JP2019152709A - プロジェクター - Google Patents

Abstract

【課題】冷却性能に優れ、かつ、小型で静粛性に優れた冷却装置を備えるプロジェクターを提供する。【解決手段】プロジェクター１は、冷媒Ｗが気体へ変化することで冷却対象を冷却する冷却装置を備える。冷却装置は、冷媒Ｗを生成する冷媒生成部と、冷媒生成部において生成された冷媒Ｗを冷却対象に向けて伝送する冷媒伝送部と、冷却対象に接続され、冷媒伝送部によって伝送された冷媒Ｗを保持し、冷却対象からの熱を受けて冷媒Ｗを気体に変化させる冷媒保持部７１と、を有する。冷媒生成部は、生成された冷媒Ｗが内部に貯留される熱交換部３０を有し、プロジェクター１が基本姿勢である場合に、冷媒保持部７１および冷媒生成部は、熱交換部３０内に貯留される冷媒Ｗの界面Ｌｗが冷媒保持部７１の重力方向最下部を通る水平面Ｌｂよりも重力方向下側に位置するように、プロジェクター１内に配置されている。【選択図】図１０

Description

本発明は、プロジェクターに関する。

プロジェクターを冷却する手段として、送風装置を用いた空冷による冷却手段（例えば、特許文献１参照）、および冷媒液を送るポンプと冷媒液を通す配管とを用いた液冷による冷却手段（例えば、特許文献２参照）等が提案されている。

特開２００２−１０７６９８号公報 特開２００７−２９４６５５号公報

近年、プロジェクターの高輝度化等に伴って、冷却手段によって冷却される冷却対象の熱量が増加しており、冷却手段による冷却性能の向上が求められている。しかし、上述した空冷および液冷等の冷却手段において冷却性能を向上させる場合、冷却手段が大型化し、プロジェクターが大型化する問題がある。また、空冷の場合には、送風装置による騒音が増大する問題もある。

本発明は、上記事情に鑑みて、冷却性能に優れ、かつ、小型で静粛性に優れた冷却装置を備えるプロジェクターを提供することを目的の一つとする。

［適用例１］本適用例に係るプロジェクターは、光を射出する光源装置と、前記光源装置からの光を画像信号に応じて変調する光変調装置と、前記光変調装置により変調された光を投射する投射光学装置と、冷媒が気体へ変化することで冷却対象を冷却する冷却装置と、を備えるプロジェクターであって、前記冷却装置は、前記冷媒を生成する冷媒生成部と、前記冷媒生成部において生成された前記冷媒を前記冷却対象に向けて伝送する冷媒伝送部と、前記冷却対象に接続され、前記冷媒伝送部によって伝送された前記冷媒を保持し、前記冷却対象からの熱を受けて前記冷媒を気体に変化させる冷媒保持部と、を有し、前記冷媒生成部は、生成された前記冷媒が内部に貯留される貯留部を有し、前記プロジェクターが第１の姿勢である場合に、前記冷媒保持部および前記冷媒生成部は、前記貯留部内に貯留される前記冷媒の界面が前記冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側に位置するように、前記プロジェクター内に配置されることを特徴とする。

本適用例によれば、冷却装置は、冷媒生成部で生成した冷媒を冷媒伝送部によって冷却対象へと伝送し、吸熱反応である冷媒の気体への変化を利用することで冷却対象から熱を奪って冷却対象を冷却することができる。冷媒の気体への変化による冷却は、積極的に冷却対象から熱を奪えるため、空冷および液冷のように単に冷媒への伝熱によって冷却対象を冷却する場合に比べて、冷却性能に優れている。これにより、空冷および液冷と同じ冷却性能を得る場合に、空冷および液冷に比べて冷却装置全体を小型化しやすい。

また、冷媒の気体への変化による冷却の場合、気体へ変化する冷媒が冷却対象と接触する表面積を大きくすることで冷却性能を向上できる。そのため、冷却装置による冷却性能を大きくしても、騒音が大きくなることを抑制できる。以上により、本適用例によれば、冷却性能に優れ、かつ、小型で静粛性に優れた冷却装置を備えたプロジェクターが得られる。

また、本適用例によれば、冷媒生成部において冷媒を生成できるため、使用者が冷媒を補充する手間がなく、使用者の利便性を向上できる。

また、本発明のプロジェクターの一つの態様によれば、冷媒伝送部に溝加工や多孔質部材を用いることで、ポンプなどの動力を用いることなく常に適量の冷媒の伝送が可能となるため、小型化、軽量化、低コスト化、低騒音化しやすい。

