JP2019158349A - ガスセンサ素子及びガスセンサ - Google Patents

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Abstract

【課題】測定電極が高温の測定対象ガスに晒された後、低温の測定対象ガスを測定する場合であっても安定したセンサ出力が得られるガスセンサ素子及びガスセンサを提供する。【解決手段】固体電解質体21と、固体電解質体上に配置された一対の電極27,30と、を備えるガスセンサ素子であって、前記一対の電極は、測定対象ガスに接触する測定電極27と、基準ガスに接触する基準電極30と、を備えており、前記測定電極を覆う多孔質状の保護層31を有し、前記保護層は、外側から順に触媒含有層t1、ガス制限層t2、及びガストラップ層t3を少なくとも備え、触媒含有層及びガストラップ層は、Pt、Pd、及びRhの群から選ばれる1種以上の金属をそれぞれ含有し、ガス制限層は前記金属を非含有であり、触媒含有層の気孔率は、ガス制限層の気孔率及び前記ガストラップ層の気孔率よりも大きい。【選択図】図4

Description

本発明は、被検出ガスの濃度を検出するガスセンサ素子、及びガスセンサに関する。
燃焼器や内燃機関等の排気ガス中の酸素濃度を検出するガスセンサとして、筒状又は板状の固体電解質の表面に検知電極及び基準電極を設けたガスセンサ素子を備えたものが知られている。
このガスセンサは、基準電極を基準ガス雰囲気に曝す一方で、検知電極を被検出ガスに曝すことで、被測定ガス中の酸素濃度に応じて固体電解質体で発生する起電力を、基準電極と検知電極とから取り出し、この起電力の値を用いて酸素濃度を検出することができる、いわゆる酸素濃淡起電力式のガスセンサになっている。
被測定ガス中には、酸素以外に炭化水素等の未燃ガスが含まれており、未燃ガスを誤検知しないよう、検知電極に触媒作用のある貴金属を含有させて未燃ガスを検知電極上で燃焼させている。
ところが、エンジン始動時等の排気ガスが低温な領域(約300〜500℃)では、検知電極の触媒作用が低下し、未燃ガス(特にCOガス)が十分に燃焼しなかったり、未燃ガスが検知電極に吸着してセンサ出力が不安定になる。
そこで、検知電極に鉛を含有させることで、低温での検知電極の未燃ガスに対する活性を改善させた技術が開発されている。(特許文献1)
特開2001−124726号公報
しかしながら、特許文献1に記載のガスセンサが高温(800〜1000℃)の排気ガスに晒されると、検知電極に含有された鉛が昇華して検知電極の活性状態が変化するおそれがある。
従って、本発明は、測定電極が高温の測定対象ガスに晒された後、低温の測定対象ガスを測定する場合であっても安定したセンサ出力が得られるガスセンサ素子及びガスセンサの提供を目的とする。
上記課題を解決するため、本発明のガスセンサ素子は、固体電解質体と、前記固体電解質体上に配置された一対の電極と、を備えるガスセンサ素子であって、前記一対の電極は、測定対象ガスに接触する測定電極と、基準ガスに接触する基準電極と、を備えており、前記測定電極を覆う多孔質状の保護層を有し、前記保護層は、外側から順に触媒含有層、ガス制限層、及びガストラップ層を少なくとも備え、前記触媒含有層及び前記ガストラップ層は、Pt、Pd、及びRhの群から選ばれる1種以上の金属をそれぞれ含有し、前記ガス制限層は前記金属を非含有であり、前記触媒含有層の気孔率は、前記ガス制限層の気孔率及び前記ガストラップ層の気孔率よりも大きい。
このガスセンサ素子によれば、触媒含有層の金属により測定対象ガス中の未燃ガスの一部を燃焼させ、触媒含有層よりも気孔率が小さく緻密なガス制限層がガス通過性を低下させて内側のガストラップ層に到達する測定対象ガス、ひいては触媒含有層で燃焼されずに残った未燃ガスの量を減少させる。そして、触媒含有層よりも気孔率が小さく緻密なガストラップ層の金属に未燃ガスを吸着(トラップ)させて測定電極に到達する未燃ガスの量を減少させる。
