JP2019161188A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019161188A5 JP2019161188A5 JP2018050085A JP2018050085A JP2019161188A5 JP 2019161188 A5 JP2019161188 A5 JP 2019161188A5 JP 2018050085 A JP2018050085 A JP 2018050085A JP 2018050085 A JP2018050085 A JP 2018050085A JP 2019161188 A5 JP2019161188 A5 JP 2019161188A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- semiconductor
- directly above
- electrode
- semiconductor region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 64
- 230000003334 potential Effects 0.000 claims 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
Description
実施形態に係る半導体装置は、半導体部分と、前記半導体部分上に設けられ、第1導電形の第1半導体領域と、前記半導体部分上に設けられ、第2導電形の第2半導体領域と、前記第1半導体領域に接続されたソースコンタクトと、前記第2半導体領域に接続されたドレインコンタクトと、前記ソースコンタクトと前記ドレインコンタクトとの間に配置され、前記第1半導体領域の直上域から前記第2半導体領域の直上域にわたって設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜上に設けられ、前記第1半導体領域の直上域を含む領域に配置された第1電極と、前記絶縁膜上に設けられ、前記第2半導体領域の直上域の一部に配置され、前記第1電極から離隔した第2電極と、を備える。前記絶縁膜は、前記第1半導体領域の直上域を含む領域に配置された第1部分と、前記第2半導体領域の直上域の一部に配置され、前記第1部分よりも厚い第2部分と、前記第2部分よりも薄く前記第1部分よりも厚い第3部分と、前記第3部分よりも厚く、少なくとも一部が前記第2電極と前記ドレインコンタクトとの間に配置された第4部分と、を有する。前記第1部分、前記第2部分、前記第3部分及び前記第4部分は、前記第1半導体領域から前記第2半導体領域に向かう第1方向に沿ってこの順に配列されている。前記第1電極は少なくとも前記第1部分の直上域に配置されている。前記第2電極は少なくとも前記第3部分の直上域に配置されている。
ドリフト層13の上層部分の一部には、導電形がn+形のドレインコンタクト層18が形成されている。ドレインコンタクト層18はシリコン層11から離隔している。なお、上述の各部の導電形は逆でもよい。
部分21は、部分12aの直上域、部分11aの直上域、及び、ドリフト層13における部分11a側の部分の直上域にわたって配置されている。部分22、23及び24は、ドリフト層13の直上域の一部に配置されている。部分22及び部分24は略同じ厚さであり、部分21よりも厚い。部分23は部分22及び部分24よりも薄く、部分21よりも厚い。すなわち、部分21〜24の厚さをそれぞれt21〜t24とすると、t21<t23<t22≒t24である。
次に、本実施形態に係る半導体装置1の動作について説明する。
半導体装置1においては、ドレインコンタクト37にドレイン電位、例えば、+50Vを印加し、ソースコンタクト36にソース電位、例えば、接地電位(0V)を印加する。ドレイン電位は、ドレインコンタクト層18を介してドリフト層13に伝達される。ソース電位は、ソースコンタクト層16に伝達される。これにより、空乏層が形成される。
半導体装置1においては、ドレインコンタクト37にドレイン電位、例えば、+50Vを印加し、ソースコンタクト36にソース電位、例えば、接地電位(0V)を印加する。ドレイン電位は、ドレインコンタクト層18を介してドリフト層13に伝達される。ソース電位は、ソースコンタクト層16に伝達される。これにより、空乏層が形成される。
次に、本実施形態の効果について説明する。
本実施形態に係る半導体装置1においては、オフ状態において、ゲート電極30とドリフト層13によって絶縁膜20の部分21に印加される電圧を低減することができる。この結果、ゲート−ドレイン間の耐圧を高めることができる。
本実施形態に係る半導体装置1においては、オフ状態において、ゲート電極30とドリフト層13によって絶縁膜20の部分21に印加される電圧を低減することができる。この結果、ゲート−ドレイン間の耐圧を高めることができる。
また、半導体装置1においては、絶縁膜20の下面が略平坦であり、シリコン層11内にほとんど進入していないため、オン状態においてドリフト層13内を流れるSD電流を絶縁膜20が妨害することが少ない。これにより、オン抵抗を低減することができる。
更に、半導体装置1においては、ゲート電極30がチャネル領域上からドリフト層13上に延出しているため、ドリフト層13に印加される電界の集中を緩和することができる。これにより、耐圧が向上する。また、この場合、ゲート電極30におけるドレインコンタクト層18側の端部30aとドリフト層13との間で、ゲート−ドレイン電圧が最も高くなる。しかしながら、ゲート電極30の端部30aは絶縁膜20の部分24上に乗り上げており、端部30aとドリフト層13との間には厚い部分24が介在する。このため、この部分の耐圧を向上させることができ、半導体装置1全体の耐圧を向上させることができる。
(試験例)
次に、第6の実施形態に係る半導体装置と上述の各比較例に係る半導体装置の特性を比較した試験例について説明する。
