冷机通过使压缩成高压的制冷剂(例如氦)膨胀成低压，将超低温板的温度降低至规定的温度。
在成膜室11中设置有多个(例如两个)低温泵20。由此，能够提高真空排气速度而缩短工序时间(Tact)，即使在未正常进行与成膜室11连接的1个低温泵20的真空排气的情况下，也能够通过其他的低温泵20将成膜室11内维持为高真空状态。
泵动作部22将作为低温泵20的制冷剂使用的氦压缩成高压，将高压的氦制冷剂提供给低温泵20的制冷机。从泵动作部22被压缩成高压的制冷剂与在低温泵20的制冷机中膨胀成低压的制冷剂经由制冷剂配管23而在泵动作部22与低温泵20之间流动。在制冷剂配管23设置有用于检测制冷剂的压力的制冷剂压力传感器25。由此，如后所述，能够判断泵动作部22是否以足够的压力对制冷剂进行压缩，即，泵动作部22是否正常动作。换言之，制冷剂压力传感器25也能够称为检测泵动作部22的故障的故障检测装置。
粗排气用泵21经由设置于成膜室11的腔室壁上的粗排气用阀118与成膜室11连接。粗排气用泵21在低温泵20将成膜室11的内部空间排气成高真空状态之前，将成膜室11的内部空间排气成低真空状态(例如，～10-3Torr)。由此，能够进行基于低温泵20的高真空排气。粗排气用泵21通常使用不需要泵动作部的旋转泵等，但本发明并不限定于此。
控制部24控制真空装置的真空排气动作。控制部24基于由设置在成膜室11的真空腔室内的腔室压力传感器117检测出的腔室内的真空度、由设置于制冷剂配管23的制冷剂压力传感器25检测出的制冷剂压力、由设置于低温泵20的制冷机的温度传感器检测出的超低温板的温度等，控制低温泵20、与该低温泵20连接的泵动作部22及粗排气用泵21等的动作。另外，控制部24也可以构成为包含在泵动作部22中。
以下，对使用本发明的真空装置对成膜室11的内部空间进行真空排气的过程进行说明。
若开始真空排气，则为了使成膜室11的内部空间成为低真空状态而使粗排气用泵21工作。即，设置在成膜室11的腔室壁上的粗排气用阀118被打开，粗排气用泵21工作而将成膜室11内排气成规定的低真空状态。
低温泵20在高真空排气用阀116关闭的状态下工作，将低温泵20的超低温板冷却至规定的温度。即，被泵动作部22压缩成高压的制冷剂氦被供给到低温泵20，在低温泵20的制冷机中，高压的制冷剂氦边绝热膨胀为低压，边将超低温板冷却至规定的超低温的温度。由此，低温泵20的内部成为高真空环境。
向低真空状态的排气和上述低温泵20的工作可以先进行任意一个。
若成膜室11内的压力通过粗排气用泵21而成为规定的低真空压力，低温泵20的超低温板达到规定的超低温，低温泵20的内部成为高真空环境，则通过关闭粗排气用阀118，打开高真空排气用阀116，并经由排气口115使还残留于成膜室11内的气体及水分等凝结/吸附于超低温板进行捕集/固定，从而将成膜室11的内部空间排气成规定的高真空环境。即，将在进行低真空排气之后还残留在成膜室11内的气体、水分中的凝固点比较高的物质凝结成固体，将凝固点低的物质封闭于设置在超低温板的表面上的表面积大的多孔性物质的内部空间中，从而将残留在成膜室11内的气体、水分等除去，排气成高真空状态。
若成膜室11的内部空间成为规定的高真空状态，则打开用于搬入搬出基板/掩模的阀114，从同样地被排气成高真空的输送室13将基板或掩模搬入成膜室11内。搬入到成膜室11内的基板或掩模被基板支架112及掩模支架113保持，通过未图示的对准系统来调整基板与掩模的相对位置。