又、ガス制限層及びガストラップ層の気孔率を触媒含有層の気孔率より小さくしてガストラップ層を流通する未燃ガスの量を抑制することで、未燃ガスの量が減ると共にガスの拡散する経路が制限されるので、未燃ガスがガストラップ層の金属と接触しやすく、未燃ガス成分がより吸着し易くなる。又、ガス制限層が金属を含まないので、保護層全体の金属量を低減できる。 その結果、測定電極に鉛等の昇華性の元素を含有する必要がなく、測定電極が高温の測定対象ガスに晒された後、低温の測定対象ガスを測定する場合であっても安定したセンサ出力が得られる。
本発明のガスセンサ素子において、前記ガストラップ層は、前記金属を0.04体積%以上含有してもよい。
このガスセンサ素子によれば、未燃ガスの吸着(トラップ)能がさらに向上する。
本発明のガスセンサ素子において、前記触媒含有層の最大厚み≧(前記ガス制限層の最大厚み+前記ガストラップ層の最大厚み)の関係を満たすとよい。
触媒含有層は金属によって未燃ガスを燃焼させるため、金属と接触する測定対象ガスの量、ひいては未燃ガスの量を増やす必要がある。従って、t1≧(t2+t3)とすることで触媒含有層を通過する未燃ガスの量をさらに増やすことができる。
本発明のガスセンサ素子において、前記ガス制限層の気孔率は、5%〜20%であるとよい。
このガスセンサ素子によれば、ガス制限層によるガス透過性を低下させる機能をより確実に発揮できる。
本発明のガスセンサ素子において、前記ガストラップ層の気孔率は、5%〜20%であるとよい。
このガスセンサ素子によれば、ガストラップ層による未燃ガスを吸着(トラップ)する機能をより確実に発揮できる。
本発明のガスセンサ素子において、前記触媒含有層の気孔率は、前記ガス制限層、及び、前記ガストラップ層の気孔率よりも20%以上大きくてもよい。
このガスセンサ素子によれば、触媒含有層を通過する未燃ガスの量をさらに増やし、触媒含有層による未燃ガスを燃焼させる機能をより確実に発揮できる。
本発明のガスセンサは、前記ガスセンサ素子を備えてなる。
この発明によれば、ガスセンサ素子の測定電極が高温の測定対象ガスに晒された後、低温の測定対象ガスを測定する場合であっても安定したセンサ出力が得られる。
本発明の実施形態に係るガスセンサを軸線方向に沿う面で切断した断面図である。 ガスセンサ素子の外観を示す正面図である。 ガスセンサ素子を軸線方向に沿う面で切断した断面図である。 図3の領域D1の拡大断面図である。 ガストラップ層におけるPtの含有割合と、低温での実際の応答性(TRL)との関係を示す図である。 ガストラップ層におけるPtの存在状態を示す図である。
以下、本発明の実施形態について説明する。
図1は、本発明の実施形態に係るガスセンサ1を軸線O方向(先端から後端に向かう方向)に沿う面で切断した断面図、図2はガスセンサ素子3の外観を示す正面図、図3はガスセンサ素子3を軸線O方向に沿う面で切断した断面図を示す。この実施形態において、ガスセンサ1は自動車又はオートバイ等の車両の排気管内に挿入されて先端が排気ガス中に曝され、排気ガス中の酸素濃度を検出する酸素センサになっている。ガスセンサ1に組み付けられたガスセンサ素子3は、酸素イオン伝導性の固体電解質体に一対の電極を積層した酸素濃淡電池を構成し、酸素量に応じた検出値を出力する公知の酸素センサ素子である。
なお、図1の下側をガスセンサ1の先端側とし、図1の上側をガスセンサ1の後端側とする。
ガスセンサ1は、ガスセンサ素子3、セパレータ5、閉塞部材7、端子金具9、リード線11等を備える。さらにガスセンサ1は、ガスセンサ素子3、セパレータ5、及び閉塞部材7の周囲を覆う筒状の主体金具13、プロテクタ15、外筒16を備える。
なお、外筒16は、内側外筒17及び外側外筒19を備え、それぞれ例えばステンレス鋼などの金属材料からなっている。