また、本適用例によれば、冷媒生成部で生成され、貯留部に貯留されている冷媒の界面が、冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側にあるため、重力により冷媒保持部へ過剰に冷媒が伝送されることがなく、冷媒保持部からの漏水を防止することができる。

［適用例２］上記適用例に係るプロジェクターにおいて、前記冷媒保持部および前記冷媒生成部は、前記第１の姿勢、および前記第１の姿勢から第１の水平軸の周りに９０°回転させた第２の姿勢の双方において、前記貯留部内に貯留される前記冷媒の界面が前記冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側に位置するように、前記プロジェクター内に配置されることが望ましい。

本適用例によれば、第１の姿勢および第２の姿勢の双方において、冷媒生成部で生成され、貯留部に貯留されている冷媒の界面が、冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側にあるため、重力により冷媒保持部へ過剰に冷媒が伝送されることがなく、冷媒保持部からの漏水を防止することができる。

［適用例３］上記適用例に係るプロジェクターにおいて、前記冷媒保持部および前記冷媒生成部は、前記第１の姿勢、および前記第１の姿勢から第１の水平軸の周りに１８０°回転させた第３の姿勢の双方において、前記貯留部内に貯留される前記冷媒の界面が前記冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側に位置するように、前記プロジェクター内に配置されることが望ましい。

本適用例によれば、第１の姿勢および第３の姿勢の双方において、冷媒生成部で生成され、貯留部に貯留されている冷媒の界面が、冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側にあるため、重力により冷媒保持部へ過剰に冷媒が伝送されることがなく、冷媒保持部からの漏水を防止することができる。

［適用例４］上記適用例に係るプロジェクターにおいて、前記冷媒保持部および前記冷媒生成部は、前記第１の姿勢、前記第１の姿勢から第１の水平軸の周りに第１の回転方向に沿って９０°回転させた第２の姿勢、前記第２の姿勢から前記第１の水平軸の周りに前記第１の回転方向に沿ってさらに９０°回転させた第３の姿勢、および前記第３の姿勢から前記第１の水平軸の周りに前記第１の回転方向に沿ってさらに９０°回転させた第４の姿勢において、前記貯留部内に貯留される前記冷媒の界面が前記冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側に位置するように、前記プロジェクター内に配置されることが望ましい。

本適用例によれば、第１〜第４の姿勢のいずれにおいても、冷媒生成部で生成され、貯留部に貯留されている冷媒の界面が、冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側にあるため、重力により冷媒保持部へ過剰に冷媒が伝送されることがなく、冷媒保持部からの漏水を防止することができる。

［適用例５］上記適用例に係るプロジェクターにおいて、前記冷媒保持部および前記冷媒生成部は、前記第１の姿勢から前記第１の水平軸に直交する第２の水平軸の周りに９０°回転させた第５の姿勢において、前記貯留部内に貯留される前記冷媒の界面が前記冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側に位置するように、前記プロジェクター内に配置されることが望ましい。

本適用例によれば、第５の姿勢においても、冷媒生成部で生成され、貯留部に貯留されている冷媒の界面が、冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側にあるため、重力により冷媒保持部へ過剰に冷媒が伝送されることがなく、冷媒保持部からの漏水を防止することができる。

［適用例６］上記適用例に係るプロジェクターにおいて、前記冷媒保持部および前記冷媒生成部は、前記貯留部および前記冷媒保持部を、第１の水平軸に垂直な第１の平面に投影した場合に、前記貯留部が、前記冷媒保持部に対して、前記第１の平面に平行な第１の方向の正負両側、および前記第１の平面に平行で前記第１の方向に直交する第２の方向の正負両側にはみ出すように、前記プロジェクター内に配置されることが望ましい。

本適用例によれば、第１の方向の正負両側および第２の方向の正負両側のいずれの側を重力方向下側に向けた場合でも、貯留部に貯留されている冷媒を、冷媒保持部よりも重力方向下側に位置させることが可能となる。

［適用例７］上記適用例に係るプロジェクターにおいて、前記貯留部の内壁には、表面張力を生じる溝が形成されており、前記冷媒伝送部は、前記溝を含んで構成されることが望ましい。