在基板与掩模的相对位置被高精度地进行调整之后，打开闸门(未图示)，将在蒸发源111处被加热而蒸发的有机材料或电极用金属材料经由掩模18蒸镀在基板10上。
<泵和泵动作部的连接结构>
参照图3至图5，对本发明的真空装置/真空系统中的泵(泵部)与泵动作部的连接构造进行说明。
如图3至图5所示，本发明的真空装置/真空系统包括多个泵部30、31、32等和与这些泵部连接的多个泵动作部22a、22b、22c等。
各个泵部设置在定义为进行真空排气的处理空间的各个腔室中，包括1个以上的泵(例如，低温泵)。
在本发明的真空装置/真空系统中，用于对多个腔室中的至少一个腔室的内部空间进行排气的泵部，与互不相同的两个以上的泵动作部连接。泵动作部是为了使泵动作而供给电力、压缩制冷剂等的供给部。在泵为低温泵的情况下，使用压缩机，在为回转泵或涡轮分子泵的情况下，使用电力源。另外，泵并不限定于这些泵，供给部也可使用与泵的种类相对应的装置。
由此，即使在与该泵部连接的互不相同的两个以上的泵动作部的任意一个发生故障而无法正常动作的情况下，也能够避免该泵部完全停止动作、该腔室的内部空间无法维持为真空状态的状况。
另外，与1个泵部连接的互不相同的两个以上的泵动作部中的至少一个泵动作部，也与该泵部以外的其他泵部连接。由此，能够减少所需的泵动作部的数量，不仅能够减少费用和消耗电力，还能够有效地使用生产线内的空间。
另外，在本发明的真空装置/真空系统中，对多个腔室中的至少一个腔室连接多个泵部。由此，如上所述，通过对一个泵部连接多个泵动作部，除了对泵动作部的故障具有冗余性之外，还能够对泵部本身的故障也具有冗余性。这样，通过双重地冗余化，能够进一步提高真空装置/真空系统的可靠性。
本发明的真空系统的控制部24控制多个泵动作部的动作。由此，能够利用1个控制部控制整体的泵动作部，使结构简化。
以下，对本发明的各实施例的真空装置/真空系统中的泵部与泵动作部之间的连接构造进行说明。
第一实施例
本发明的第一实施例的真空装置/真空系统用于对两个腔室(第一腔室以及第二腔室)的内部空间进行真空排气，如图3的(a)所示，包括与第一腔室(例如，成膜室11a)连接、用于对其内部空间进行排气的第一泵部30，和与第二腔室(例如，成膜室11b)连接、用于对其内部空间进行排气的第二泵部31。
第一泵部30包括用于将第一腔室排气成高真空状态的第一泵20a和第二泵20b，第二泵部31包括用于将第二腔室排气成高真空状态的第三泵20c。可以考虑腔室的体积、真空排气的速度等来确定由几个泵构成用于对腔室的内部空间进行真空排气的泵部。本发明的第一实施例的第一泵至第三泵可以是参照图2说明的低温泵，但本发明不限于此。
第一泵20a与第一泵动作部22a连接，接受从第一泵动作部22a被压缩成高压的制冷剂的供给。第二泵20b与不同于第一泵动作部22a的第二泵动作部22b连接。由此，用于对第一腔室进行真空排气的第一泵部30的泵20a、20b与互不相同的两个泵动作部22a、22b连接。
在现有技术中，用于对1个腔室进行真空排气的两个低温泵与相同的泵动作部连接。因此，当该泵动作部发生故障时，用于对该腔室进行真空排气的所有低温泵的动作停止，因此无法将该腔室维持为高真空状态。
与此相比，在本发明中，由于与第一腔室连接的第一泵部30所包含的两个泵20a、20b，与互不相同的两个泵动作部22a、22b连接，因此即使任意一个泵动作部发生故障，通过提高另一个泵动作部的输出，也能够维持第一腔室内的高真空状态，能够争取到可以准备对发生故障的泵动作部进行维护为止的时间。
