JP2019160920A - 半導体記憶装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】メモリセル特性の劣化を抑制する。【解決手段】半導体記憶装置は、基板21と、前記基板の上方に順に設けられた抵抗変化素子RCおよび金属層38を含む積層体と、前記積層体の側面に設けられた第1絶縁層41と、前記第1絶縁層上に設けられた第2絶縁層42と、前記第2絶縁層内を積層方向に延び、前記金属層上および前記第2絶縁層上に設けられ、前記積層体の径よりも大きい径を有する電極43と、を具備する。【選択図】 図3
Description
実施形態は、半導体記憶装置およびその製造方法に関する。
Magnetic Random Access Memory(MRAM)は、情報を記憶するメモリセルとして磁気抵抗効果を有する記憶素子を用いたメモリ装置である。MRAMは、高速動作、大容量、不揮発性を特徴とする次世代メモリ装置として注目されている。
メモリセル特性の劣化を抑制する半導体記憶装置およびその製造方法を提供する。
実施形態による半導体記憶装置は、基板と、前記基板の上方に順に設けられた抵抗変化素子および金属層を含む積層体と、前記積層体の側面に設けられた第1絶縁層と、前記第1絶縁層上に設けられた第2絶縁層と、前記第2絶縁層内を積層方向に延び、前記金属層上および前記第2絶縁層上に設けられ、前記積層体の径よりも大きい径を有する電極と、を具備する。
実施形態を以下に図面を参照して説明する。図面において、同一部分には同一の参照符号を付す。
<実施形態>
以下に図1乃至図16を用いて、実施形態に係る半導体記憶装置について説明する。以下では、抵抗変化素子として磁気抵抗効果素子(Magnetic Tunnel Junction(MTJ)素子)を用いてデータを記憶するMRAMを例に説明するが、これに限らない。本実施形態は、揮発性メモリ、不揮発性メモリを問わず、抵抗変化素子の抵抗差を電流差または電圧差に変換してセンスするメモリ全般に適用可能である。MRAMと同様の抵抗変化型メモリ、例えばReRAM、PCRAM等のように抵抗変化を利用してデータを記憶する素子を有する半導体記憶装置にも適用可能である。
以下に図1乃至図16を用いて、実施形態に係る半導体記憶装置について説明する。以下では、抵抗変化素子として磁気抵抗効果素子(Magnetic Tunnel Junction(MTJ)素子)を用いてデータを記憶するMRAMを例に説明するが、これに限らない。本実施形態は、揮発性メモリ、不揮発性メモリを問わず、抵抗変化素子の抵抗差を電流差または電圧差に変換してセンスするメモリ全般に適用可能である。MRAMと同様の抵抗変化型メモリ、例えばReRAM、PCRAM等のように抵抗変化を利用してデータを記憶する素子を有する半導体記憶装置にも適用可能である。
なお、以下の説明において、特に限定しない限り、「接続」は直接接続することだけではなく、任意の素子を介して接続することも含む。また、トランジスタの第1端子はソースまたはドレインの一方を示し、トランジスタの第2端子はソースまたはドレインの他方を示す。また、トランジスタの制御端子は、ゲートを示す。
[実施形態の構成例]
図1は、実施形態に係る半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。
図1は、実施形態に係る半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。
図1に示すように、半導体記憶装置は、コントローラ11、コマンド/アドレス回路12、データ回路13、メモリセルアレイ14、ロウデコーダ15、リード/ライト回路16、およびカラムデコーダ17を備える。
コントローラ11は、外部(ホストデバイス)からクロック信号CLK,CLKbおよび外部制御信号を受け取る。コントローラ11は、電圧生成回路等の要素を含んでおり、外部からの制御信号に基づいてコマンド/アドレス回路12およびデータ回路13を制御する。
コマンド/アドレス回路12は、外部からコマンド/アドレス信号CAを受け取り、これらに基づく信号をロウデコーダ15、リード/ライト回路16、およびカラムデコーダ17に供給する。
データ回路13は、外部とリード/ライト回路16との間でデータDQの送受信を行う。より具体的には、データ回路13は、外部からの書き込みデータをリード/ライト回路16に転送する。また、データ回路13は、リード/ライト回路16からの読み出しデータを外部に転送する。