本適用例によれば、冷媒生成部の貯留部から平易な構造で冷媒を送ることが可能となる。

［適用例８］上記適用例に係るプロジェクターにおいて、前記貯留部の内壁には、多孔質部材が設けられており、前記冷媒伝送部は、前記多孔質部材を含んで構成されることが望ましい。

本適用例によれば、冷媒生成部の貯留部から平易な構造で冷媒を送ることが可能となる。

［適用例９］上記適用例に係るプロジェクターにおいて、前記冷却対象は、前記光変調装置であることが望ましい。

本適用例によれば、光変調装置の温度を下げることができるため、光変調装置の熱による性能劣化を抑制し、プロジェクターを長寿命化することができる。

第１実施形態のプロジェクターを示す概略構成図。 第１実施形態のプロジェクターの一部を示す模式図。 第１実施形態の冷媒生成部を模式的に示す概略構成図。 第１実施形態の吸放湿部材を示す斜視図。 第１実施形態の熱交換部を示す部分断面斜視図。 第１実施形態の光変調ユニットと光合成光学系とを示す斜視図。 第１実施形態の光変調ユニットを光が入射する側から視た図。 第１実施形態の光変調ユニットを示す図であって、図７におけるＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ断面図。 第１実施形態の冷媒保持部を示す図。 第１実施形態のプロジェクターの内部における熱交換部、光変調ユニットおよび冷媒保持部の位置関係を示す図であり、基本姿勢のプロジェクターを示す図。 第１実施形態のプロジェクターの内部における熱交換部、光変調ユニットおよび冷媒保持部の位置関係を示す図であり、上向き姿勢のプロジェクターを示す図。 第１実施形態のプロジェクターの内部における熱交換部、光変調ユニットおよび冷媒保持部の位置関係を示す図であり、反転姿勢のプロジェクターを示す図。 第１実施形態のプロジェクターの内部における熱交換部、光変調ユニットおよび冷媒保持部の位置関係を示す図であり、下向き姿勢のプロジェクターを示す図。 第１実施形態のプロジェクターの内部における熱交換部、光変調ユニットおよび冷媒保持部の位置関係を示す図であり、垂直姿勢のプロジェクターを示す図。 第２実施形態のプロジェクターの内部における熱交換部、光変調ユニットおよび冷媒保持部の位置関係を示す図であり、基本姿勢のプロジェクターを示す図。 第２実施形態のプロジェクターの内部における熱交換部、光変調ユニットおよび冷媒保持部の位置関係を示す図であり、垂直姿勢のプロジェクターを示す図。 第２実施形態のプロジェクターの内部における熱交換部、光変調ユニットおよび冷媒保持部の位置関係を示す図であり、反転姿勢のプロジェクターを示す図。 第２実施形態のプロジェクターの内部における熱交換部、光変調ユニットおよび冷媒保持部の位置関係を示す図であり、第２垂直姿勢のプロジェクターを示す図。 第２実施形態のプロジェクターの内部における熱交換部、光変調ユニットおよび冷媒保持部の位置関係を示す図であり、上向き姿勢のプロジェクターを示す図。 変形例のプロジェクターの内部における熱交換部、光変調ユニットおよび冷媒保持部の位置関係を示す図。

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態に係るプロジェクターについて説明する。なお、本発明の範囲は、以下の実施の形態に限定されず、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、各構造における縮尺および数等を、実際の構造における縮尺および数等と異ならせる場合がある。

＜第１実施形態＞
図１は、本実施形態のプロジェクター１を示す概略構成図である。図２は、本実施形態のプロジェクター１の一部を示す模式図である。図１に示すように、プロジェクター１は、光源装置２と、色分離光学系３と、光変調ユニット４Ｒと、光変調ユニット４Ｇと、光変調ユニット４Ｂと、光合成光学系５と、投射光学装置６と、を備える。光変調ユニット４Ｒは、光変調装置４ＲＰを有する。光変調ユニット４Ｇは、光変調装置４ＧＰを有する。光変調ユニット４Ｂは、光変調装置４ＢＰを有する。なお、図１におけるプロジェクター１の姿勢は、プロジェクター１がスクリーンＳＣＲ上に横長の画像を投射する姿勢であり、後述する基本姿勢に対応する。