第二泵部31的第三泵20c与第二泵动作部22b连接，接受从第二泵动作部22b压缩成高压的制冷剂的供给。
通过不另外设置用于向第三泵20c供给高压制冷剂的泵动作部，而使用与第一泵部30的第二泵20b连接的第二泵动作部22b，即，通过将第二泵动作部22b与互不相同的两个泵20b、20c连接，能够减少用于对第一腔室和第二腔室进行真空排气的泵动作部的数量。
如图3的(b)所示，在本发明的第一实施例的变形例中，用于对第二腔室进行真空排气的第二泵部31除了第三泵20c之外，还包括第四泵20d。第四泵20d与第一泵动作部22a连接。
由此，例如，即使向第三泵20c供给高压制冷剂的第二泵动作部22b发生故障，也能够通过提高与第四泵20d连接的第一泵动作部22a的输出，不增加泵动作部的数量地维持第一腔室以及第二腔室内的高真空状态。
在本发明的第一实施例及其变形例中，在由设置于第一泵动作部22a以及第二泵动作部22b和第一泵部30以及第二泵部31之间的制冷剂配管23的制冷剂压力传感器25检测到的制冷剂的压力脱离规定的范围，不能以足够的压力压缩制冷剂的情况下，控制部24判定为与该制冷剂配管23连接的泵动作部发生了故障。例如，当用于从第一泵动作部22a向第一泵部30的第一泵20a供给高压制冷剂的制冷剂配管23内的制冷剂的压力、或者从第一泵动作部22a向第二泵部31的第四泵20d供给的制冷剂的压力低于规定的范围时，判定为第一泵动作部22a发生了故障。
在该情况下，控制部24通过提高与第一泵部30的第二泵20b以及第二泵部31的第三泵20c连接的第二泵动作部22b的输出，能够将第一腔室和第二腔室内的压力维持在规定的高真空范围内。
在本发明的第一实施例及其变形例中，由两个泵部30、31和两个泵动作部22a、22b构成真空装置/真空系统，因此即使具有上述特性，泵部内的泵与泵动作部之间也是简单的连接，容易理解维护时的配线关系。另外，由于能够由1个控制部24控制两个泵动作部22a、22b，因此控制简化。
另外，在此，对使用制冷剂压力传感器25作为故障检测装置来检测泵动作部的故障的结构进行了说明，但并不限定于此。故障检测装置也可以不检测泵动作部而检测泵部的故障。而且，在由故障检测装置检测到泵部的故障的情况下，也可以通过调整其他泵部的输出，将腔室内的压力维持在规定的范围内。
另外，故障检测装置并不限定于制冷剂压力传感器，只要是能够检测泵动作部或泵部的故障的装置即可。例如，作为故障检测装置，可以使用检测泵部的温度的温度传感器、检测泵动作部的温度的温度传感器。更具体而言，也可以使用检测低温泵的低温板的温度的温度传感器。在该情况下，在由温度传感器测定的温度超过规定的范围时，判定为泵部或泵动作部发生了故障。
本发明的第一实施例及其变形例，例如在图1所示的有机EL显示面板的生产线中，能够应用于真空装置/真空系统，所述真空装置/真空系统用于对配置在基板流动的相同生产线上的两个成膜室11a、11b、或其他两个成膜室11c、11d分别进行真空排气。对此，参照图6在后面叙述。
第二实施例
图4示意性地表示本发明的第二实施例的真空装置/真空系统的配置和连接结构。
本发明的第二实施方式的真空装置/真空系统用于对3个腔室(第一腔室、第二腔室、第三腔室)的内部空间进行真空排气，包括用于对第一腔室(例如，掩模储存腔室12a)的内部空间进行真空排气的第一泵部30、用于对第二腔室(例如，输送室13)的内部空间进行真空排气的第二泵部31、以及用于对第三腔室(例如，掩模储存腔室12b)进行真空排气的第三泵部32。