ロウデコーダ15は、コマンド/アドレス回路12からのロウアドレスに応じてワード線WLを選択する。
カラムデコーダ17は、コマンド/アドレス回路12からのカラムアドレスに応じてビット線BLおよびソース線SLを選択する。
リード/ライト回路16は、センスアンプ等を含み、メモリセルアレイ14への書き込みおよびメモリセルアレイ14からの読み出しを制御する。
図2は、実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルアレイ14を示す図である。
図2に示すように、メモリセルアレイ14には、ビット線BL(BL0−BL7)、ソース線SL(SL0−SL7)、およびワード線WL(WL0−WL3)が設けられる。ビット線BLおよびソース線SLは、第1方向に延在し、第1方向に直交する第2方向において交互に設けられる。ワード線WLは、第2方向に延在する。メモリセルアレイ14は、複数のメモリセルMC(MC00−MC07,MC10−MC17,MC20−MC27,MC30−MC37)を有する。各メモリセルMCは、ビット線BLおよびソース線SLと、ワード線WLとの交差位置に設けられる。このため、複数のメモリセルMCは、第1方向および第2方向において行列状に配列される。
より具体的には、メモリセルMC00−MC07は、ビット線BL0−BL7およびソース線SL0−SL7と、ワード線WL0との交差位置に設けられる。また、メモリセルMC10−MC17は、ビット線BL0−BL7およびソース線SL0−SL7と、ワード線WL1との交差位置に設けられる。メモリセルMC20−MC27は、ビット線BL0−BL7およびソース線SL0−SL7と、ワード線WL2との交差位置に設けられる。メモリセルMC30−MC37は、ビット線BL0−BL7およびソース線SL0−SL7と、ワード線WL3との交差位置に設けられる。メモリセルMCは、交差位置において、ビット線BL、ソース線SL、およびワード線WLに電気的に接続される。
なお、メモリセルアレイ14のビット線BL、ソース線SL、およびワード線WLの数は一例であって、限定されるものではない。
メモリセルMCは、例えば、抵抗変化素子RCおよび選択トランジスタSTを含む。抵抗変化素子RCの第1端子はビット線BLに電気的に接続され、第2端子は選択トランジスタSTの第1端子に電気的に接続される。選択トランジスタSTの第2端子はソース線SLに電気的に接続され、選択トランジスタSTの制御端子はワード線WLに電気的に接続される。
抵抗変化素子RCは、電流(あるいは電圧)を加えることにより、抵抗が変化する。抵抗変化素子RCは、例えば、MTJ素子、相変化素子、強誘電体素子などを含む。メモリセルMCは、選択トランジスタSTがワード線WLによってオンされることにより選択される。なお、ここでは、MRAM、すなわち、抵抗変化素子RCがMTJ素子である場合について説明する。
図3は、実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルMCを示す断面図である。
以下、本明細書においては、説明の便宜上、積層方向(図3の上下方向)のうち、半導体基板21から抵抗変化素子RCに向かう方向を「上」とし、抵抗変化素子RCから半導体基板21に向かう方向を「下」とするが、この表記は便宜的なものであり、重力の方向とは無関係である。
図3に示すように、半導体記憶装置のメモリセルMCは、選択トランジスタST、下部電極32、抵抗変化素子RC、および上部電極43等を含む。
選択トランジスタSTは、半導体基板(シリコン基板)21の表面に設けられる。選択トランジスタSTは、例えばMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)である。選択トランジスタSTは、半導体基板21の表面部に埋め込みゲート構造を有する。
より具体的には、選択トランジスタSTは、ゲート絶縁層22、ゲート電極23、および2つの拡散層25(ドレイン側拡散層およびソース側拡散層)を含む。
ゲート絶縁層22は、半導体基板21の表面に設けられたリセスの下部側の内面上に設けられる。ゲート電極23は、ゲート絶縁層22の内面上にリセスの下部側を埋め込むように設けられる。このゲート電極23は、ワード線WLに対応する。これらゲート絶縁層22上およびゲート電極23上には、リセスの上部側を埋めるように絶縁層24が設けられる。絶縁層24は、例えば、シリコン窒化物(SiN)を含むシリコン窒化物層である。絶縁層24の上面は、半導体基板21の上面と同程度の高さである。2つの拡散層25は、半導体基板21の表面に、ゲート絶縁層22、ゲート電極23、および絶縁層24を挟むように設けられる。