第6の実施形態に係る半導体装置6(図6参照)、第1の比較例に係る半導体装置101(図7参照)、第2の比較例に係る半導体装置102(図8参照)について、シミュレーションを行い、ソース−ドレイン間の耐圧の値B[V]、及び、オン抵抗の値R[mΩmm2]を算出した。また、下記数式1に基づいて、性能指標FOMを算出した。性能指標FOMは低いほど良く、理論値は0.85である。結果を表1に示す。
次に、第6の実施形態に係る半導体装置と上述の各比較例に係る半導体装置の特性を比較した試験例について説明する。
第6の実施形態に係る半導体装置6(図6参照)、第1の比較例に係る半導体装置101(図7参照)、第2の比較例に係る半導体装置102(図8参照)について、シミュレーションを行い、ソース−ドレイン間の耐圧の値B[V]、及び、オン抵抗の値R[mΩmm2]を算出した。また、下記数式1に基づいて、性能指標FOMを算出した。性能指標FOMは低いほど良く、理論値は0.85である。結果を表1に示す。
Claims (9)
- 半導体部分と、
前記半導体部分上に設けられ、第1導電形の第1半導体領域と、
前記半導体部分上に設けられ、第2導電形の第2半導体領域と、
前記第1半導体領域に接続されたソースコンタクトと、
前記第2半導体領域に接続されたドレインコンタクトと、
前記ソースコンタクトと前記ドレインコンタクトとの間に配置され、前記第1半導体領域の直上域から前記第2半導体領域の直上域にわたって設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜上に設けられ、前記第1半導体領域の直上域を含む領域に配置された第1電極と、
前記絶縁膜上に設けられ、前記第2半導体領域の直上域の一部に配置され、前記第1電極から離隔した第2電極と、
を備え、
前記絶縁膜は、
前記第1半導体領域の直上域を含む領域に配置された第1部分と、
前記第2半導体領域の直上域の一部に配置され、前記第1部分よりも厚い第2部分と、
前記第2部分よりも薄く前記第1部分よりも厚い第3部分と、
前記第3部分よりも厚く、少なくとも一部が前記第2電極と前記ドレインコンタクトとの間に配置された第4部分と、
を有し、
前記第1部分、前記第2部分、前記第3部分及び前記第4部分は、前記第1半導体領域から前記第2半導体領域に向かう第1方向に沿ってこの順に配列されており、
前記第1電極は少なくとも前記第1部分の直上域に配置されており、
前記第2電極は少なくとも前記第3部分の直上域に配置されている半導体装置。 - 前記絶縁膜は、前記第4部分よりも薄く前記第1部分よりも厚い第5部分をさらに有する請求項1記載の半導体装置。
- 前記第1電極は、前記第1部分の直上域のみに配置されている請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記第1電極の一部は、前記第2部分の直上域に配置されている請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記第2電極は、前記第3部分の直上域のみに配置されている請求項1〜4のいずれか1つに記載の半導体装置。
- 前記第2電極の一部は、前記第4部分の直上域に配置されている請求項1〜4のいずれか1つに記載の半導体装置。
- 前記第1電極と前記第2電極には、相互に異なる電位を印加可能な請求項1〜6のいずれか1つに記載の半導体装置。
- 半導体部分と、
前記半導体部分上に設けられ、第1導電形の第1半導体領域と、
前記半導体部分上に設けられ、第2導電形の第2半導体領域と、
前記第1半導体領域に接続されたソースコンタクトと、
前記第2半導体領域に接続されたドレインコンタクトと、
前記ソースコンタクトと前記ドレインコンタクトとの間に配置され、前記第1半導体領域の直上域から前記第2半導体領域の直上域にわたって設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜上に設けられた電極と、
を備え、
前記絶縁膜は、
前記第1半導体領域の直上域を含む領域に配置された第1部分と、
前記第2半導体領域の直上域の一部に配置され、前記第1部分よりも厚い第2部分と、
前記第2部分よりも薄く前記第1部分よりも厚い第3部分と、
前記第3部分よりも厚く、少なくとも一部が前記電極と前記ドレインコンタクトとの間に配置された第4部分と、
を有し、
前記第1部分、前記第2部分、前記第3部分及び前記第4部分は、前記第1半導体領域から前記第2半導体領域に向かう第1方向に沿ってこの順に配列されており、
前記電極は、前記第1部分、前記第2部分、前記第3部分及び前記第4部分の直上域に配置されている半導体装置。 - 前記第1部分の下面は、前記第2部分、前記第3部分及び前記第4部分の下面よりも上方に位置する請求項1〜8のいずれか1つに記載の半導体装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018050085A JP7114290B2 (ja) | 2018-03-16 | 2018-03-16 | 半導体装置 |
US16/128,757 US10573743B2 (en) | 2018-03-16 | 2018-09-12 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018050085A JP7114290B2 (ja) | 2018-03-16 | 2018-03-16 | 半導体装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019161188A JP2019161188A (ja) | 2019-09-19 |
JP2019161188A5 true JP2019161188A5 (ja) | 2021-03-25 |
JP7114290B2 JP7114290B2 (ja) | 2022-08-08 |
Family
ID=67906122