第一泵部30包括第一泵20a和第二泵20b，第二泵部31包括第三泵20c和第四泵20d，第三泵部32包括第五泵20e和第六泵20f。各泵部所包含的泵的数量可以根据由该泵部进行真空排气的腔室的内部空间的体积、真空排气速度等而变化。例如，在第一泵部30和第三泵部32对体积相对较小的掩模储存腔室12a及掩模储存腔室12b进行真空排气的情况下，也可以分别仅由1个泵构成。
本发明的第二实施例的真空装置/真空系统包括与3个泵部连接的3个泵动作部22a、22b、22c。
如图4所示，第一泵部30的第一泵20a与第一泵动作部22a连接，第二泵20b与第二泵动作部22b连接。第二泵部31的第三泵20c与第二泵动作部22b连接，第四泵20d与第三泵动作部22c连接。第三泵部32的第五泵20e连接于第三泵动作部22c，第六泵20f连接于第一泵动作部22a。
由此，与第一实施例及其变形例同样地，3个泵部中的至少一个泵部与互不相同的两个以上的泵动作部连接。即，在本发明的第二实施例中，3个泵部分别与互不相同的两个泵动作部连接。由此，即使与1个泵部连接的泵动作部的任意一个发生故障，也能够调整与该泵部连接的其他泵动作部的输出，将设置有该泵部的腔室内维持为高真空状态。
例如，在第二泵动作部22b发生故障的情况下，与其连接的第二泵20b及第三泵20c无法分别对第一腔室和第二腔室进行真空排气，因此，为了增加作为与第一腔室连接的其他泵的第一泵20a及作为与第二腔室连接的其他泵的第四泵20d的真空排气量，分别提高第一泵动作部22a对于第一泵20a的输出、以及第三泵动作部22c对于第四泵20d的输出。由此，即使第二泵动作部22b发生故障，也能够将第一腔室以及第二腔室的内部空间维持在规定的高真空状态。
同时，为了降低对第三腔室进行真空排气的第三泵部32的第五泵20e以及第六泵20f的排气量，通过降低第一泵动作部22a对于第六泵20f的输出和第三泵动作部22c对于第五泵20e的输出，从而将第一腔室至第三腔室维持为同等的压力。
另外，由此，即使在第二泵动作部22b发生故障的情况下，也能够将第一腔室至第三腔室维持为同等的真空度，并且能够防止对第一泵动作部22a以及第三泵动作部22c施加性能以上的负荷，能够防止第一泵动作部22a和第三泵动作部22c处于过负荷状态。
这样的泵动作部的输出控制，基于由设置于泵动作部和泵部之间的制冷剂配管的制冷剂压力传感器25检测出的制冷剂的压力，由控制部24进行。
这样，根据本发明的第二实施例的真空装置/真空系统，能够抑制泵动作部的数量增加，同时，在任意一个泵动作部发生故障的情况下，能够将多个腔室的内部空间维持为规定的范围内的同等的压力。
第三实施例
图5示意性地表示通过本发明的第三实施例分别对n个(n为4以上的整数)腔室进行真空排气的n个泵部与n个泵动作部的连接结构。
本发明的第三实施方式的真空装置/真空系统包括用于对n个(n为4以上的整数)腔室进行真空排气的n个泵部、和与n个泵部连接的n个泵动作部。
在本发明的第三实施例中，用于对第k腔室(1≤k≤n-1)的内部空间进行真空排气的第k泵部，包括第2k-1泵和第2k泵。第2k-1泵与第k泵动作部连接，第2k泵与第k+1泵动作部连接。用于对第n腔室的内部空间进行真空排气的第n泵部包括第2n-1泵以及第2n泵，第2n-1泵与第n泵动作部连接，第2n泵与第一泵动作部连接。
即，在各泵部上连接有两个不同的泵动作部，各个泵动作部与用于对两个不同的腔室的内部空间进行真空排气的两个不同的泵部连接。
由此，能够抑制泵动作部的数量的增加，并且在任意一个泵动作部发生故障的情况下，能够防止与该泵动作部连接的泵部完全停止动作的问题。