なお、選択トランジスタSTの構成は、埋め込みゲート構造を有するものに限らない。例えば、半導体基板21の表面上にゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成した構造であってもよい。選択トランジスタSTの構成は、スイッチング素子として機能するものであればよい。
半導体基板21(絶縁層24および拡散層25)上には、絶縁層31が設けられる。絶縁層31は、例えば、シリコン窒化物を含むシリコン窒化物層または酸化シリコン(SiO2)を含むシリコン酸化物層である。
下部電極32は、絶縁層31のコンタクトホール内に設けられる。下部電極32は、絶縁層31内を積層方向(図3の上下方向)に延びる。下部電極32の下面は、拡散層25(ドレイン)に接続される。下部電極32は、金属を含む金属層であり、例えばW、Ta、Ru、Ti、TaN、およびTiN等の少なくとも1つを含む。下部電極32は、例えば円柱状に設けられる。
下部電極32上の一部に、バッファ層33が設けられる。バッファ層33は、金属層であり、例えばAl、Be、Mg、Ca、Hf、Sr、Ba、Sc、Y、La、およびZr等の少なくとも1つを含む。また、バッファ層33は、HfB、MgAlB、HfAlB、ScAlB、ScHfB、およびHfMgB等の化合物の少なくとも1つを含んでもよい。
抵抗変化素子RCは、バッファ層33上に設けられる。抵抗変化素子RCは、バッファ層33上から順に記憶層34、トンネルバリア層35、および参照層36を含む。記憶層34は、強磁性の磁化自由層であり、例えばCoFeB、FeB、またはMgFeO等を含む。トンネルバリア層35は、非磁性層であり、例えばMgOまたはAlOを含む。また、トンネルバリア層35は、Al、Si、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Zr、またはHf等の元素の窒化物を含んでもよい。参照層36は、強磁性の磁化固定層であり、例えばCoFeB、FeB、またはMgFeO等を含む。すなわち、抵抗変化素子RCは、非磁性層(トンネルバリア層35)を2つの強磁性層(記憶層34および参照層36)で挟んだ構成を有する。
抵抗変化素子RC上に、シフトキャンセル層37が設けられる。シフトキャンセル層37は、例えばCoと、Pt、Ni、およびPdから選択された少なくとも1つの元素と、を含む。シフトキャンセル層37上に、キャップ層38が設けられる。キャップ層38は、金属層であり、例えばTa、Ru、Pt、およびW等の少なくとも1つを含む。なお、キャップ層38上に、キャップ層38と同材料を含む後述するハードマスク39が設けられてもよい。
バッファ層33、抵抗変化素子RC、シフトキャンセル層37、およびキャップ層38の積層体でMTJ素子部が構成される。MTJ素子部は、円柱状に設けられる。このMTJ素子部(積層体)の側壁(側面)に絶縁層40が設けられる。絶縁層40は、MTJ素子部および下部電極32の構成材料を含む被エッチング材料による再付着層である。
なお、バッファ層33は、その上に形成する層の結晶化を促進するためのものである。バッファ層33なしでも十分に良好な結晶が得られる場合は、バッファ層33を省略することも可能である。
MTJ素子部および絶縁層40の周囲を覆うように、保護絶縁層41が設けられる。保護絶縁層41は、MTJ素子部および絶縁層40の側面から絶縁層31の上面に沿って一定の膜厚で設けられる。保護絶縁層41は、例えばシリコン窒化物層である。
保護絶縁層41を覆うように、絶縁層42が設けられる。絶縁層42は、例えばシリコン窒化物層またはシリコン酸化物層である。
上部電極43は、絶縁層42および保護絶縁層41のコンタクトホール内に設けられる。上部電極43は、絶縁層42および保護絶縁層41内を積層方向に延びる。上部電極43の下面は、キャップ層38および絶縁層41の上面に接続される。上部電極43は、金属を含む金属層であり、例えばW、Ta、Ru、Ti、TaN、およびTiN等の少なくとも1つを含む。上部電極43は、例えば円柱状に設けられる。
ここで、上部電極43の径D1は、MTJ素子部の径D2よりも大きい。このため、上部電極43の下面の一部に、MTJ素子部(キャップ層38)が接続される。例えば、上部電極43の下面中央部はキャップ層38に接続され、下面端部(下面中央部の周囲)は保護絶縁層41に接続される。
