JP2019179583A - 電子機器 - Google Patents

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Abstract

【課題】導体が筐体を貫通する部分においてより不都合の少ない新規な構成を備えた電子機器を提供する。【解決手段】ハードディスクドライブ100は、筐体10と、プリント配線基板30Aと、を備えている。筐体10は、開口11eを有する。プリント配線基板30Aは、開口11eを覆い、少なくとも一部が筐体10外に露出された第一面において、少なくとも一部が筐体10外に露出された第一導体32aと、少なくとも一部が筐体10内に露出された第二面において少なくとも一部が筐体10内に露出された第二導体32bと、第一導体32aおよび第二導体32bと電気的に接続され開口11eの内縁よりも外側において第一面と第二面との間で貫通した第三導体33と、を有する。【選択図】図4

Description

本実施形態は、電子機器に関する。
従来、筐体に電子部品が収容された電子機器が知られている。
特開2015−181080号公報
この種の電子機器では、例えば、導体が筐体を貫通する部分においてより不都合の少ない新規な構成を備えた電子機器が得られれば、有益である。
実施形態の電子機器は、例えば、筐体と、回路基板と、を備えている。筐体は、開口を有する。回路基板は、開口を覆い、少なくとも一部が筐体外に露出された第一面において少なくとも一部が筐体外に露出された第一導体と、少なくとも一部が筐体内に露出された第二面において少なくとも一部が筐体内に露出された第二導体と、第一導体および第二導体と電気的に接続され開口の内縁よりも外側において第一面と第二面との間で貫通した第三導体と、を有する。
図1は、実施形態の電子機器の例示的かつ模式的な斜視図である。 図2は、実施形態の電子機器の例示的かつ模式的な分解斜視図である。 図3は、実施形態の電子機器の例示的かつ模式的な分解斜視図であって、図2とは反対側から見た図である。 図4は、第1実施形態の電子機器の例示的かつ模式的な断面図であって図3のIV−IV位置での断面図である。 図5は、第1実施形態の回路基板の一部の例示的かつ模式的な平面図である。 図6は、第1実施形態の第1変形例の電子機器の例示的かつ模式的な断面図である。 図7は、第1実施形態の第2変形例の電子機器の例示的かつ模式的な断面図である。 図8は、第1実施形態の第3変形例の電子機器の一部の例示的かつ模式的な断面図である。 図9は、第1実施形態の第4変形例の電子機器の一部の例示的かつ模式的な断面図である。 図10は、第1実施形態の第5変形例の電子機器の一部の例示的かつ模式的な断面図である。 図11は、第1実施形態の第6変形例の電子機器の一部の例示的かつ模式的な断面図である。 図12は、第2実施形態の電子機器の例示的かつ模式的な断面図である。 図13は、第2実施形態の回路基板の一部の例示的かつ模式的な平面図である。 図14は、第2実施形態の第1変形例の回路基板の一部の例示的かつ模式的な平面図である。
以下、電子機器の例示的な実施形態および変形例が開示される。以下に示される実施形態の構成(技術的特徴)は、一例である。なお、以下に示される複数の実施形態の構成は、同様の構成要素を含んでおり、各実施形態によれば、当該同様の構成要素に基づく同様の効果が得られる。以下では、当該同様の構成要素については共通の符号が付与されるとともに、重複する説明は省略される場合がある。また、各図は、模式的なものであり、寸法等は実際の構成とは異なっている。
また、各図には、便宜上、方向を示す矢印が記されている。矢印Xは、筐体10の長手方向を示し、矢印Yは、筐体10の短手方向を示し、矢印Zは、筐体10の厚さ方向を示している。筐体10の長手方向、筐体10の短手方向、および筐体10の厚さ方向は、互いに直交している。
[第1実施形態]
図1は、本実施形態のハードディスクドライブ100(HDD)の外観を示す斜視図であり、図2は、HDD100の分解斜視図である。図1に示されるように、HDD100は、偏平な直方体状の筐体10を備えている。また、図2に示されるように、筐体10は、ベース11と、内カバー12と、外カバー13と、を有している。HDD100は、電子機器の一例である。