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018050085A Active JP7114290B2 (ja) | 2018-03-16 | 2018-03-16 | 半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10573743B2 (ja) |
JP (1) | JP7114290B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102017130213B4 (de) * | 2017-12-15 | 2021-10-21 | Infineon Technologies Ag | Planarer feldeffekttransistor |
EP3731281A1 (en) * | 2019-04-24 | 2020-10-28 | Nxp B.V. | Lateral semiconductor device having raised source and drain, and method of manufacture thererof |
JP7439465B2 (ja) * | 2019-11-12 | 2024-02-28 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
US11158723B2 (en) * | 2020-03-04 | 2021-10-26 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Semiconductor structure and method of forming the same |
US20210407935A1 (en) * | 2020-06-30 | 2021-12-30 | GLOBALFOUNDRIES U.S.Inc. | Semiconductor transistors suitable for radio-frequency applications |
CN114156266A (zh) * | 2020-09-07 | 2022-03-08 | 联华电子股份有限公司 | 功率半导体元件 |
US20230327026A1 (en) * | 2022-03-25 | 2023-10-12 | Wolfspeed, Inc. | Power semiconductor device with shallow conduction region |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1012876A (ja) | 1996-06-27 | 1998-01-16 | Toyota Autom Loom Works Ltd | 半導体装置 |
JP2002270830A (ja) | 2001-03-12 | 2002-09-20 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置 |
US8692324B2 (en) * | 2005-07-13 | 2014-04-08 | Ciclon Semiconductor Device Corp. | Semiconductor devices having charge balanced structure |
CN100544028C (zh) * | 2006-09-19 | 2009-09-23 | 电子科技大学 | 利用场板达到最佳表面横向通量的横向高压器件 |
JP2009283784A (ja) * | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Nec Electronics Corp | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP5371358B2 (ja) | 2008-09-29 | 2013-12-18 | ローム株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP5769915B2 (ja) | 2009-04-24 | 2015-08-26 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US9362398B2 (en) | 2010-10-26 | 2016-06-07 | Texas Instruments Incorporated | Low resistance LDMOS with reduced gate charge |
JP5504187B2 (ja) | 2011-01-26 | 2014-05-28 | 株式会社東芝 | 半導体装置及びその製造方法 |
US20130020632A1 (en) * | 2011-07-18 | 2013-01-24 | Disney Donald R | Lateral transistor with capacitively depleted drift region |
US8878154B2 (en) * | 2011-11-21 | 2014-11-04 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Semiconductor device with multiple space-charge control electrodes |
US9647076B2 (en) * | 2011-11-21 | 2017-05-09 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Circuit including semiconductor device with multiple individually biased space-charge control electrodes |