另外，第三实施方式的真空系统的控制部24，即使任意一个泵动作部发生故障，通过与第一及第二实施例同样地调整正常动作的其他泵动作部的输出，也能够进行控制而使由各泵部进行真空排气的所有的腔室内的压力维持同等。
例如，在第k泵动作部发生故障的情况下，由于与其连接的第k泵部的第2k-1泵和第k-1泵部的第2k-2泵停止动作，所以为了将设置有这些泵的第k–1腔室和第k腔室的内部空间维持为规定的压力范围，增加设置于第k-1腔室的其他泵即第2k-3泵和设置于第k腔室的其他泵即第2k泵的排气量。因此，使第k-1泵动作部对于第2k-3泵的输出和第k+1泵动作部相对于第2k泵的输出增加。
另外，为了防止施加于第k-1泵动作部和第k+1泵动作部的负荷增大到这些泵动作部的性能以上，降低第k-1泵动作部对第2k-4泵的输出和第k+1泵动作部对第2k+1泵的输出。同样地，通过降低其他正常的泵动作部对各泵的输出，即使因第k泵动作部的故障而使一部分泵的动作停止，也能够进行控制而使各腔室内的真空压力维持为同等的状态。
在本发明的第三实施例中，说明了各泵部包括两个泵，各泵动作部与两个不同的泵连接的情况，但本发明并不局限于此，只要多个泵部中的至少一个包含两个泵，该两个泵与互不相同的两个泵动作部连接即可。另外，该两个互不相同的泵动作部中的至少一个与其他的第三泵连接即可。
在本发明的第三实施例中，为了对4个以上的n个腔室进行真空排气而将n个泵部与n个泵动作部相关联地连接，因此能够通过1个控制部来控制n个泵动作部，从而使结构简化。
但是，本发明并不限定于此，也可以将4个以上的n个泵部分为两个泵部或3个泵部的组，分别以与第一实施例或第二实施例相同的方式连接于两个泵动作部或3个泵动作部。例如，在通过六个泵部和六个泵动作部对六个腔室进行真空排气的情况下，也可以以两个泵部为一组的方式划分为3个组，与第一实施例或其变形例同样地，将泵部与泵动作部连接，或者也可以以3个泵部为一组的方式划分成两个组，与第二实施例同样地将泵部与泵动作部连接。另外，也可以是，两个泵部与第一实施例或其变形例同样地连接，3个泵部与第二实施例同样地连接，剩余的1个泵部仅与1个泵动作部连接。
第四实施例
图6示意性地表示在有机EL显示面板的生产线中应用了本发明的技术思想的泵部与泵动作部之间的连接构造。
在本发明的第四实施例中，将构成有机EL显示面板的生产线的多个腔室分成分别包含至少两个腔室的多个组，将用于对该组的腔室进行真空排气的泵部和泵动作部连接。
例如，如图6所示，将第一成膜室11a和第二成膜室11b作为1个组，将第三成膜室11c和第四成膜室11d作为另一个组，在各个组中，将用于对腔室进行真空排气的泵部和泵动作部与本发明的第一实施方式的变形例同样地连接。
这样，通过在第一成膜室11a和第二成膜室11b的组、第三成膜室11c和第四成膜室11d的组中设置不同的真空装置/真空系统，即使任意一方的真空装置/真空系统(例如泵动作部)发生故障，也能够不停止而正常地进行基于另一个组的基板处理。
在有机EL显示面板的生产线中，经过上游侧的缓冲室16a、旋转室17传递到通路室15的基板，利用如下的两个流程进行处理，即，在一边通过第一成膜室11a和第二成膜室11b一边进行成膜处理之后传递到下游侧缓冲室16b，或者在一边通过第三成膜室11c和第四成膜室11d一边进行成膜处理之后，传递到下游侧缓冲室16b。