光源装置２は、略均一な照度分布を有するように調整された照明光ＷＬを色分離光学系３に向けて射出する。光源装置２は、光源として、例えば、半導体レーザーを有する。色分離光学系３は、光源装置２からの照明光ＷＬを赤色光ＬＲと緑色光ＬＧと青色光ＬＢとに分離する。色分離光学系３は、第１のダイクロイックミラー７ａと、第２のダイクロイックミラー７ｂと、第１の反射ミラー８ａと、第２の反射ミラー８ｂと、第３の反射ミラー８ｃと、リレーレンズ８ｄと、を備える。

第１のダイクロイックミラー７ａは、光源装置２から射出された照明光ＷＬを、赤色光ＬＲと、緑色光ＬＧと青色光ＬＢとが混合された光と、に分離する。第１のダイクロイックミラー７ａは、赤色光ＬＲを透過させるとともに、緑色光ＬＧおよび青色光ＬＢを反射する特性を有する。第２のダイクロイックミラー７ｂは、緑色光ＬＧと青色光ＬＢとが混合された光を緑色光ＬＧと青色光ＬＢとに分離する。第２のダイクロイックミラー７ｂは、緑色光ＬＧを反射するとともに、青色光ＬＢを透過させる特性を有する。

第１の反射ミラー８ａは、赤色光ＬＲの光路中に配置され、第１のダイクロイックミラー７ａを透過した赤色光ＬＲを光変調装置４ＲＰに向けて反射する。第２の反射ミラー８ｂおよび第３の反射ミラー８ｃは、青色光ＬＢの光路中に配置され、第２のダイクロイックミラー７ｂを透過した青色光ＬＢを光変調装置４ＢＰに導く。

光変調装置４ＲＰ、光変調装置４ＧＰ、および光変調装置４ＢＰの各々は、液晶パネルから構成されている。光変調装置４ＲＰは、光源装置２からの光のうち赤色光ＬＲを画像信号に応じて変調する。光変調装置４ＧＰは、光源装置２からの光のうち緑色光ＬＧを画像信号に応じて変調する。光変調装置４ＢＰは、光源装置２からの光のうち青色光ＬＢを画像信号に応じて変調する。これにより、各光変調装置４ＲＰ，４ＧＰ，４ＢＰは、各色光に対応した画像光を形成する。図示は省略するが、光変調装置４ＲＰ，４ＧＰ，４ＢＰの各々の光入射側および光射出側には、偏光板が配置されている。

光変調装置４ＲＰの光入射側には、光変調装置４ＲＰに入射する赤色光ＬＲを平行化するフィールドレンズ９Ｒが配置されている。光変調装置４ＧＰの光入射側には、光変調装置４ＧＰに入射する緑色光ＬＧを平行化するフィールドレンズ９Ｇが配置されている。光変調装置４ＢＰの光入射側には、光変調装置４ＢＰに入射する青色光ＬＢを平行化するフィールドレンズ９Ｂが配置されている。

光合成光学系５は、略立方体状のクロスダイクロイックプリズムから構成されている。光合成光学系５は、光変調装置４ＲＰ，４ＧＰ，４ＢＰからの各色の画像光を合成する。光合成光学系５は、合成した画像光を投射光学装置６に向かって射出する。投射光学装置６は、投射レンズ群から構成されている。投射光学装置６は、光合成光学系５により合成された画像光、すなわち光変調装置４ＲＰ，４ＧＰ，４ＢＰにより変調された光をスクリーンＳＣＲに向かって拡大投射する。これにより、スクリーンＳＣＲ上には、拡大されたカラー画像（映像）が表示される。

プロジェクター１は、図２に示すように、冷却装置１０をさらに備える。冷却装置１０は、冷媒Ｗ（図３参照）が気体へ変化することで、プロジェクター１に備えられた冷却対象を冷却する。本実施形態において冷媒Ｗは、例えば、液体の水である。そのため、以下の説明においては、冷媒Ｗが気体へ変化することを単に気化と呼ぶ場合がある。本実施形態において冷却対象は、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを含む。

冷却装置１０は、冷媒生成部２０と、冷媒伝送部５０と、を有する。冷媒生成部２０は、冷媒Ｗを生成する部分である。冷媒伝送部５０は、生成された冷媒Ｗを冷却対象に向けて伝送する部分である。冷媒伝送部５０によって冷却対象（本実施形態では光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ）に送られた冷媒Ｗが気化することで冷却対象から熱を奪うことができ、冷却装置１０は、冷却対象を冷却することができる。以下、各部について詳細に説明する。