ガスセンサ1は、ガスセンサ素子3を加熱するためのヒータを備えていない、いわゆるヒータレスのセンサであり、排気ガスの熱を利用してガスセンサ素子3を活性化して酸素を検出する。
図2、図3に示すように、ガスセンサ素子(この例では酸素センサ素子)3は、先端が閉じた略円筒状(中空軸状)をなし、先端に向かってテーパ状に縮径する筒状の固体電解質体からなる素子本体21と、素子本体21の先端部25の外周面に形成された外側電極27と、素子本体21の内周面に形成された内側電極30と、外側電極27を覆う保護層31とを有する。
素子本体21は酸素イオン伝導性を有し、例えばイットリアを安定化剤として固溶させた部分安定化ジルコニア(YSZ)を主成分とすることができる。ここで、主成分とは、素子本体21のうち50質量%を超える成分をいう。
内側電極30は、ガスセンサ素子3の内部空間に導入される基準ガス雰囲気に曝され、外側電極27は測定対象ガスに曝される。そして、素子本体21を介して内側電極30と外側電極27との間で酸素濃度の検知を行うようになっている。
内側電極30及び外側電極27は、例えばPtを主成分として形成することができる。
なお、内側電極30及び外側電極27が特許請求の範囲のそれぞれ「基準電極」及び「測定電極」に相当する。
素子本体21の外周には、径方向外側に突出する素子鍔部23が全周にわたって形成されている。又、素子鍔部23の先端向き面には環状リード部28が形成されている。さらに、環状リード部28と外側電極27との間における素子本体21の外周面には、軸線O方向に延びて環状リード部28と外側電極27とを電気的に接続する縦リード部29が形成されている。
環状リード部28及び縦リード部29は、例えばPtを主成分として形成することができる。
保護層31については後述する。
図1に戻り、主体金具13の後端部には、ガスセンサ素子3の後端部を覆う外筒16が接合されている。一方、ガスセンサ素子3先端の検出部はプロテクタ15で覆われている。そして、このようにして製造されたガスセンサ1の主体金具13の雄ねじ部41を排気管等のネジ孔に取付けることで、ガスセンサ素子3先端の検出部を排気管内に露出させて測定対象ガス(排気ガス)を検知している。
主体金具13の中央付近には、六角レンチ等を係合するための多角形の六角部43が設けられ、六角部43と雄ねじ部41との間の段部には、排気管に取付けた際のガス抜けを防止するガスケットが嵌挿されている。
さらに、主体金具13のうち六角部43の後端側には、筒状部45が設けられている。
主体金具13の先端寄りの内周面には内側に縮径する段部39が設けられている。そして、ガスセンサ素子3が主体金具13の内側に挿通され、段部39の後端向き面に、プロテクタ15の後端縁及びパッキン88を介して、ガスセンサ素子3の素子鍔部23が当接している。
さらに、素子鍔部23の後端側におけるガスセンサ素子3と主体金具13との径方向の隙間に、筒状の滑石粉末47、及び筒状のセラミックスリーブ49が配置されている。
そして、主体金具13の筒状部45の後端部51の内側におけるセラミックスリーブ49の後端側に、先端側から順に内側外筒17のフランジ状の先端部55と、金属リング53を配し、後端部51を内側に屈曲してかしめる。
これにより、金属リング53が先端側に押し付けられ、金属リング53とセラミックスリーブ49との間に先端部55が挟持されて内側外筒17が主体金具13に固定される。又、セラミックスリーブ49が先端側に押し付けられて滑石粉末47を押し潰し、ガスセンサ素子3と主体金具13の隙間がシールされる。
セパレータ5はガスセンサ素子3の後端側に配置されている。セパレータ5は、アルミナ等のセラミックからなる筒状絶縁体であり、中心にはリード線11の挿通孔35が設けられている。又、セパレータ5は、その外周側を覆う内側外筒17との間に空隙18が設けられるように配置されている。
