JP2019165103A - 積層バリスタ - Google Patents
積層バリスタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019165103A JP2019165103A JP2018051890A JP2018051890A JP2019165103A JP 2019165103 A JP2019165103 A JP 2019165103A JP 2018051890 A JP2018051890 A JP 2018051890A JP 2018051890 A JP2018051890 A JP 2018051890A JP 2019165103 A JP2019165103 A JP 2019165103A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- varistor
- layer
- high resistance
- specific resistance
- laminated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
Description
1mm、高さ約13mmとなっている。内部電極13の先端部と外部電極14との間には、バリスタ層12よりも比抵抗が大きい高抵抗層15が設けられている。内部電極13に挟まれたバリスタ層12の厚み(T)は約1.5mm、内部電極13の先端と外部電極14との間隔(Tx)は約2.0mmとなっている。
12 バリスタ層
13 内部電極
14 外部電極
15 高抵抗層
Claims (6)
- バリスタ層と内部電極を交互に積層した積層体を焼結した焼結体と、この焼結体の少なくとも両端面において前記内部電極が交互に接続された状態で設けられた一対の外部電極とを備え、前記内部電極の先端と前記外部電極との間に前記バリスタ層よりも比抵抗が大きい高抵抗層を設けた積層バリスタ。
- 前記高抵抗層の比抵抗は、前記バリスタ層の比抵抗の2倍以上である請求項1記載の積層バリスタ。
- 前記バリスタ層と前記内部電極の積み重ね方向の前記内部電極間隔をT、前記内部電極の先端と前記外部電極との間隔をTxとしたとき、1.0≦Tx/T≦1.5とした請求項1記載の積層バリスタ。
- 前記バリスタ層および前記高抵抗層は酸化亜鉛を主成分とし、前記高抵抗層を形成する酸化亜鉛の平均粒径を、前記バリスタ層を形成する酸化亜鉛の平均粒径よりも小さくすることにより前記高抵抗層の比抵抗を前記バリスタ層の比抵抗よりも大きくした請求項1記載の積層バリスタ。
- 前記バリスタ層および前記高抵抗層は酸化亜鉛を主成分とし、前記高抵抗層は炭酸リチウムに換算して10ppm以上、100ppm以下のリチウムをドープすることにより、前記高抵抗層の比抵抗を前記バリスタ層の比抵抗よりも大きくした請求項1記載の積層バリスタ。
- 前記高抵抗層は酸化ケイ素を主成分とし、ビスマス、ホウ素のうち少なくとも1種類を含むガラスとすることにより、前記高抵抗層の比抵抗を前記バリスタ層の比抵抗よりも大きくした請求項1記載の積層バリスタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018051890A JP2019165103A (ja) | 2018-03-20 | 2018-03-20 | 積層バリスタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018051890A JP2019165103A (ja) | 2018-03-20 | 2018-03-20 | 積層バリスタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019165103A true JP2019165103A (ja) | 2019-09-26 |
Family
ID=68065701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018051890A Pending JP2019165103A (ja) | 2018-03-20 | 2018-03-20 | 積層バリスタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2019165103A (ja) |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59218703A (ja) * | 1983-05-26 | 1984-12-10 | 株式会社富士電機総合研究所 | 電圧非直線抵抗体 |
JPS629602A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-17 | 富士電機株式会社 | 電圧非直線抵抗体の製造方法 |
JPH0195714U (ja) * | 1987-12-18 | 1989-06-26 | ||
JPH02165603A (ja) * | 1988-12-20 | 1990-06-26 | Murata Mfg Co Ltd | バリスタ |
JPH02172203A (ja) * | 1988-12-23 | 1990-07-03 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型バリスタ |
JPH03239303A (ja) * | 1990-02-16 | 1991-10-24 | Murata Mfg Co Ltd | 積層バリスタ |
JPH0689803A (ja) * | 1992-09-08 | 1994-03-29 | Fuji Electric Co Ltd | 電圧非直線抵抗体の製造方法 |
JPH06224005A (ja) * | 1993-01-21 | 1994-08-12 | Marcon Electron Co Ltd | 積層セラミック電子部品 |
JPH06251911A (ja) * | 1993-02-25 | 1994-09-09 | Marcon Electron Co Ltd | 積層形電圧非直線抵抗器 |
JPH09205006A (ja) * | 1996-01-24 | 1997-08-05 | Hitachi Ltd | 電圧非直線抵抗体及びその製造方法 |
JPH10321411A (ja) * | 1997-05-21 | 1998-12-04 | Marcon Electron Co Ltd | 積層形電圧非直線抵抗器とその製造方法 |