図３は、本実施形態の冷媒生成部２０を模式的に示す概略構成図である。冷媒生成部２０は、図３に示すように、吸放湿部材４０と、モーター２４と、第１送風装置６０と、熱交換部３０と、循環ダクト２５と、循環ダクト２６と、加熱部２２と、冷却ダクト２１と、を有する。

図４は、吸放湿部材４０を示す斜視図である。吸放湿部材４０は、図４に示すように、回転軸Ｒを中心とした扁平の円柱状である。吸放湿部材４０の中心には、回転軸Ｒを中心とする中心孔４０ｃが形成されている。中心孔４０ｃは、回転軸Ｒの軸方向に吸放湿部材４０を貫通する。吸放湿部材４０は、回転軸Ｒ周りに回転する。以下の説明においては、回転軸Ｒの軸方向を「回転軸方向ＤＲ」と呼び、適宜図においてＤＲ軸で示す。

吸放湿部材４０は、吸放湿部材４０を回転軸方向ＤＲに貫通する無数の貫通孔４０ｂを有する。吸放湿部材４０は、多孔質部材である。吸放湿部材４０は、吸放湿性を有する。本実施形態において吸放湿部材４０は、例えば、貫通孔４０ｂを有する帯状の帯状部材４０ａを回転軸Ｒ周りに巻き、巻かれた帯状部材４０ａにおける外部に露出する面に吸放湿性を有する物質を塗布して作られている。なお、巻かれた帯状部材４０ａにおける外部に露出する面とは、吸放湿部材４０の外表面、中心孔４０ｃの内周面および貫通孔４０ｂの内側面を含む。なお、吸放湿部材４０は、全体が吸放湿性を有する物質から作られていてもよい。吸放湿性を有する物質としては、例えば、ゼオライト等が挙げられる。

図３に示すモーター２４の出力軸は、吸放湿部材４０の中心孔４０ｃに挿入されて固定されている。モーター２４は、吸放湿部材４０を回転軸Ｒ周りに回転させる。モーター２４によって回転させられる吸放湿部材４０の回転速度は、例えば、１ｒｐｍ以上、５ｒｐｍ以下程度である。

第１送風装置６０は、例えば、プロジェクター１内に外部の空気を取り込む吸気ファンである。第１送風装置６０は、第１領域Ｆ１に位置する吸放湿部材４０の部分に空気ＡＲ１を送る。第１領域Ｆ１は、回転軸Ｒと直交する方向において、回転軸Ｒよりも一方側（図３では上側）の領域である。一方、回転軸Ｒと直交する方向において、回転軸Ｒよりも他方側（図３では下側）の領域、すなわち第１領域Ｆ１と逆側の領域は、第２領域Ｆ２である。

第１送風装置６０は、図２に示すように、冷却対象である光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂにも空気ＡＲ１を送る。第１送風装置６０は、空気ＡＲ１を送ることができるならば、特に限定されず、例えば、軸流ファンであっても、遠心ファンであってもよい。

熱交換部３０は、冷媒Ｗが生成される部分である。図５は、熱交換部３０を示す部分断面斜視図である。図５に示すように、熱交換部３０は、流通部３１と、第１蓋部３２と、第２蓋部３３と、を有する。

流通部３１は、所定方向に延びる管状の複数の配管部３１ａを有する。本実施形態において配管部３１ａが延びる所定方向は、例えば、回転軸方向ＤＲと直交する。配管部３１ａは、延びる所定方向の両側に開口する。配管部３１ａの延びる所定方向と直交する断面形状は、例えば、円形状である。なお、以下の説明においては、配管部３１ａが延びる所定方向を「延伸方向（所定方向）ＤＥ」と呼び、適宜図においてＤＥ軸で示す。上述した第１領域Ｆ１と第２領域Ｆ２とは、回転軸方向ＤＲと直交する延伸方向ＤＥにおいて、回転軸Ｒを基準として分けられている。

本実施形態において流通部３１は、複数の配管部３１ａが回転軸方向ＤＲに沿って並べられて構成された層が、回転軸方向ＤＲおよび延伸方向ＤＥの両方と直交する方向に沿って複数積層されて構成されている。なお、以下の説明においては、回転軸方向ＤＲおよび延伸方向ＤＥの両方と直交する方向を「厚さ方向ＤＴ」と呼び、適宜図においてＤＴ軸で示す。本実施形態において、流通部３１の厚さ方向ＤＴの寸法は、例えば、流通部３１の回転軸方向ＤＲの寸法よりも小さく、延伸方向ＤＥと直交する方向の流通部３１の寸法のうちで最も小さい。なお、本明細書において、延伸方向ＤＥと回転軸方向ＤＲと厚さ方向ＤＴとは、熱交換部３０の姿勢を示す３次元直交座標系の各方向とする。