また、上部電極43の下面は平坦である。このため、上部電極43の最下部(下面)は、キャップ層38の最上部(上面)と積層方向において同じ位置にある。また、保護絶縁層41と上部電極43との接触面における最下部は、キャップ層38と上部電極43との接触面における最上部と積層方向において同じ位置にある。
なお、上部電極43は上側から下側に向かって径が小さくなるテーパ形状であり、MTJ素子部は下側から上側に向かって径が小さくなるテーパ形状である場合がある。この場合、上部電極43の径D1とは上部電極43の最も小さい径(下面の径)を示し、MTJ素子部の径D2とはMTJ素子部の最も小さい径(キャップ層38の上面の径)を示す。
本例では、上部電極43の径D1が保護絶縁層41の外周よりも小さいが、これに限らず、上部電極43の径D1が保護絶縁層41の外周よりも大きくてもよい。
上部電極43および絶縁層42上に、金属層44が設けられる。金属層44は、ビット線BLに対応し、上部電極43の上面に接続される。
また、絶縁層31,42のコンタクトホール内に、コンタクトプラグ45が設けられる。コンタクトプラグ45は、絶縁層31,42内を積層方向に延びる。コンタクトプラグ45の下面は、拡散層25(ソース)に接続される。コンタクトプラグの上面は、図示せぬ金属層(ソース線SL)に接続される。
図4は、実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルMCの変形例を示す断面図である。
図4に示すように、変形例では、上部電極43は、第1部分43aおよび第2部分43bを含む。第2部分43bは、第1部分43aの下面中央部に接続され、下方に突出する。第2部分43bの下面はMTJ素子部(キャップ層38)に接続され、第2部分43bはMTJ素子部に対応するように円柱状に設けられる。第1部分43aの下面端部は、保護絶縁層41に接続される。
すなわち、上部電極43の下面は、中央部が下方に突出した形状である。このため、上部電極43の最下部(第2部分43bの下面)はキャップ層38の最上部(上面)と積層方向において同じ位置にある。また、保護絶縁層41と上部電極43との接触面における最下部(第1部分43aの下面)は、キャップ層38と上部電極43との接触面(第2部分43bの下面)における最上部よりも積層方向において上にある。
ここで、変形例における上部電極43の径D1とは、第1部分43aの最も小さい径(第1部分43aの下面の径)を示す。なお、第2部分43bの径は、MTJ素子部の径と同じである。
図5Aは、実施形態に係る半導体記憶装置における抵抗変化素子RCを示す断面図である。
上述したように、抵抗変化素子RCは、強磁性層である記憶層34と、強磁性層である参照層36と、これらの間に形成される非磁性層であるトンネルバリア層35とで構成される積層構造を含む。
図5Aに示すように、記憶層34は、磁化方向が可変の強磁性層であり、膜面(上面/下面)に対して垂直またはほぼ垂直となる垂直磁気異方性を有する。ここで、磁化方向が可変とは、所定の書き込み電流に対して磁化方向が変わることを示す。また、ほぼ垂直とは、残留磁化の方向が膜面に対して、45°<θ≦90°の範囲内にあることを意味する。
参照層36は、磁化方向が不変の強磁性層であり、膜面に対して垂直またはほぼ垂直となる垂直磁気異方性を有する。ここで、磁化方向が不変とは、所定の書き込み電流に対して磁化方向が変わらないことを示す。すなわち、参照層36は、記憶層34よりも磁化方向の反転エネルギーバリアが大きい。
図5Bは、実施形態に係る半導体記憶装置における抵抗変化素子RCの書き込みを説明するための図であり、平行状態(P状態)における抵抗変化素子RCの断面図を示す図である。図5Cは、実施形態に係る半導体記憶装置における抵抗変化素子RCの書き込みを説明するための図であり、反平行状態(AP状態)における抵抗変化素子RCの断面図を示す図である。
本例において、抵抗変化素子RCは、例えばスピン注入型の抵抗変化素子である。したがって、抵抗変化素子RCにデータを書き込む場合、または抵抗変化素子RCからデータを読み出す場合、抵抗変化素子RCは、膜面に垂直な方向において、双方向に電流が流れる。
より具体的には、抵抗変化素子RCへのデータの書き込みは、以下のように行われる。