セパレータ5の後端側の外筒16内側には、筒状の閉塞部材7が加締め固定されている。閉塞部材7は、フッ素ゴム等の弾性体からなる絶縁体であり、中心にはリード線11の挿通孔37が設けられている。又、閉塞部材7の後端には、径方向外側に突出する突出部36が形成されている。閉塞部材7の先端向き面95は、セパレータ5の後端向き面97に密着し、閉塞部材7ののうち突出部36よりも先端側の側方外周面98は、内側外筒17の内面に密着している。すなわち、閉塞部材7は外筒16の後端側を閉塞している。
一方、閉塞部材7の後端向き面99は、外側外筒19の縮径部19gの先端向き面19aとの間で、リード線保護部材89の鍔部89bを挟持する。
このうち、縮径部19gは、閉塞部材7よりも後端にて径方向内側に延びており、縮径部19gの先端向き面19aは、ガスセンサ1の先端側に向く面として備えられている。縮径部19gの中央領域には、リード線11及びリード線保護部材89を挿通するためのリード線挿通部19cが形成されている。
リード線保護部材89は、先端側端部89aにて径方向外側に突出する板状の鍔部89bを備える。鍔部89bはリード線保護部材89の全周にわたって形成されている。そして、上記したように、閉塞部材7の後端向き面99と、外側外筒19の縮径部19gの先端向き面19aとの間で、鍔部89bが挟持されている。
端子金具9は、後端側に径方向外側に突出するフランジ部77を備え、フランジ部77は3枚の板状のフランジ片75を備えている。端子金具9はインコネル750(登録商標)等の導電性金属で形成された筒状部材であり、リード線11に電気的に接続されると共に、ガスセンサ素子3の筒孔に挿入されて内側電極30に電気的に接続される。
一方、リード線11は、芯線65と、芯線65の外周を覆う被覆部67とを備え、芯線65が端子金具9に電気的に接続される。
一方、主体金具13の先端側には筒状のプロテクタ15が外嵌され、主体金具13から突出するガスセンサ素子3の先端側がプロテクタ15で覆われている。プロテクタ15は、複数の孔部(図示せず)を有する金属製(例えば、ステンレスなど)の有底筒状をなしている。
そして、プロテクタ15の後端縁が径方向外側に広がり、この後端縁は、環状のパッキン88を介してガスセンサ素子3の素子鍔部23と、主体金具の段部39との間に挟持されることでプロテクタ15が固定されている。
なお、セパレータ5と重なる内側外筒17の外周には、樹脂材料(例えばPTFE)で形成された筒状撥水性の通気フィルタ57が介装され、通気フィルタ57の外周には外側外筒19が配置されている。
そして、通気フィルタ57を挟んで外側外筒19をかしめ部19bにて径方向内側にかしめることで、内側外筒17、通気フィルタ57及び外側外筒19が一体に固定される。
又、通気フィルタ57より後端側で閉塞部材7を挟んで外側外筒19をカシメかしめ部19hにて径方向内側にかしめることで、内側外筒17及び外側外筒19が一体に固定されると共に、閉塞部材7の側方外周面98が内側外筒17の内面に密着し、閉塞部材7より先端側のガスセンサ素子3をシールしている。
なお、内側外筒17及び外側外筒19は、それぞれ通気孔59、61を備え、通気孔59、61及び通気フィルタ57を介して、外部の水を通さずにガスセンサ素子3の内部空間に(空隙18を経由して)基準ガス(大気)を導入するようになっている。
次に、図4を参照して保護層31の構成について説明する。なお、図4は図3の領域D1の拡大断面図である。
上述のように、内側電極30及び外側電極27は素子本体21の内周面及び外周面にそれぞれ形成されている。又、外側電極27の表面に多孔質状の保護層31が形成されている。
さらに、本実施形態では、保護層31は、外側から順に触媒含有層32、ガス制限層33、及びガストラップ層34を連続して備えている。
なお、各層32、33、34を「連続して」とは、各層32、33、34の間に別の層が介在しないことをいう。但し、各層32、33、34の間に別の層が介在してもよい。