在此，例如即使在与用于对第一成膜室11a进行真空排气的泵部连接的泵动作部发生故障的情况下，也能够通过本发明的第一实施方式的变形例，通过连接泵部和泵动作部，利用未发生故障的另一个泵动作部将第一成膜室11a内的真空度维持为与第二成膜室11b同等的程度。因此，能够不丢弃在第一成膜室11a内进行成膜处理的基板而完成对基板的成膜处理，并向下游侧传递。但是，仅通过上述另一个泵动作部对两个成膜室长时间地进行真空排气，会对上述另一个泵动作部造成负担，因此在适当的时刻停止通过该生产线的基板的流动，进行发生故障的泵动作部的维护。这样，即使在为了维护而使通过第一成膜室/第二成膜室的基板的流动停止的情况下，根据本发明的第四实施例的结构，也能够不停止通过第三成膜室/第四成膜室的基板的流动而继续进行基板的处理。与此不同，在用一个真空装置/真空系统对第一成膜室和第三成膜室进行排气的情况下，在任意一方的成膜室的真空装置的泵动作部发生故障而必须进行维护的场合，需要使双方的基板流动停止，因此，整体的基板的处理线停止。
根据本发明的第四实施例，第一掩模储存腔室12a、输送室13、第二掩模储存腔室12b利用本发明的第二实施例的真空装置/真空系统进行真空排气。由此，即使用于对这3个腔室进行真空排气的真空装置内的任意一个泵动作部发生故障，通过调整其他泵动作部的输出，也能够将这3个腔室内的真空度维持在同等的程度。但是，本发明并不限定于这样的结构，真空装置/真空系统也可以具有其他的配置结构。
例如，由于在第一掩模储存腔室12a中收纳有在通过第一成膜室11a/第二成膜室11b的基板的成膜中使用的掩模，因此也能够构成为利用本发明的第二实施例的真空装置/真空系统对第一成膜室11a、第一掩模储存腔室12a、第二成膜室11b进行真空排气。同样地，能够构成为利用第二实施方式的其他真空装置/真空系统对第三成膜室11c、第二掩模储存腔室12b、第四成膜室11d进行排气。在该情况下，输送室13能够构成为利用其他的真空装置/真空系统进行排气。特别是，若输送室13的真空装置的泵动作部发生故障，则产生生产线整体停止的问题，因此优选将用于对输送室13进行真空排气的泵部与互不相同的两个以上的泵动作部连接。
由此，即使与用于对第一掩模储存腔室12a进行真空排气的泵部连接的泵动作部的任意一个发生故障而进行维护，也能够不停止通过第三成膜室11c/第四成膜室11d的基板的流动而继续进行基板处理。
在图6所示的本发明的第四实施例中，如现有技术那样，将用于对缓冲室16a和旋转室17进行真空排气的泵部与一个泵动作部连接，但本发明并不限定于此，也可以基于本发明的第一实施例/变形例来构成真空装置/真空系统。
另外，由于通路室15与其他的腔室不同，不需要高真空，因此通常不设置低温泵而仅设置粗排气用泵，因此，在设置于通路室15的真空装置/真空系统中不包括泵动作部，但可以在通路室15中设置低温泵。在该情况下，既可以将通路室15与其他两个腔室(例如，缓冲室16a、旋转室17)一起利用本发明的第二实施例的真空装置/真空系统进行真空排气，也可以与另一个腔室(例如，输送室13)一起利用本发明的第一实施例的真空装置/真空系统进行真空排气。
本发明的真空装置/真空系统中使用的各个泵动作部能够构成为，根据设置有与该泵动作部连接的泵部的腔室的内部空间的体积，具有不同的输出性能。
<真空排气方法及使用该真空排气方法的设备的制造方法>
以下，对在使用本发明的真空装置/真空系统的有机EL显示面板的生产线中对各腔室进行真空排气的方法和使用该方法来制造设备的方法进行说明。