図5Bに示すように、記憶層34から参照層36へ電流が流れる場合、すなわち、参照層36から記憶層34へ向かう電子が供給される場合、参照層36の磁化方向と同じ方向にスピン偏極された電子が記憶層34に注入される。この場合、記憶層34の磁化方向は、参照層36の磁化方向と同じ方向に揃えられる。これにより、参照層36の磁化方向と記憶層34の磁化方向とが、平行配列となる。この平行状態のとき、抵抗変化素子RCの抵抗値は最も低くなる。この場合を例えば「0」データと規定する。
一方、図5Cに示すように、参照層36から記憶層34へ電流が流れる場合、すなわち、記憶層34から参照層36へ向かう電子が供給される場合、参照層36により反射されることで参照層36の磁化方向と反対方向にスピン偏極された電子とが記憶層34に注入される。この場合、記憶層34の磁化方向は、参照層36の磁化方向と反対方向に揃えられる。これにより、参照層36の磁化方向と記憶層34磁化方向とが、反平行配列となる。この反平行状態のとき、抵抗変化素子RCの抵抗値は最も高くなる。この場合を例えば「1」データと規定する。
また、抵抗変化素子RCからのデータの読み出しは、以下のように行われる。
抵抗変化素子RCに、読み出し電流が供給される。この読み出し電流は、記憶層34の磁化方向が反転しない値(書き込み電流よりも小さい値)に設定される。この時の抵抗変化素子RCの抵抗値の変化を検出することにより、上記「0」データおよび「1」データを読み出すことができる。
[実施形態の製造方法]
図6乃至図13は、実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルMCの製造工程を示す断面図である。
図6乃至図13は、実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルMCの製造工程を示す断面図である。
まず、図6に示すように、半導体基板21の表面部に埋め込みゲート構造を有する選択トランジスタSTが形成される。選択トランジスタSTは、以下のように形成される。
例えば、半導体基板21にリセスが形成された後、このリセスの側面およびボトムにゲート絶縁層22が形成される。ゲート絶縁層22は、例えば熱酸化によって形成されるシリコン酸化物層である。次に、リセスの下部側を埋め込むように、ポリシリコンを含むゲート電極23が形成される。その後、リセスの上部側を埋め込むようにシリコン窒化物層である絶縁層24が形成され、表面が平坦化される。さらに、半導体基板21の表面部に不純物をイオン注入することにより、拡散層25が形成される。このようにして、選択トランジスタSTが形成される。
次に、半導体基板21上に、例えばCVD(Chemical Vapor Deposition)法により、絶縁層31が形成される。絶縁層31は、例えば、シリコン窒化物層またはシリコン酸化物層である。この絶縁層31に、積層方向に延びる図示せぬコンタクトホールが形成される。コンタクトホールは、絶縁層31を貫通し、半導体基板21(拡散層25)に達する。これにより、コンタクトホールのボトムに、半導体基板21(拡散層25)が露出する。
次に、コンタクトホール内に、例えばCVD法により、下部電極32が形成される。これにより、コンタクトホール内が埋め込まれる。下部電極32の下面は、拡散層25に接続される。下部電極32は、金属を含む金属層であり、例えばW、Ta、Ru、Ti、TaN、およびTiN等の少なくとも1つを含む。
次に、図7に示すように、下部電極32および絶縁層31上に、例えばスパッタ法により、バッファ層33が形成される。バッファ層33は、例えばAl、Be、Mg、Ca、Hf、Sr、Ba、Sc、Y、La、およびZr等の少なくとも1つを含む。また、バッファ層33は、HfB、MgAlB、HfAlB、ScAlB、ScHfB、およびHfMgB等の化合物の少なくとも1つを含んでもよい。
次に、バッファ層33上に、例えばスパッタ法により、記憶層34、トンネルバリア層35、および参照層36が順に形成される。記憶層34および参照層36は、例えばCoFeB、FeB、またはMgFeO等を含む。トンネルバリア層35は、例えばMgOまたはAlOを含む。また、トンネルバリア層35は、Al、Si、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Zr、またはHf等の元素の窒化物を含んでもよい。