各層32、33、34は、例えばセラミックの多孔質からなり、アルミナ、アルミナマグネシアスピネル、ジルコニア、チタニアより選択される少なくとも一種以上を含むことが好ましく、例えばアルミナマグネシアスピネルとチタニアからなることが好ましい。又、各層32、33、34は、後述するように、セラミック粒子と焼失性の造孔材とを含むスラリーを塗布後、焼成して多孔質状に形成することができる。
なお、本例では、層32はスピネルとチタニア、層33、34はジルコニアと造孔材(カーボン)を含むスラリーで構成されている。
ここで、触媒含有層32及びガストラップ層34は、Pt、Pd、及びRhの群から選ばれる1種以上の金属Mをそれぞれ含有する一方、ガス制限層33は金属Mを非含有である。
又、触媒含有層32の気孔率は、ガス制限層33の気孔率及びガストラップ層34の気孔率よりも大きい。
触媒含有層32及びガストラップ層34が金属Mを含有し、ガス制限層33が金属Mを非含有であることは、図4に示す各層32、33、34の断面のSEM像として反射電子像を取得し、金属Mの有無から判定できる。
なお、金属Mは、通常は金属粒子として多孔質のセラミック骨格の表面に分散している。
又、各層32、33、34の境界は、断面のSEM像(反射電子像)における金属Mを非含有の部位をガス制限層33とみなし、ガス制限層33の外側を触媒含有層32と規定し、ガス制限層33の内側をガストラップ層34と規定する。
触媒含有層32は、金属Mを含有すると共に、各層32、33、34のうち最も外側に配置されている。これにより、未燃ガスを含む測定対象ガスがまず触媒含有層32を通過し、この層32の金属Mによって未燃ガスが燃焼する。つまり、触媒含有層32は、未燃ガスを燃焼させる機能を有する。
又、触媒含有層32は、測定対象ガス中の被毒物(例えばPやSiなど)をトラップしても目詰まりしないよう、ガス制限層33及びガストラップ層34の気孔率よりも気孔率が大きく(例えば50%以上)に設定されている。
一方、触媒含有層32の気孔率がガス制限層33及びガストラップ層34の気孔率と同一又はこれらの気孔率よりも小さいと、未燃ガスの成分(C,H等)と酸素との間で拡散速度の差が生じ、触媒含有層32中で共存せずに分離してしまうため、未燃ガスを十分に燃焼させることが困難になる。
そして、触媒含有層32で未燃ガスの一部が燃焼した測定対象ガスは、触媒含有層32の内部のガス制限層33に到達するが、ガス制限層33の気孔率が触媒含有層32の気孔率よりも小さく(例えば5〜20%)、ガス通過性が低いため、測定対象ガス、ひいては触媒含有層32で燃焼されずに残った未燃ガスがガス制限層33の内部に到達する量が減少する。これにより、ガス制限層33の内部のガストラップ層34へ到達する未燃ガスの量も減少する。
つまり、ガス制限層33は、ガス通過性を低下させる機能を有する。
なお、ガス制限層33が金属Mを含有しないことで、貴金属等の使用量を削減できる。
ガストラップ層34は金属Mを含有するが、ガス制限層33と同様に気孔率が小さいので、未燃ガス(CO)の量が減ると共にガスの拡散する経路が制限されるので、未燃ガスが金属Mと接触しやすく、未燃ガス成分(CO)がより吸着し易くなる。つまり、ガストラップ層34は、未燃ガスを吸着(トラップ)する機能を有する。
ガス制限層33及びガストラップ層34の気孔率を触媒含有層32の気孔率と同一又はこれより大きくすると、ガストラップ層34を流通する未燃ガスの量が増えてしまい、未燃ガスを十分に吸着するためには金属Mの量を増加させる必要が生じ、コストアップに繋がる不具合がある。
以上のように、触媒含有層32及びガストラップ層34が金属Mをそれぞれ含有する一方、ガス制限層33は金属Mを非含有である。又、触媒含有層32の気孔率は、ガス制限層33の気孔率及びガストラップ層34の気孔率よりも大きい。