第１蓋部３２は、流通部３１における延伸方向ＤＥの一方側（＋ＤＥ側）の端部に接続されている。第１蓋部３２は、回転軸方向ＤＲに長い直方体箱状である。第１蓋部３２の内部には、配管部３１ａの延伸方向ＤＥの一端が開口している。図３に示すように、第１蓋部３２の内部には、仕切部３２ａが設けられている。仕切部３２ａは、第１蓋部３２の内部を回転軸方向ＤＲに並ぶ第１空間Ｓ１と第２空間Ｓ２とに仕切っている。図３において、第１空間Ｓ１は、第２空間Ｓ２の右側（＋ＤＲ側）に位置する。

第１蓋部３２には、第１空間Ｓ１と循環ダクト２６の内部とを繋ぐ連通孔３２ｂが形成されている。第１蓋部３２には、第２空間Ｓ２と循環ダクト２５の内部とを繋ぐ連通孔３２ｃが形成されている。

第２蓋部３３は、流通部３１における延伸方向ＤＥの他方側（−ＤＥ側）の端部、すなわち第１蓋部３２が接続された側と逆側の端部に接続されている。図５に示すように、第２蓋部３３は、回転軸方向ＤＲに長い直方体箱状である。第２蓋部３３の内部には、配管部３１ａの延伸方向ＤＥの他端が開口している。第２蓋部３３の内部は、第１蓋部３２と異なり、仕切られていない。第２蓋部３３の内部は、流通部３１の配管部３１ａの内部を介して、第１蓋部３２の内部のうち第１空間Ｓ１および第２空間Ｓ２のそれぞれと繋がっている。第２蓋部３３は、冷媒伝送部５０と接続されている。これにより、熱交換部３０は、冷媒伝送部５０と接続されている。なお、図５においては、第２蓋部３３における延伸方向ＤＥの他方側の壁を省略している。

循環ダクト２６は、図３に示すように、回転軸方向ＤＲにおいて、吸放湿部材４０の一方側（＋ＤＲ側）に配置されたダクトである。循環ダクト２６は、第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分に向かって、回転軸方向ＤＲの他方側（−ＤＲ側）に開口する流入口を有する。循環ダクト２６は、第１蓋部３２の連通孔３２ｂと繋がる流出口を有する。

循環ダクト２５は、回転軸方向ＤＲにおいて、吸放湿部材４０の他方側（−ＤＲ側）に配置されたダクトである。循環ダクト２５は、第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分に向かって、回転軸方向ＤＲの一方側（＋ＤＲ側）に開口する流出口を有する。循環ダクト２５は、第１蓋部３２の連通孔３２ｃと繋がる流入口を有する。

加熱部２２は、加熱本体部２２ａを有する。加熱本体部２２ａは、循環ダクト２５の内部に配置されている。加熱本体部２２ａは、回転軸方向ＤＲにおいて、第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分の他方側（−ＤＲ側）に配置されている。加熱本体部２２ａは、例えば、電気ヒーターである。加熱本体部２２ａは、循環ダクト２５の内部の雰囲気を加熱する。本実施形態において加熱部２２は、第２送風装置２３を有する。

第２送風装置２３は、循環ダクト２６の内部に配置されている。第２送風装置２３は、回転軸方向ＤＲにおいて、第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分の一方側（＋ＤＲ側）に配置されている。第２送風装置２３は、例えば、遠心ファンである。第２送風装置２３は、回転軸方向ＤＲの他方側（−ＤＲ側）から吸気した空気を、排気口２３ａから延伸方向ＤＥの他方側（−ＤＥ側）に放出する。排気口２３ａは、第１蓋部３２の連通孔３２ｂに開口している。第２送風装置２３は、連通孔３２ｂを介して第１空間Ｓ１に空気を送る。

第２送風装置２３から第１空間Ｓ１に放出される空気は、循環ダクト２６の流入口を介して第２送風装置２３の回転軸方向ＤＲの他方側（−ＤＲ側）から吸気した空気であり、第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分を通過した空気である。すなわち、第２送風装置２３は、第１領域Ｆ１と異なる第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分に空気を通過させて熱交換部３０に送る。本実施形態において第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分を通過する前の空気は、循環ダクト２５の内部を流れている。そのため、加熱本体部２２ａは、第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分を通過する前の空気を加熱する。