次に、参照層36上に、例えばスパッタ法により、シフトキャンセル層37が形成される。シフトキャンセル層37は、例えばCoと、Pt、Ni、およびPdから選択された少なくとも1つの元素と、を含む。このシフトキャンセル層37上に、例えばスパッタ法により、キャップ層38が形成される。キャップ層38は、例えばTa、Ru、Pt、およびW等の少なくとも1つを含む。これにより、MTJ素子部のための積層体が形成される。
次に、図8に示すように、キャップ層38上に、ハードマスク39が形成される。ハードマスク39は、MTJ素子部パターンに対応するようにパターニングされる。すなわち、ハードマスク39は、下部電極32の上方に対応するように形成される。ハードマスク39は、キャップ層38と同じ材料、例えばTa、Ru、Pt、およびW等の少なくとも1つを含む。
次に、図9に示すように、例えばハードマスク39を用いたIBE法により、キャップ層38からバッファ層33までがエッチング(パターニング)される。このエッチングは、下部電極32および絶縁層31に達する。これにより、キャップ層38、シフトキャンセル層37、参照層36、トンネルバリア層35、記憶層34、およびバッファ層33の積層体からなるMTJ素子部が形成される。ここで、ハードマスク39が完全に除去されているが、残存してもよい。
MTJ素子部のエッチングと同時に、MTJ素子部の側壁に、MTJ素子部の各層からの再付着層となる側壁層51が形成される。このとき、MTJ素子部を完全に形成するために、バッファ層33よりも深くまでオーバーエッチングされる。すなわち、下部電極32の一部もエッチングされる。このため、側壁層51は、MTJ素子部および下部電極32の構成材料を含む被エッチング材料による再付着層である。
次に、図10に示すように、側壁層51が、酸化処理されて、絶縁層40になる。絶縁層40は、酸化物である。これにより、側壁層51による記憶層34と参照層36との電気的ショートを防ぐことができる。
次に、図11に示すように、MTJ素子部を覆うように、保護絶縁層41が形成される。保護絶縁層41は、MTJ素子部の側面および上面、並びに絶縁層31の上面に沿ってに形成される。保護絶縁層41は、例えばシリコン窒化物層、アルミニウム窒化物層、またはハフニウム窒化物層等の窒化物層である。
次に、図12に示すように、保護絶縁層41上の全面に、例えばCVD法により、絶縁層42が形成される。絶縁層42は、例えばシリコン窒化物層またはシリコン酸化物層である。この絶縁層42に、例えば図示せぬマスクを用いたRIE(Reactive Ion Etching)法により、保護絶縁層41に達するコンタクトホールCHが形成される。コンタクトホールCHは、絶縁層42を貫通し、保護絶縁層41に達する。このとき、RIEは、絶縁層42と保護絶縁層41とで選択性を有する。すなわち、絶縁層42のエッチングレートに対して保護絶縁層41のエッチングレートは小さいため、保護絶縁層41の上面でエッチングが止まる。これにより、コンタクトホールCHのボトムに、絶縁層41が露出する。
次に、図13に示すように、IBE(Ion Beam Etching)法により、コンタクトホールCHのボトムの露出した絶縁層41がエッチングされる。これにより、コンタクトホールCHのボトムの絶縁層41が除去され、コンタクトホールCHのボトムにキャップ層38が露出する。IBE法に用いる不活性ガスとしては、Ar、Xe、Kr、またはNe等が用いられる。IBE法におけるイオンビーム角度は、例えば0度であるが、これに限らず、コンタクトホールCHのボトムに入射する角度以下であればよい。イオンビーム角度は、基板(半導体基板21)の表面に対して垂直方向(積層方向)を基準(0度)とした場合の角度である。
ここで、コンタクトホールCHの径は、MTJ素子部の径よりも大きい。このため、コンタクトホールCHのボトム中央部にキャップ層38が露出し、ボトム端部(ボトム中央部の周囲)に保護絶縁層41が露出する。
また、IBE法によってエッチングが制御されることで、コンタクトホールCHのボトムは平坦に形成される。すなわち、コンタクトホールCHのボトムにおける保護絶縁層41の上面とキャップ層38の上面とは、積層方向において同じ位置にある。その後、再付着層等を除去するために、ウェットエッチングが行われてもよい。
次に、図3に示すように、コンタクトホールCHに金属層が埋め込まれ、上部電極43が形成される。これにより、MTJ素子部よりも径が大きく、下面が平坦な上部電極43が形成される。
その後、絶縁層42,31に、拡散層25(ソース)に達するコンタクトホールが形成される。このコンタクトホールに金属層が埋め込まれ、コンタクトプラグ45が形成される。