ベース11は、有底の容器であり、底壁11aと周壁11bとを有している。底壁11aの形状は、四角形状かつ板状である。周壁11bの形状は板状であり、周壁11bは底壁11aの周縁から略一定の高さで突出している。底壁11aと周壁11bとは、例えば、アルミニウム合金等の金属材料によって一体に構成されている。
図2に示されるように、ベース11の内部空間Sは、内カバー12と外カバー13とで覆われている。内カバー12は、例えば、ねじ等の結合具によって周壁11bの上面に固定されている。また、外カバー13は、内カバー12を覆う状態で、例えば溶接等によって周壁11bの先端11cに固定されている。外カバー13と周壁11bとは、気体が漏れないように接合される。本実施形態では、底壁11a、周壁11b、および外カバー13は、壁の一例である。
内カバー12および外カバー13には、それぞれ通気口12a,13aが設けられている。ベース11の内部に部品が取り付けられ、ベース11に内カバー12および外カバー13が取り付けられて筐体10が組み立てられた後、通気口12a,13aから筐体10内の空気が抜かれ、替わりに、筐体10内には、空気とは異なる気体が、充填される。筐体10内に充填される気体は、例えば、空気よりも密度が低い低密度ガスや、反応性の低い不活性ガス等であり、一例としてはヘリウムであるが、ヘリウムには限定されない。外カバー13の通気口13aは、シール13bで塞がれ、通気口13aからの充填された気体の漏れが防止される。このように、HDD100が組み立てられた状態で、筐体10は気密に密閉されるとともに、筐体10内には空気とは異なるガスが封入される。なお、筐体10内は、真空状態または真空に近い状態に保たれてもよいし、大気圧よりも低い圧力に保たれてもよい。以下、筐体10内に封入されているガスを、封入ガスと称する。
図2に示されるように、筐体10内には、磁気ディスク14およびスピンドルモータ15が収容されている。スピンドルモータ15は、底壁11aに支持され、磁気ディスク14を、所定の回転速度で、底壁11aと交差する(直交する)回転中心Ax1回りに、回転駆動する。磁気ディスク14は、スピンドルモータ15の図示しないハブに、互いに同心に取り付けられている。磁気ディスク14の数は、1個であってもよいし、複数個であってもよい。図2の例のように複数の磁気ディスク14が設けられる場合、それら複数の磁気ディスク14は、互いに平行であり、かつ底壁11aと平行である。
筐体10内に設けられるヘッドアセンブリ16は、磁気ディスク14の径方向外方に位置された軸受17を介して、底壁11aに、回転中心Ax1と平行な回転中心Ax2回りに回動可能に支持されている。ヘッドアセンブリ16は、底壁11aに沿って延びたアーム16aを有している。アーム16aの数は、磁気ディスク14の数と同じである。アーム16aの先端には、サスペンション16bを介して磁気ヘッド16cが取り付けられている。磁気ヘッド16cおよび磁気ディスク14は、電気部品の一例である。
また、筐体10内には、ボイスコイルモータ18(VCM)や、ランプロード機構19が設けられている。VCM18は、ヘッドアセンブリ16の回動および位置決めを制御する。ランプロード機構19は、磁気ヘッド16cを磁気ディスク14から離間したアンロード位置に保持する。VCM18は、電気部品の一例である。
図3は、図2の反対側から見たHDD100の分解斜視図である。図3に示されるように、ベース11の底壁11aの外面11d上には、底壁11aと隙間をあけて平行に、プリント配線基板20(PCB)が取り付けられる。PCB20は、例えば、ガラスエポキシ基板等のリジッド基板であり、多層基板やビルドアップ基板等であるが、これらには限定されない。PCB20は、回路基板とも称されうる。PCB20は、第一面20aと第二面20bとを有している。PCB20は、第二面20bが外面11dと面し、第一面20aが露出する姿勢で、例えば、ねじやリベット等の結合具や、弾性フック等のスナップフィット機構によって、ベース11に固定されている。PCB20には、ICや、コイル、コンデンサ、抵抗等の電気部品(不図示)が実装されており、これら電気部品とPCB20に設けられた配線とによって、HDD100の動作や演算処理を制御する制御基板が構成されている。