US9450056B2 (en) | 2012-01-17 | 2016-09-20 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Lateral DMOS device with dummy gate |
US8674440B2 (en) * | 2012-07-31 | 2014-03-18 | Io Semiconductor Inc. | Power device integration on a common substrate |
US9741802B2 (en) * | 2012-09-30 | 2017-08-22 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Semiconductor device with breakdown preventing layer |
JP2014107302A (ja) | 2012-11-22 | 2014-06-09 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
US8895453B2 (en) * | 2013-04-12 | 2014-11-25 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device with an insulation layer having a varying thickness |
US9269765B2 (en) * | 2013-10-21 | 2016-02-23 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Semiconductor device having gate wire disposed on roughened field insulating film |
JP6279346B2 (ja) | 2014-02-27 | 2018-02-14 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
CN104332498B (zh) * | 2014-09-01 | 2018-01-05 | 苏州捷芯威半导体有限公司 | 一种斜场板功率器件及斜场板功率器件的制备方法 |
JP6509665B2 (ja) | 2015-07-23 | 2019-05-08 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP6448704B2 (ja) | 2017-04-13 | 2019-01-09 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
-
2018
- 2018-03-16 JP JP2018050085A patent/JP7114290B2/ja active Active
- 2018-09-12 US US16/128,757 patent/US10573743B2/en active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2019161188A5 (ja) | ||
US9230957B2 (en) | Integrated snubber in a single poly MOSFET | |
US8785912B2 (en) | Graphene electronic device including a plurality of graphene channel layers | |
JP7114290B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH05259454A (ja) | 改良されたブレークダウン電圧特性を有する半導体装置 | |
US9184230B2 (en) | Silicon carbide vertical field effect transistor | |
TWI737084B (zh) | 半導體裝置 | |
US10971621B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2016054181A (ja) | 絶縁ゲート型スイッチング素子 | |
US20150340450A1 (en) | Trench insulated gate bipolar transistor and edge terminal structure | |
JP2013143522A (ja) | スイッチング素子 | |
JP6669628B2 (ja) | スイッチング素子 | |
US20110204439A1 (en) | Semiconductor device | |
JP2018060943A (ja) | スイッチング素子 | |
JP2019176104A (ja) | スイッチング素子 | |
US9825168B2 (en) | Semiconductor device capable of high-voltage operation | |
TW201909414A (zh) | 半導體結構 | |
US10269945B2 (en) | Power transistor device | |
US20210343864A1 (en) | Semiconductor device | |
JP2011129701A (ja) | Mosトランジスタ | |
JP2013232561A (ja) | 半導体装置 | |
US20160276427A1 (en) | Semiconductor device | |
JP2015056492A (ja) | 半導体装置 | |
JP2019186535A (ja) | 半導体装置 | |
US11837637B2 (en) | Semiconductor device having multiple conductive members |