首先，利用设置于构成生产线的多个腔室的多个泵部对多个腔室进行真空排气(S1)。此时，多个腔室的真空排气可以同时进行，也可以依次或按照依照基板/掩模的生产线上的流动而决定的顺序进行。
真空排气能够按低真空排气阶段和高真空排气阶段这两个阶段进行。即，通过包含在真空装置/真空系统中的粗排气用泵21排气至低真空的压力，接着，能够使用作为高真空排气用泵的低温泵20排气至高真空的压力。高真空排气阶段包括:通过与1个泵部连接的两个不同的泵动作部(第一泵动作部和第二泵动作部)将制冷剂压缩成高压的阶段、通过制冷剂配管将在两个泵动作部被压缩的高压制冷剂分别供给到对应的泵部的两个低温泵的阶段、利用两个低温泵的制冷机分别使高压制冷剂绝热膨胀而将制冷剂的温度降低至超低温的阶段、和使用降低至超低温的制冷剂使两个低温泵的超低温板分别冷却至规定温度的阶段。
在多个泵动作部的每一个或者从多个泵动作部向多个泵部供给高压制冷剂的各个制冷剂配管设置有制冷剂压力传感器25，利用该制冷剂压力传感器25测定从泵动作部向泵部供给的制冷剂的压力(S2)。
在从多个泵动作部中的任意一个泵动作部(例如，第一泵动作部)向与其连接的两个不同的泵部(第一泵部及第n泵部)供给的制冷剂的压力脱离规定的范围的情况下，通过调整与连接有第一泵动作部的第一泵部连接的其他泵动作部、即第二泵动作部对于第一泵部的输出，和与连接有第一泵动作部的第n泵部连接的其他泵动作部、即第n泵动作部对于第n泵部的输出，以进行控制而将连接有第一泵部的第一腔室的压力以及连接有第n泵部的第n腔室的压力维持在规定的范围内(S3)。这样的泵动作部的输出控制由控制部24进行。
同时，调整第二泵动作部对于与第二泵动作部连接的其他泵部、即第二泵部的输出，和第n泵动作部对于与第n泵动作部连接的第n泵部的输出，并进行控制、以使得第二泵动作部的整体输出和第n泵动作部的整体输出不超过各个泵动作部的输出限制值。控制部24通过调整正常动作的其他泵动作部的输出，而进行控制以使各腔室内的压力成为同等的程度。
由此，即使在多个泵动作部的1个或更多的泵动作部发生故障的情况下，也能够在不对设备制造工序造成影响的规定的范围内同等地维持多个腔室内的压力。
以下，对在安装有本发明的真空装置/真空系统的成膜室11中，在基板上形成有机物层或电极的金属膜层而制造有机EL显示装置等设备的方法进行说明。
首先，从互不相同的两个以上的泵动作部向设置于成膜室11的泵部供给高压制冷剂，利用泵部内的两个以上的泵使高压制冷剂分别绝热膨胀，对该成膜室11进行真空排气。
向排气到所希望的高真空状态的成膜室11内搬入掩模和基板。
调整掩模与基板的相对位置。
通过调整了相对位置的掩模，在基板上对从蒸发源蒸发的蒸镀材料进行成膜。
在从搬入阶段进行成膜阶段期间，通过腔室压力传感器117测定成膜室11内的压力。
在测定出的腔室内的压力偏离规定的范围的情况下，测定从与设置于该成膜室的泵部连接的互不相同的两个以上的泵动作部供给的制冷剂的压力。
在从其中的任意一个泵动作部供给的制冷剂的压力偏离规定的范围的情况下，停止由该泵动作部进行的制冷剂的压缩动作，调整与该泵部连接的其他的泵动作部对于该泵部的输出，和对于与该其他的泵动作部连接的其他的泵部的输出，并进行控制、使得该成膜室和由该其他的泵部进行真空排气的其他成膜室的压力处于规定的范围内。
通过这样的方法，即使用于向设置于成膜室的泵部供给高压制冷剂的两个以上的不同的泵动作部中的任意一个发生故障，也能够将成膜室内维持在规定的压力范围内，因此，可以不立即停止该成膜室内的成膜工序，能够正常地进行成膜室中的成膜处理，直到做好用于维护的准备为止。