PCB20と磁気ヘッド16cとの間、およびPCB20とVCM18との間において、制御信号やデータ等は、コネクタ21、コネクタ41、PCB30A、コネクタ42(図4参照)、および配線部材43(図2参照)を経由して伝達される。配線部材43は、例えば、フレキシブルプリント配線板(FPC)である。PCB30Aは、回路基板の一例である。
PCB30Aは、例えば、ガラスエポキシ基板等のリジッド基板であり、多層基板や多層貫通基板であるが、これらには限定されない。
PCB30Aは、底壁11aに設けられた開口11eを覆う状態で当該底壁11aに取り付けられている。開口11eは、底壁11aと略直交する方向に開口した貫通穴である。開口11eの開口方向は、筐体10の厚さ方向であり、底壁11aの厚さ方向であり、外面11dと略直交する方向である。以下、開口11eの開口方向(Z方向またはその反対方向)を、第一方向と称する。第一方向から見た場合、開口11eの形状(断面形状)は、筐体10の長手方向に短くかつ筐体10の短手方向に長い長方形状であるが、これには限定されない。
コネクタ41は、開口11eに沿って、筐体10の短手方向に沿って延びている。図3には示されないが、コネクタ42の形状は、コネクタ41の形状と同様である。コネクタ41のスペックとコネクタ42のスペックとは同じであってもよい。
筐体10内にガスが封入されたり、筐体10内が大気圧よりも低い状態に保たれたりする場合にあっては、PCB30Aが開口11eを覆う部位を介して筐体10内のガスが筐体10外に漏れたり、筐体10外のガスが筐体10内に進入したりしないよう、PCB30Aは、気密が確保される方式および構造によって、底壁11aに固定される。気密性の確保のため、PCB30Aと底壁11aとの間には、エラストマ等によるシール部材や気密性の高い封止剤等が介在してもよい。PCB30Aは、中継基板や、接続基板、封止基板等とも称されうる。
PCB30Aは、外面30aと内面30bとを有している。外面30aは、筐体10外に露出し、PCB20の第二面20bと面している。内面30bは、外面30aとは反対側に設けられている。内面30bの一部は、開口11eを介して筐体10内に露出している。内面30bのうち開口11eの周縁部分と、底壁11aの外面11dとの間で、気密が確保される。第一方向は、PCB30Aと略直交する方向であり、外面30aおよび内面30bと略直交する方向であり、PCB30Aの厚さ方向である。外面30aは、第一面の一例であり、内面30bは、第二面の一例である。
なお、PCB30Aは、底壁11aの筐体10の内側の内面に固定され、開口11eを筐体10の内側から覆ってもよい。この場合、外面30aの一部が開口11eを介して筐体10外に露出し、内面30bが筐体10内に露出する。
PCB30Aの外面30aには、コネクタ41が実装されている。また、PCB20の第二面20bには、コネクタ21が実装されている。PCB20は、コネクタ41とコネクタ21とが互いに機械的かつ電気的に接続された状態で、筐体10に取り付けられる。また、PCB30Aの内面30bには、コネクタ42(図4参照)が実装されている。コネクタ42には、配線部材43に取り付けられたコネクタ(不図示)が装着されている。
コネクタ42の少なくとも一部は、開口11e内に隙間をあけて収容されている。なお、PCB30Aが、底壁11aの筐体10の内側の内面に固定され、開口11eを筐体10の内側から覆う構成にあっては、コネクタ41の少なくとも一部が、開口11e内に隙間をあけて収容される。
図4は、PCB30Aの、図3のIV−IV位置での断面図である。図5は、PCB30Aの内面30bの一部の平面図である。