さらに、上部電極43上に、ビット線BLとなる金属層44が形成される。また、コンタクトプラグ44上に、ソース線SLが形成される。
このようにして、実施形態における半導体装置が形成される。
なお、上記図13の工程において、IBE法により、キャップ層38および保護絶縁層41がオーバーエッチングされてもよい。
このとき、IBE法は、イオンビーム角度をθ以下に調整されて行われる。イオンビーム角度をθ以下にすることで、IBE法においてキャップ層38のエッチングレートを保護絶縁層41のエッチングレートよりも大きくすることができる。このIBE法におけるエッチングレートの詳細については、図14を用いて後述する。
これにより、コンタクトホールCHのボトムにおいて、キャップ層38のほうが保護絶縁層41よりもエッチングされる。したがって、コンタクトホールCHのボトムにおける保護絶縁層41の上面がキャップ層38の上面よりも積層方向において上になる。
その後、コンタクトホールCHに金属層が埋め込まれることで、図4に示す変形例の第1部分43aおよび第2部分43bからなる上部電極43が形成される。
図14は、IBE法におけるイオンビーム角度とエッチングレートとの関係を示す図である。ここで、実線Aはシリコン窒化物等の絶縁体を示し、実線BはW、Ta、Ru、Ti、TaN、およびTiN等の金属を示す。すなわち、実線Aは保護絶縁層41を示し、実線Bはキャップ層38を示す。
図14に示すように、IBE法では、イオンビーム角度を調整することで、被エッチング材料のエッチングレートが制御され得る。イオンビーム角度が小さい場合(<θ)、キャップ層38のエッチングレートは保護絶縁層41のエッチングレートよりも大きい。イオンビーム角度が大きくなり、θになると、保護絶縁層41のエッチングレートはキャップ層38のエッチングレートと同じになる。さらに、イオンビーム角度が大きくなると(>θ)、キャップ層38のエッチングレートは保護絶縁層41のエッチングレートよりも小さくなる。
上記変形例では、キャップ層38のエッチングレートが保護絶縁層41のエッチングレートよりも大きくなるように、イオンビーム角度がθ以下に設定される。これにより、IBE法によりオーバーエッチングしたとしても、コンタクトホールCHのボトムにおける保護絶縁層41の上面がキャップ層38の上面よりも積層方向において上になる。
なお、IBE法におけるイオンビーム角度は、θ以下であって、さらにコンタクトホールCHのボトムに入射する角度以下であることが必要である。本実施形態では、IBE法におけるイオンビーム角度は、例えば0度である。
[実施形態の効果]
図15は、実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルMCの製造工程の第1比較例を示す断面図である。
図15は、実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルMCの製造工程の第1比較例を示す断面図である。
図15に示すように、第1比較例では、コンタクトホールCHのボトムの保護絶縁層41を除去する際に、RIE法が行われる。これにより、コンタクトホールCHのボトムに、キャップ層38が露出する。しかし、RIE法では、キャップ層38のエッチングレートよりも保護絶縁層41のエッチングレートのほうが大きい。このため、キャップ層38が露出した後のオーバーエッチングにおいて、保護絶縁層41のみが選択的にエッチングされる。このため、MTJ素子部(特にシフトキャンセル層37)の側面が露出されてしまう。その結果、その後に残留ガス等の除去のためにウェットエッチングが行われると、MTJ素子部にダメージが与えられ、メモリセル特性(MTJ磁気特性)が劣化してしまう。
図16は、実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルMCの製造工程の第2比較例を示す断面図である。
図16に示すように、第2比較例では、第1比較例と同様に、コンタクトホールCHのボトムの保護絶縁層41を除去する際に、RIE法が行われる。ここで、第2比較例では、コンタクトホールCHの径がMTJ素子部の径よりも小さく設定される。これにより、コンタクトホールCHのボトムには、キャップ層38のみが露出する。したがって、第1比較例のような保護絶縁層41がオーバーエッチングされることを防ぐことができる。しかし、コンタクトホールCHの径が小さくなると、RIE法によってコンタクトホールCHのボトムの保護絶縁層41を完全に除去することが困難になる。その結果、コンタクトホールCHのボトムにキャップ層38を露出することができず、上部電極43とキャップ層38との接続が困難になる。このため、上部電極43とキャップ層38との電気的接触が消失する(オープン不良が生じる)可能性が高くなる。