JPH11307312A (ja) * | 1998-04-21 | 1999-11-05 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型バリスタおよびその製造方法 |
KR20070097755A (ko) * | 2006-03-29 | 2007-10-05 | 박영진 | 적층 커패시터 소자 및 적층 배리스터 소자와, 이의 제조방법 |
-
2018
- 2018-03-20 JP JP2018051890A patent/JP2019165103A/ja active Pending
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59218703A (ja) * | 1983-05-26 | 1984-12-10 | 株式会社富士電機総合研究所 | 電圧非直線抵抗体 |
JPS629602A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-17 | 富士電機株式会社 | 電圧非直線抵抗体の製造方法 |
JPH0195714U (ja) * | 1987-12-18 | 1989-06-26 | ||
JPH02165603A (ja) * | 1988-12-20 | 1990-06-26 | Murata Mfg Co Ltd | バリスタ |
JPH02172203A (ja) * | 1988-12-23 | 1990-07-03 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型バリスタ |
JPH03239303A (ja) * | 1990-02-16 | 1991-10-24 | Murata Mfg Co Ltd | 積層バリスタ |
JPH0689803A (ja) * | 1992-09-08 | 1994-03-29 | Fuji Electric Co Ltd | 電圧非直線抵抗体の製造方法 |
JPH06224005A (ja) * | 1993-01-21 | 1994-08-12 | Marcon Electron Co Ltd | 積層セラミック電子部品 |
JPH06251911A (ja) * | 1993-02-25 | 1994-09-09 | Marcon Electron Co Ltd | 積層形電圧非直線抵抗器 |
JPH09205006A (ja) * | 1996-01-24 | 1997-08-05 | Hitachi Ltd | 電圧非直線抵抗体及びその製造方法 |
JPH10321411A (ja) * | 1997-05-21 | 1998-12-04 | Marcon Electron Co Ltd | 積層形電圧非直線抵抗器とその製造方法 |
JPH11307312A (ja) * | 1998-04-21 | 1999-11-05 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型バリスタおよびその製造方法 |
KR20070097755A (ko) * | 2006-03-29 | 2007-10-05 | 박영진 | 적층 커패시터 소자 및 적층 배리스터 소자와, 이의 제조방법 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20060046265A (ko) | 적층형 칩 배리스터 | |
JP5403370B2 (ja) | Esd保護装置 | |
JP2006295080A (ja) | 積層型チップバリスタ | |
JP5221794B1 (ja) | 静電気保護素子とその製造方法 | |
JP4571164B2 (ja) | 電気的過大応力に対する保護のために使用されるセラミック材料、及びそれを使用する低キャパシタンス多層チップバリスタ | |
US8525634B2 (en) | Chip varistor | |
US8508325B2 (en) | Chip varistor and chip varistor manufacturing method | |
JP3945010B2 (ja) | 積層型バリスタおよびその製造方法 | |
JP5830715B2 (ja) | 積層バリスタ及びその製造方法 | |
JP2004022976A (ja) | 積層型電圧非直線抵抗体、及びその製造方法 | |
EP2942789B1 (en) | Voltage nonlinear resistive element and method for manufacturing the same | |
JP2005353845A (ja) | 積層型チップバリスタ | |
JP2019165103A (ja) | 積層バリスタ | |
JP3832071B2 (ja) | 積層バリスタ | |
US8471673B2 (en) | Varistor and method for manufacturing varistor | |
JP5403075B2 (ja) | Esd保護装置 | |
JP4262141B2 (ja) | 積層型チップバリスタ及びその製造方法 | |
JP4683068B2 (ja) | 積層型チップバリスタ | |
JPH0214501A (ja) | 電圧非直線抵抗器 | |
JP5282332B2 (ja) | 酸化亜鉛積層チップバリスタの製造方法 | |
JP2008270391A (ja) | 積層型チップバリスタおよびその製造方法 | |
JP4087359B2 (ja) | 積層型チップバリスタ | |
JP2006245111A (ja) | ビスマス系酸化亜鉛バリスタ | |
WO2020170545A1 (ja) | バリスタおよびその製造方法 | |
US8552831B2 (en) | Chip varistor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20190123 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211130 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20220614 |