これにより、触媒含有層32の金属Mにより未燃ガスの一部を燃焼させ、触媒含有層32よりも気孔率が小さく緻密なガス制限層33がガス通過性を低下させて内側のガストラップ層34に到達する測定対象ガス、ひいては触媒含有層32で燃焼されずに残った未燃ガスの量を減少させる。そして、触媒含有層32よりも気孔率が小さく緻密なガストラップ層34の金属Mに未燃ガスを吸着(トラップ)して外側電極27に到達する未燃ガスの量を減少させる。
ガス制限層33及びガストラップ層34の気孔率を触媒含有層32の気孔率より小さくしてガストラップ層34を流通する未燃ガスの量を抑制することで、低温でもガストラップ層34による未燃ガスの吸着能を確保することができる。
その結果、外側電極27に鉛等の昇華性の元素を含有する必要がなく、外側電極27が高温の測定対象ガスに晒された後、低温の測定対象ガスを測定する場合であっても安定したセンサ出力が得られる。
ここで、各層32、33、34の気孔率は、ガスセンサ素子の長手方向に沿う断面を研磨した後、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて倍率5000倍で撮影し、得られた像を2値化処理することで算出する。なお、各層32、33、34毎にSEM像を5点撮像し、各像から算出された気孔率の平均を気孔率の値に採用する。
ガストラップ層34は、上記した金属Mを0.04体積%以上含有すると、未燃ガスの吸着(トラップ)能がさらに向上するので好ましい。触媒含有層32及びガストラップ層34中の金属Mの含有量は、各層の断面の30×120μmの領域のEPMAの元素マッピングに基づき、各層の主成分の組成に含まれる特徴的元素(例えばジルコニアであればZr)と、金属Mの元素のモル比を取得する。そして、ガストラップ層34の主成分(ガストラップ層34の50質量%を超える成分であって、本例では部分安定化ジルコニア)に対し、金属Mの体積%を求める。
具体的には、Pt/Zrモル比を、「Pt/ガストラップ層の主成分」のモル比とみなし、Pt及びガストラップ層の主成分の理論密度から体積%を計算する。
触媒含有層32の最大厚みt1≧(ガス制限層33の最大厚みt2+ガストラップ層34の最大厚みt3)の関係を満たすことが好ましい。
上記したように、触媒含有層32は金属Mによって未燃ガスを燃焼させるため、金属Mと接触する測定対象ガスの量、ひいては未燃ガスの量を増やす必要がある。従って、最大厚みt1を最大厚み(t2+t3)と等しいか、これよりも厚くすることで触媒含有層32を通過する未燃ガスの量をさらに増やすことができる。
一方、最大厚み(t2+t3)を最大厚みt1よりも厚くすると、触媒含有層32よりも気孔率が小さくて緻密なガス制限層33とガストラップ層34の合計厚みが厚くなり過ぎ、外側電極27に到達する測定対象ガスの量が少なくなり過ぎて、ガスの検出精度が低下する場合がある。
ガス制限層33によるガス通過性を低下させる機能と、ガストラップ層34による未燃ガスを吸着(トラップ)する機能とをより確実に発揮させるため、上述のように各層33、34の気孔率が5〜20%であることが好ましい。
又、触媒含有層32を通過する未燃ガスの量をさらに増やし、触媒含有層32による未燃ガスを燃焼させる機能をより確実に発揮させるため、層32の気孔率が、ガス制限層33及びガストラップ層34の気孔率よりも20%以上大きいことが好ましい。なお、「ガス制限層33及びガストラップ層34の気孔率」とは、両層33、34のうち気孔率が大きい方の値を採用する。最大厚みt1は100〜350μmであることが好ましく、最大厚みt2+t3は70〜150μmであることが好ましい。
次に、本実施形態のガスセンサ素子3の製造方法の一例について説明する。
まず、例えばジルコニアに、イットリアを添加し、さらにアルミナを加えて造粒した後、所定形状(例えば図1参照)に成形し、未焼成素子本体を製造する。
次いで、未焼成素子本体の外面及び内面の所定位置に、外側電極27、環状リード部28、縦リード部29、内側電極30となる導電性スラリー(例えば、Ptとジルコニアを含有するスラリー)を塗布する。