これに対し、上記実施形態によれば、コンタクトホールCHの径がMTJ素子部の径よりも大きく形成されるとともに、コンタクトホールCHのボトムの保護絶縁層41を除去する際にIBE法が行われる。コンタクトホールCHの径を大きくすることで、ボトムの保護絶縁層41を完全に除去することができる。これにより、コンタクトホールCHのボトムに、キャップ層38を容易に露出させることができる。したがって、第2比較例の問題を防ぐことができる。
また、上記実施形態のIBE法では、キャップ層38のエッチングレートが保護絶縁層41のエッチングレートと同じまたはこれよりも大きくなるように設定される。このため、キャップ層38が露出した後のオーバーエッチングにおいて、キャップ層38と保護絶縁層41とが同じだけエッチングされる。または、キャップ層38のほうが保護絶縁層41よりもエッチングされる。これにより、MTJ素子部(特にシフトキャンセル層37)の側面の露出を抑制することができる。したがって、第1比較例の問題を防ぐことができ、MTJ磁気特性の劣化を抑制することができる。
なお、上記実施形態では図3および図4に示すメモリセルMCについて説明したが、以下の変形例においても適用可能である。
図17は図3に示すメモリセルMCの変形例を示す断面図であり、図18は図4に示すメモリセルMCの変形例を示す断面図である。
図3および図4では、MTJ素子部において、下部側から順に記憶層34、トンネルバリア層35、および参照層36が設けられた。これに対し、図17および図18に示すように、記憶層34と参照層36とが反対に置き換えられてもよい。また、この場合、シフトキャンセル層37も置き換えられてもよい。すなわち、MTJ素子部において、下部側から順にシフトキャンセル層37、参照層36、トンネルバリア層35、および記憶層34が順に設けられる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を実行することができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
21…半導体基板、31…絶縁層、32…下部電極(金属層)、34…記憶層(第1磁性層)、35…トンネルバリア層(非磁性層)、36…参照層(第2磁性層)、51…酸化層、CH…コンタクトホール、RC…抵抗変化素子。
Claims (8)
- 基板と、
前記基板の上方に順に設けられた抵抗変化素子および金属層を含む積層体と、
前記積層体の側面に設けられた第1絶縁層と、
前記第1絶縁層上に設けられた第2絶縁層と、
前記第2絶縁層内を積層方向に延び、前記金属層上および前記第2絶縁層上に設けられ、前記積層体の径よりも大きい径を有する電極と、
を具備する半導体記憶装置。 - 前記電極の最下部は、前記金属層の最上部と積層方向において同じ位置にある請求項1の半導体記憶装置。
- 前記第1絶縁層と前記電極との接触面における最下部は、前記金属層と前記電極との接触面における最上部と積層方向において同じ位置にある請求項1の半導体記憶装置。
- 前記第1絶縁層と前記電極との接触面における最下部は、前記金属層と前記電極との接触面における最上部よりも積層方向において上にある請求項1の半導体記憶装置。
- 前記金属層は、W、Ta、Ru、Ti、TaN、およびTiNの少なくとも1つを含む請求項1の半導体記憶装置。
- 前記第1絶縁層は、SiNを含む請求項1の半導体記憶装置。
- 基板の上方に、抵抗変化素子および金属層が順に積層された積層体を形成し、
前記積層体をパターニングし、
前記パターニングされた前記積層体の側面および上面に第1絶縁層を形成し、
前記第1絶縁層上に、第2絶縁層を形成し、
前記積層体の上方の前記第2絶縁層を貫通して前記第1絶縁層に達するホールを形成し、
前記ホールのボトムの前記第1絶縁層をIBE法により除去して前記金属層を露出し、
前記ホール内に電極を形成する
半導体記憶装置の製造方法。 - 前記ホールの径は、前記パターニングされた前記積層体の径よりも大きい請求項7の半導体記憶装置の製造方法。
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