図4に示されるように、PCB30Aは、扁平な基材層31および導体層32を有する。また、PCB30Aには、外面30aと内面30bとの間を第一方向に貫通する筒状の貫通孔30cが設けられており、当該貫通孔30cの内面(内周面)には、例えばメッキ処理等により、筒状の導体層33が設けられている。導体層33は、PCB30Aを第一方向に貫通している。導体層33の筒内は、中空である。
PCB30Aは、基材層31と導体層32とが積層されて構成されている。基材層31は、例えばエポキシガラス樹脂のような絶縁性の材料によって構成されうる。導体層32,33は、例えば銅系材料のような導電性の金属材料で構成されうる。
導体層32は、導体層32a、導体層32b、および導体層32cを有している。導体層32aは、外面30aに設けられている。導体層32bは、内面30bに設けられている。導体層32cは、外面30aと内面30bとの間に設けられている。導体層32a,32b,32cは、いずれも、第一方向との略直交方向、言い換えると、外面30aおよび内面30bと略平行な方向に、延びている。導体層32a,32b,32cは、第一方向に見た場合に、開口11eの少なくとも一部を覆っている。導体層32aは、第一導体の一例であり、導体層32bは、第二導体の一例である。
導体層32,33の封入ガスのガス透過性(ガス透過度)は、基材層31の封入ガスのガス透過性(ガス透過度)よりも低い。すなわち、導体層32,33は封入ガスを透過し難い。よって、導体層32,33は、遮蔽層とも称されうる。導体層32cは、第一遮蔽層の一例である。
導体層32aの少なくとも一部は、筐体10外に露出している。導体層32aは、半田41aを介してコネクタ41の端子(不図示)と電気的かつ機械的に接続されている。すなわち、導体層32aの少なくとも半田41aと接合される領域は、露出している。なお、外面30aは、半田41aとの接合のための導体層32aの露出領域を除き、レジストのような絶縁性の被膜(不図示)で覆われてもよい。
また、図5にも示されるように、導体層32bの少なくとも一部は、開口11eを介して筐体10内に露出している。導体層32bは、半田42aを介してコネクタ42の端子(不図示)と電気的かつ機械的に接続されている。すなわち、導体層32bの少なくとも半田42aと接合される領域は、露出している。なお、内面30bは、半田42aとの接合のための導体層32bの露出領域を除き、レジストのような絶縁性の被膜(不図示)で覆われてもよい。
PCB30Aの外面30aは、基材層31および導体層32aによって構成されている。PCB30Aの内面30bは、基材層31および導体層32bによって構成されている。なお、基材層31または導体層32a,32bの少なくとも一部がレジストのような被膜(不図示)で覆われる場合にあっては、外面30aおよび内面30bの一部は当該被膜によって構成される。
本実施形態では、互いに電気的に接続された導体層32a、導体層33、および導体層32bは、コネクタ41の端子とコネクタ42の端子とを電気的に接続する導体路34(配線パターン)を構成している。PCB30Aには、コネクタ41,42の端子のそれぞれと対応する複数(例えば30本)の導体路34が設けられている。導体路34は、信号線、電源線、あるいはグラウンド線である。複数の導体路34は、基材層31を介して互いに絶縁されている。導体路34は、底壁11a(筐体10)を貫通している。導体層33は、第三導体の一例である。
図5に示されるように、各導体層32bは、筐体10の長手方向(矢印X)に沿って延びている。図5には示されないが、各導体層32aも、導体層32bと同様に、筐体10の長手方向に沿って延びている。また、図5に示されるように、複数の導体層32bは、筐体10の短手方向(矢印Y)に一定の間隔で並んでいる。図5には示されないが、複数の導体層32aも、導体層32bと同様に、筐体10の短手方向に一定の間隔で並んでいる。複数の導体路34は、開口11eの筐体10の長手方向の両端(両縁)に沿って、筐体10の短手方向に一定の間隔で並んでいる。すなわち、複数の導体路34は、二列に並んでいる。