外側電極27及び内側電極30は、蒸着や化学メッキ等を用いて設けてもよい。
次いで、外側電極27の全体を覆うように、ガストラップ層34となる第3スラリーをディップ法で塗布する。第3スラリーは、ガストラップ層34の骨格となる成分(ジルコニア等のセラミック粒子)と、造孔剤(例えば、焼失性のカーボン)と、金属Mの粒子と、バインダーと、有機溶剤とをボールミル混合してスラリーとすることができる。
次に、ガストラップ層34の全体を覆うように、ガス制限層33となる第2スラリーをディップ法で塗布する。第2スラリーは、第3スラリーのうち金属Mの粒子を省いた組成である。
そして、各スラリーを塗布した未焼成素子本体を、乾燥させた後に所定温度(例えば1300〜1600℃)で第1の焼成を施し、素子本体を製造する。
次に、ガス制限層33の全体を覆うように、触媒含有層32となる第1スラリーをディップ法で塗布する。
そして、第1スラリーを塗布した素子本体を、乾燥させた後に所定温度(例えば700℃〜1000℃)で第2の焼成を施す。
次に、素子本体の触媒含有層32の形成部分を、金属Mを含有する水溶液(例えば、金属Mの塩を含む溶液)に浸漬した後、乾燥させ、所定温度(例えば700℃〜1000℃)で焼成する。これにより、触媒含有層32が金属Mを担持するようになる。
このようにして、ガスセンサ素子3が完成する。
このガスセンサ素子3を主体金具13に組み付け、さらにセパレータ5、閉塞部材7を収容した外筒16を組み付けることで、ガスセンサ1が完成する。
第1スラリー、第2スラリー、第3スラリーはいずれもセラミック粒子と、焼失性の造孔材の粒子(カーボンや有機粒子)とを混合したペーストとすることができる。セラミック粒子は、例えばジルコニアとアルミナの混合粉末とすることができる。
多孔質の各層32、33,34は、例えばアルミナマグネシアスピネル等の耐熱セラミックをプラズマ溶射して形成することもできる。
本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の思想と範囲に含まれる様々な変形及び均等物に及ぶことはいうまでもない。
ガスセンサとしては、例えば、酸素センサ、NOセンサ、COセンサ、Hセンサ、SOセンサ、NHセンサに適用できる。
又、本発明は板型のセンサにも適用できる。
ジルコニアに、イットリアを5mol%添加した5YSZに対し、さらにアルミナ粉末を添加して造粒して素子本体用粉末とした後、図1に示す有底筒状に成形し、未焼成素子本体を製造した。99.6質量%の5YSZに対し、アルミナ粉末の添加量を0.4質量%とした。
次に、外側電極27となる導電性スラリーとして、Ptに対して15質量%の単斜晶ジルコニアを添加し、適宜有機溶媒等を加えた組成を用いた。内側電極30、環状リード部28、縦リード部29となる導電性スラリーとして、Ptに対して15質量%の素子本体用粉末(上述の5YSZとアルミナの混合粉末)を添加し、適宜有機溶媒等を加えた組成を用いた。これらの導電性スラリーを上述のように所望位置に塗布した。
第2スラリー及び第3スラリーとして、90体積%の上述の素子本体用粉末と、10体積%のカーボン(造孔材)とを混合し、適宜有機溶媒等を加えた組成を用いた。
なお、第3スラリー中の金属M(Pt)の含有量を変えて、ガストラップ層34中の金属Mの含有量を変化させた。
そして、第2スラリー及び第3スラリーを塗布した未焼成素子本体を、乾燥させた後に1350℃で1時間の第1の焼成を施し、素子本体を製造した。
第1スラリーとして、スピネル粉末とチタニア粉末と、を混合し、適宜純水等を加えた組成を用いた。
そして、第1スラリーを塗布した素子本体を、乾燥させた後に1000℃で1時間の第2の焼成を施した。その後、触媒含有層32の形成部分を、金属Mを含有する水溶液(塩化Pt酸溶液、硝酸Pd溶液、硝酸Rh溶液の混合溶液)に浸漬した後、乾燥させ800℃で焼成し、ガスセンサ素子3を製造した。