上述实施例表示本发明的一个例子，本发明并不限定于上述实施例的结构，可以在本技术思想的范围内适当地变形。
符号说明
1：成膜群组
11：成膜室(处理室)
12：掩模储存腔室
13：输送室
14：输送机器人
15：通路室
16：缓冲室
20：低温泵
20a、20b、20c、20d、20e、20f：第一泵～第六泵
21：粗排气用泵
22：泵动作部
22a、22b、22c：第一泵动作部～第三泵动作部
23：制冷剂配管
24：控制部
25：制冷剂压力传感器
30：第一泵部
31：第二泵部
32：第三泵部

Claims (13)

1.一种设备制造装置，其特征在于，具有：
第一腔室；
第二腔室；
包括分别对所述第一腔室进行排气的第一泵和第二泵的第一泵部；
包括对所述第二腔室进行排气的第三泵的第二泵部；
与所述第一泵部连接、向所述第一泵供给电力或制冷剂的第一泵动作部；
与所述第一泵部连接、向所述第二泵供给电力或制冷剂，并且与所述第二泵部连接、向所述第三泵供给电力或制冷剂的第二泵动作部。
2.根据权利要求1所述的设备制造装置，其特征在于，
所述第二泵部还包括第四泵；
所述第一泵动作部与第二泵部连接，向所述第四泵供给电力或制冷剂。
3.根据权利要求1所述的设备制造装置，其特征在于，
所述第一腔室和所述第二腔室经由第三腔室而连接。
4.根据权利要求3所述的设备制造装置，其特征在于，
所述第一腔室和所述第二腔室是用于蒸镀有机材料的蒸镀室，
所述第三腔室是用于输送基板或掩模的输送室。
5.一种设备制造装置，其特征在于，具有：
第一腔室；
第二腔室；
包括分别对所述第一腔室进行排气的第一泵和第二泵的第一泵部；
包括分别对所述第二腔室进行排气的第三泵和第四泵的第二泵部；
与所述第一泵部连接、向所述第一泵供给电力或制冷剂的第一泵动作部；
与所述第一泵部连接、向所述第二泵供给电力或制冷剂，并且与所述第二泵部连接、向所述第三泵供给电力或制冷剂的第二泵动作部；
与所述第二泵部连接、向所述第四泵供给电力或制冷剂的第三泵动作部。
6.根据权利要求5所述的设备制造装置，其特征在于，
还具有：
第三腔室；
包括分别对所述第三腔室进行排气的第五泵和第六泵的第三泵部，
所述第三泵动作部与第三泵部连接、向所述第五泵供给电力或制冷剂，
所述第一泵动作部与第三泵部连接、向所述第六泵供给电力或制冷剂。
7.根据权利要求6所述的设备制造装置，其特征在于，
所述第一腔室和所述第二腔室经由所述第三腔室而连接。
8.根据权利要求7所述的设备制造装置，其特征在于，
所述第一腔室和所述第二腔室是收纳使用前后的掩模的掩模储存腔室，
所述第三腔室是用于输送基板或掩模的输送室。
9.根据权利要求1至8中的任一项所述的设备制造装置，其特征在于，
所述第一泵动作部和所述第二泵动作部分别是用于向连接的泵供给电力或压缩制冷剂的供给部。
10.根据权利要求9所述的设备制造装置，其特征在于，
所述泵包括具有制冷机的低温泵，
所述供给部是用于将制冷剂压缩并向所述制冷机供给的压缩机。
11.一种设备制造系统，其特征在于，包括：
权利要求1至8中的任一项所述的设备制造装置；
用于控制所述设备制造装置的控制部。
12.根据权利要求11所述的设备制造系统，其特征在于，
所述控制部控制所述设备制造装置的多个泵动作部的动作。
13.根据权利要求11所述的设备制造系统，其特征在于，
所述控制部以使所述设备制造装置的多个腔室内的压力相等的方式控制所述多个泵动作部。
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