図4に示されている導体層32cは、第一方向(矢印Z)に見た場合に、例えば長方形のような四角形状の形状を有している。また、導体層32cは、当該開口11eと重なる貫通孔や切欠のような開口の無い、穴無し形状を有している。また、第一方向に見た場合に、導体層32cの外縁32c1は、全体的に、開口11eの内縁11e1よりも外側に位置している。言い換えると、第一方向に見た場合に、外縁32c1は、内縁11e1を取り囲んでいる。内縁11e1は、内周面や、側面とも称されうる。なお、導体層32cは、グラウンド線や電源線と電気的に接続されてもよい。
底壁11aの外面11dには、凹部11d1が設けられている。凹部11d1の側面11d2(外縁)は、第一方向に見た場合に、例えば長方形状のような四角形状の形状を有している。側面11d2は、PCB30Aの底壁11aに沿う方向における位置決めとして機能している。なお、凹部11d1に替えて突起のような他の位置決めが設けられてもよいし、位置決めが無くてもよい。
PCB30Aの内面30bと凹部11d1の底面11d3とは、接着剤50によって接合されている。接着剤50は、例えば、絶縁性を有している。また、接着剤50の封入ガスのガス透過性(ガス透過率、ガス透過度)は、基材層31の封入ガスのガス透過性(ガス透過率、ガス透過度)よりも低い。すなわち、接着剤50は封入ガスを透過し難い。底面11d3は、開口11eの周縁部の一例である。接着剤50は、接着層とも称されうる。
また、貫通孔30cは、第一方向に見た場合に、当該開口11eとは重ならず、開口11eの内縁11e1よりも外側に位置している。貫通孔30cは、接着剤50と、第一方向に、重なっている。よって、導体層33は、接着剤50と接するとともに、第一方向に見た場合に、接着剤50と重なっている。
以上説明したように、本実施形態では、PCB30Aを貫通した筒状の導体層33は、第一方向、すなわち底壁11a(壁)と略直交する方向に見た場合に、開口11eの内縁11e1よりも外側に位置している。仮に、第一方向に見た場合に、貫通孔30cが開口11eと重なる位置に設けられた場合、当該貫通孔30cの内面に筒状すなわち中空状の導体層33が設けられる構成は採用し難い。当該導体層33の筒内に筐体10の内外を繋ぐガスの通路が構成されるからである。よって、その場合には、例えば、導体層32aと導体層32bとを接続する導体層の少なくとも一部を中実のビアとして構成することになる。しかしながら、ビアの形成は筒状の導体層33の形成と比較して手間がかかりやすく、コストも高くなりやすい。この点、本実施形態によれば、貫通孔30cが開口11eと重なっていない、すなわち筐体10内に露出していないため、当該貫通孔30cの内面に筒状の導体層33を設けた場合にあっても、導体層33の筒内は筐体10の内外を繋ぐガスの通路にはならない。よって、本実施形態によれば、例えば、ガスが透過し難いHDD100を得るに際し、導体層32aと導体層32bとを電気的に接続する導体層33、ひいてはPCB30Aの製造の手間やコストが低減されやすい。
また、本実施形態では、PCB30Aは、外面30aと内面30bとの間に位置され基材層31よりも封入ガスのガス透過性の低い導体層32c(遮蔽層)を有している。このような構成によれば、例えば、導体層32cにより、ガスの透過を抑制することができる。また、本実施形態では、導体層33が、第一方向に見た場合に、開口11eの内縁11e1よりも外側に位置しているため、複数の導体層33と絶縁される導体層32cを、比較的広く構成することができる。よって、本実施形態によれば、例えば、導体層32cによる透過抑制の効果がより高まりやすい。
また、本実施形態では、第一方向に見た場合に、導体層32cの外縁32c1は、開口11eの内縁11e1よりも外側に位置している。よって、本実施形態によれば、例えば、導体層32cによる透過抑制の効果がより高まりやすい。
また、本実施形態では、PCB30A(回路基板)の内面30bと凹部11d1の底面11d3(周縁部)とが、接着剤50によって接合されている。よって、本実施形態によれば、例えば、PCB30Aを、開口11eを覆うように、底壁11aに、比較的容易に取り付けることができる。