このガスセンサ素子3を主体金具13に組み付け、さらにセパレータ5、閉塞部材7を収容した外筒16を組み付け、図1に示すガスセンサ1を製造した。
従来例として、特許文献1のガスセンサ素子を製造し、図1に示すガスセンサに組み付けた。この従来例は、ガストラップ層34を設けず、外側電極27にPbを、Pb/Pt比が2atm%となるよう含有させたものである。
具体的には、焼成後の素子にPb水溶液をディップ法にて塗布した後、乾燥することで外側電極27にPbを含有させた。
得られた各ガスセンサ1を、500℃でλ=1.0の雰囲気ガス中に100時間晒して処理した後、低温でのセンサ出力(応答性)を評価した。
応答性(TRL)は、上記処理後のガスセンサを公知のバーナー測定装置に取り付け、素子温度300℃で、空燃比をλ=0.9(リッチ)からλ=1.1(リーン)に切り替えた際に、センサ出力が600mVから300mVに変化するのに要した時間をTRL(ms)とし、応答性を評価した。
上記した参考例のガスセンサのTRLが301msであったので、TRLが300ms以下であれば低温での応答性が良好とみなした。
又、応答性を測定後の各ガスセンサ素子のガストラップ層34の断面のEPMA元素分析を上述のようにして行い、ガストラップ層34の主成分であるZrと、含有金属であるPtとのPt/Zrモル比を測定した。
得られた結果を図5に示す。図5から明らかなように、ガストラップ層34におけるPt/Zrモル比が0.001以上であれば、応答性(TRL)が300msec以下で良好であることが判明した。
Pt/Zrモル比=0.001の場合、ガストラップ層34がPtを0.04体積%含有するものと換算されるので、ガストラップ層34がPtを0.04体積%含有することが好ましいことがわかる。
なお、図6は、Pt/Zr(モル比)=0.01の場合のガストラップ層34の断面における反射電子像であり、図6の白い像がPtである。
1 ガスセンサ
3 ガスセンサ素子
21 固体電解質体
27 測定電極(外側電極)
30 基準電極(内側電極)
31 保護層
32 触媒含有層
33 ガス制限層
34 ガストラップ層
M 金属
t1 触媒含有層の最大厚み
t2 ガス制限層の最大厚み
t3 ガストラップ層の最大厚み

Claims (7)

  1. 固体電解質体と、前記固体電解質体上に配置された一対の電極と、を備えるガスセンサ素子であって、
    前記一対の電極は、測定対象ガスに接触する測定電極と、基準ガスに接触する基準電極と、を備えており、
    前記測定電極を覆う多孔質状の保護層を有し、
    前記保護層は、外側から順に触媒含有層、ガス制限層、及びガストラップ層を少なくとも備え、
    前記触媒含有層及び前記ガストラップ層は、Pt、Pd、及びRhの群から選ばれる1種以上の金属をそれぞれ含有し、前記ガス制限層は前記金属を非含有であり、
    前記触媒含有層の気孔率は、前記ガス制限層の気孔率及び前記ガストラップ層の気孔率よりも大きいガスセンサ素子。
  2. 前記ガストラップ層は、前記金属を0.04体積%以上含有する請求項1に記載ガスセンサ素子。
  3. 前記触媒含有層の最大厚み≧(前記ガス制限層の最大厚み+前記ガストラップ層の最大厚み)の関係を満たす請求項1又は2に記載のガスセンサ素子。
  4. 前記ガス制限層の気孔率は、5%〜20%である請求項1〜3のいずれか一項に記載のガスセンサ素子。
  5. 前記ガストラップ層の気孔率は、5%〜20%である請求項1〜4のいずれか一項に記載のガスセンサ素子。
  6. 前記触媒含有層の気孔率は、前記ガス制限層、及び、前記ガストラップ層の気孔率よりも20%以上大きい請求項1〜5のいずれか一項に記載のガスセンサ素子。
  7. 請求項1〜6のいずれか一項に記載のガスセンサ素子を備えたガスセンサ。
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