また、本実施形態では、第一方向に見た場合に、導体層33(第三導体)は、接着剤50と接している。よって、本実施形態によれば、例えば、筒状の導体層33の端部が接着剤50によって塞がれるため、導体層33の筒内が筐体10の内外を繋ぐガスの通路となるのを抑制することができる。
また、本実施形態では、接着剤50は、絶縁性を有している。よって、本実施形態によれば、例えば、複数の導体路34(コネクタ41,42の複数の端子)間をより容易に絶縁することができる。なお、例えば、PCB30Aの表面上のレジストや底壁11aの表面上の塗装膜のような絶縁層(絶縁被膜)が設けられるなどによって、別途複数の導体路34間の絶縁性が確保される場合にあっては、接着剤50は絶縁性を有しなくてもよい。
[第1実施形態の第1変形例]
図6は、第1変形例のHDD100の一部の断面図である。本変形例では、第一方向に見た場合に、貫通孔30cおよび導体層33が、接着剤50に対して開口11eの内縁11e1から離れて位置されている点が、上記実施形態と相違している。このような構成によれば、接着剤50によって、PCB30Aの内面30bと凹部11d1の底面11d3との間におけるガスの透過を抑制することができるので、導体層33の筒内は筐体10の内外を繋ぐガスの通路にはならない。よって、上記第1実施形態と同様の効果が得られる。
[第1実施形態の第2変形例]
図7は、第2変形例のHDD100の一部の断面図である。本変形例では、導体層33の筒内が、ガスの透過を抑制する遮蔽物51で充填されている点が、上記実施形態または上記変形例と相違している。遮蔽物51は、例えば、基材層31よりもガス透過性の低い材料で構成される。遮蔽物51は、例えば、合成樹脂材料であるが、これには限定されない。このような構成によれば、遮蔽物51によって、導体層33の筒内におけるガスの透過を抑制することができるので、貫通孔30c(導体層33)をより開口11eに近付けて配置することができる。これにより、導体層32a(第一導体)および導体層32b(第二導体)の長さ、ひいては導体路34の長さをより短くすることができ、導体路34の電気抵抗をより小さくすることができる。PCB30Aの内面30bと凹部11d1の底面11d3との間におけるガスの透過は、開口11eの内縁11e1と凹部11d1の側面11d2との間に設けられた接着剤50によって、抑制される。接着剤50は、貫通孔30cに対して開口11eとは反対側の領域にも存在している。遮蔽物51は、ガス透過性の条件が満たされるのであれば、筒内の全体に充填されなくてもよく、導体層33の筒内のうち少なくとも底壁11aと隣接した領域(区間)に充填されればよい。また、遮蔽物51は、接着剤50であってもよい。
[第1実施形態の第3変形例]
図8は、第3変形例のHDD100の一部の断面図である。本変形例では、開口11eの内縁11e1(内周面)に、接着剤50のトラップ52が設けられている点が、上記実施形態および変形例と相違している。トラップ52は、底面11d3(底壁11aの外面11d)から離れた位置で内縁11e1から開口11eの内側に張り出した段差として構成されている。トラップ52は、開口11eの一周に亘って環状に延びている。トラップ52は、PCB30Aの内面30bと面して図8では上側を向いたフランジ面52aを有している。フランジ面52aは、段差面とも称されうる。このような構成によれば、底壁11aとPCB30Aとの間の隙間から流出した接着剤50をトラップ52によって捕捉することができるので、接着剤50が筐体10内に進入して筐体10内の他の部品等に影響を及ぼすのを抑制することができる。なお、トラップ52は、内向きフランジであってもよい。
[第1実施形態の第4変形例]
図9は、第4変形例のHDD100の一部の断面図である。本変形例でも、第3変形例と同様、開口11eの内縁11e1(内周面)に、当該開口11eの一周に亘り、接着剤50のトラップ52Aが設けられている。また、トラップ52Aも、PCB30Aの内面30bと面して図9では上側を向いたフランジ面52b1,52c1を有している。ただし、本変形例は、トラップ52Aに、開口11eの一周に亘り環状に延びた凹溝52bまたは凸壁52cが設けられている点が、上記実施形態および変形例と相違している。凹溝52bは、フランジ面52c1においてPCB30Aの内面30bに向けて(図9では上側)に開放されている。言い換えると、凹溝52bは、フランジ面52c1からPCB30Aの内面30bから離れる方向に(図9では下方に)凹んでいる。また、凸壁52cは、フランジ面52b1からPCB30Aの内面30bに近付く方向に(図9では上方に)突出している。フランジ面52b1は、凹溝52bの底面あるいは段差面とも称されうる。フランジ面52c1は、凸壁52cの頂面とも称されうる。このような構成によれば、底壁11aとPCB30Aとの間の隙間から流出した接着剤50をトラップ52Aによって捕捉することができるので、接着剤50が筐体10内に進入して筐体10内の他の部品等に影響を及ぼすのを抑制することができる。
[第1実施形態の第5変形例]
図10は、第5変形例のHDD100の一部の断面図である。本変形例では、PCB30Aと底壁11aとの間で接着剤50が介在する隙間において、底壁11aが、部分的に当該隙間(の高さ)を狭めるための突起11fを備えている点が、上記実施形態および変形例と相違している。突起11fは、底面11d3(底壁11aの外面11d)から、PCB30Aに近付くように突出している。突起11fは、開口11eの周囲を一周に亘り環状に延びている。突起11fの先端は、内面30bと略平行な平坦面、言い換えると第一方向と略直交して延びる平坦面である。このような構成によれば、突起11fとPCB30A(内面30b)との間の隙間を狭めることができるため、当該狭まった区間に介在する接着剤50におけるガスの透過を抑制することができるとともに、突起11fとは外れた底面11d3と内面30bとの間の隙間が広い区間に介在する接着剤50によって底壁11aとPCB30Aとをより確実に接合することができる。
[第1実施形態の第6変形例]
図11は、第6変形例のHDD100の一部の断面図である。本変形例でも、上記第5変形例と同様、PCB30Aと底壁11aとの間で接着剤50が介在する隙間において、底壁11aが、部分的に当該隙間(の高さ)を狭めるための突起11fを備えている。ただし、本変形例では、突起11fの先端は、内面30bと略平行な平坦面ではなく、開口11eに近付くにつれて高さが高くなる傾斜面である点が、上記第5変形例と相違している。このような構成によっても、上記第5変形例と同様の作用および効果が得られる。
[第2実施形態]
図12は、第2実施形態のHDD100の一部の断面図である。図13は、PCB30Bの内面30bの一部の平面図である。本実施形態では、PCB30Bが、導体層32dを有している点が、上記実施形態および上記変形例と相違している。図12に示されるように、導体層32dは、内面30bにおいて導体層32bと並んで設けられている。導体層32dは、第一方向との略直交方向、言い換えると、外面30aおよび内面30bと略平行な方向に、延びている。導体層32dは、第一方向に見た場合に、開口11eの少なくとも一部を覆っている。導体層32dは、導体層32bとは絶縁された状態で設けられている。また、導体層32dは、グラウンド線や電源線と電気的に接続されてもよい。導体層32dは、第二遮蔽層の一例である。
図13に示されるように、導体層32dは、二列の導体路34(導体層32b)の間において、筐体10の長手方向に延びている。導体層32dは、第一方向(矢印Z)に見た場合に、例えば長方形のような四角形状の形状を有している。また、導体層32dは、当該開口11eと重なる貫通孔や切欠のような開口の無い、穴無し形状を有している。このような構成によれば、例えば、導体層32d(第二遮蔽層)を設けたことにより、内面30bにおいて基材層31が筐体10内に露出する面積を減らすことができるため、導体層32dが無い構成と比べてガスが透過し難いPCB30Bを得ることができる。
[第2実施形態の第1変形例]
図14は、第1変形例のPCB30Bの内面30bの一部の平面図である。本変形例でも、上記第2実施形態と同様、PCB30Bが、導体層32dを有している点が、上記実施形態および上記変形例と相違している。ただし、本変形例では、導体層32dの形状が上記第2実施形態と相違している。導体層32dは、中間部32d1と、アーム部32d2と、を有している。中間部32d1は、二列の導体路34(導体層32b)の間に位置され、第一方向に見た場合に四角形状の形状を有している。アーム部32d2は、中間部32d1から、互いに筐体10の短手方向に隣接した二つの導体層32bの間で、筐体10の長手方向に延びている。アーム部32d2の先端は、第一方向に見た場合に開口11eの内縁11e1よりも外側まで延びている。このような構成によれば、例えば、導体層32d(第二遮蔽層)を設けたことにより、内面30bにおいて基材層31が筐体10内に露出する面積をより減らすことができるため、よりガスが透過し難いPCB30Bを得ることができる。
以上、本発明の実施形態および変形例を例示したが、上記実施形態および変形例は一例であって、発明の範囲を限定することは意図していない。実施形態および変形例は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、組み合わせ、変更を行うことができる。実施形態および変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、実施形態および変形例の構成や形状は、部分的に他の構成と入れ替えて実施することも可能である。また、各構成や形状等のスペック(構造や、種類、方向、形式、大きさ、長さ、幅、厚さ、高さ、数、配置、位置、材質等)は、適宜に変更して実施することができる。
例えば、電子機器は、HDDには限定されない。また、電子機器の形状や、大きさ等のスペックは、上記実施形態には限定されない。筐体内は、気密に密閉されなくてもよいし、筐体内には空気が収容されてもよい。
10…筐体、11a…底壁(壁)、11d3…底面(周縁部)、11e…開口、11e1…内縁、30A,30B…PCB(回路基板)、30a…外面(第一面)、30b…内面(第二面)、31…基材層、32a…導体層(第一導体)、32b…導体層(第二導体)、32c…導体層(第一遮蔽層)、32c1…外縁、32d…導体層(第二遮蔽層)、33…導体層(第三導体)、50…接着剤、100…HDD(電子機器)。

Claims (7)

  1. 開口を有した筐体と、
    前記開口を覆い、少なくとも一部が前記筐体外に露出された第一面において少なくとも一部が前記筐体外に露出された第一導体と、少なくとも一部が前記筐体内に露出された第二面において少なくとも一部が前記筐体内に露出された第二導体と、前記第一導体および前記第二導体と電気的に接続され前記開口の内縁よりも外側において前記第一面と前記第二面との間で貫通した第三導体と、を有した回路基板と、
    を備えた、電子機器。
  2. 前記回路基板は、絶縁性の基材層と、前記第一面と前記第二面との間に位置され前記基材層よりもガス透過性が低く前記開口の少なくとも一部を覆う第一遮蔽層と、を有した、請求項1に記載の電子機器。
  3. 前記第一遮蔽層の外縁が前記開口の前記内縁よりも外側に位置された、請求項2に記載の電子機器。
  4. 前記回路基板は、絶縁性の基材層と、前記第二面において前記第二導体と並んで設けられ前記基材層よりもガス透過性が低く前記開口の少なくとも一部を覆う第二遮蔽層と、を有した、請求項1〜3のうちいずれか一つに記載の電子機器。
  5. 前記第一面および前記第二面のうち一方と前記開口の周縁部とが、接着剤によって接合された、請求項1〜4のうちいずれか一つに記載の電子機器。
  6. 前記第三導体は前記接着剤と接するか、あるいは前記接着剤よりも前記開口の前記内縁から離れるように位置された、請求項5に記載の電子機器。
  7. 前記接着剤は、絶縁性を有した、請求項5または6に記載の電子機器。
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