このように、本実施形態において加熱部２２は、加熱本体部２２ａによって加熱された空気を、第２送風装置２３によって第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分に送ることで、第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分を加熱する。これにより、第２送風装置２３は、吸放湿部材４０における加熱部２２によって加熱された部分の周囲の空気を熱交換部３０に送る。

第２送風装置２３から第１空間Ｓ１を介して熱交換部３０に流入した空気は、複数の配管部３１ａのうち第１空間Ｓ１と繋がる配管部３１ａの内部を通って、第２蓋部３３の内部に流入する。第２蓋部３３の内部に流入した空気は、複数の配管部３１ａのうち第２空間Ｓ２と繋がる配管部３１ａの内部を通って、第２空間Ｓ２に流入し、連通孔３２ｃから循環ダクト２５の内部に流入する。循環ダクト２５の内部に流入した空気は、加熱本体部２２ａによって加熱され、再び第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分を通過して循環ダクト２６の内部に流入し第２送風装置２３に吸気される。

以上のように、本実施形態において冷媒生成部２０は、第２送風装置２３から放出された空気が循環する循環経路２７を有する。循環経路２７は、少なくとも循環ダクト２５，２６と熱交換部３０とによって構成されている。循環経路２７は、加熱本体部２２ａと吸放湿部材４０と熱交換部３０とを通る。吸放湿部材４０と循環ダクト２５，２６との間には僅かに隙間が設けられているが、循環経路２７は略密閉されており、循環経路２７の内部に外部からの空気が流入することが抑制される。なお、以下の説明においては、第２送風装置２３から放出され循環経路２７内を循環する空気を空気ＡＲ２と呼ぶ。

冷却ダクト２１は、回転軸方向ＤＲにおいて、第１領域Ｆ１に位置する吸放湿部材４０の部分の一方側（＋ＤＲ側）に配置された流入口を有するダクトである。冷却ダクト２１には、第１送風装置６０から放出され第１領域Ｆ１に位置する吸放湿部材４０の部分を通過した空気ＡＲ１が流入する。冷却ダクト２１は、第１領域Ｆ１に位置する吸放湿部材４０の部分の一方側から熱交換部３０に向かって延びている。

冷却ダクト２１は、回転軸方向ＤＲに延びる冷却通路部２１ａを有する。冷却通路部２１ａには、熱交換部３０の流通部３１が延伸方向ＤＥに貫通して配置されている。これにより、冷却通路部２１ａの内部には、流通部３１が配置されている。冷却通路部２１ａを通る空気ＡＲ１は、流通部３１の外表面に吹き付けられ、流通部３１を回転軸方向ＤＲに通過する。これにより、流通部３１は、空気ＡＲ１によって冷却される。すなわち、熱交換部３０は、第１送風装置６０から放出され、吸放湿部材４０を通過した空気ＡＲ１によって冷却される。図３では、冷却通路部２１ａにおいて空気ＡＲ１は、右側から左側に流通部３１を通過している。冷却通路部２１ａにおける回転軸方向ＤＲの他方側（−ＤＲ側）の端部は、開口している。冷却通路部２１ａの開口は、例えば、冷却ダクト２１の流出口である。

第１領域Ｆ１に位置する吸放湿部材４０の部分に第１送風装置６０から空気ＡＲ１が送られると、空気ＡＲ１に含まれる水蒸気が、第１領域Ｆ１に位置する吸放湿部材４０の部分に吸湿される。水蒸気を吸湿した吸放湿部材４０の部分は、モーター２４によって吸放湿部材４０が回転させられることで、第１領域Ｆ１から第２領域Ｆ２に移動する。そして、第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分には、加熱本体部２２ａによって加熱された比較的温度の高い空気ＡＲ２が通る。これにより、吸放湿部材４０に吸湿された水分が、気化して空気ＡＲ２に放湿される。

吸放湿部材４０を通過することで空気ＡＲ１から吸湿した水蒸気を含んだ空気ＡＲ２は、第２送風装置２３によって熱交換部３０へと送られる。第１空間Ｓ１から熱交換部３０へと流入した空気ＡＲ２は、流通部３１の内部を流れる。より詳細には、空気ＡＲ２は、流通部３１の配管部３１ａの内部を流れる。流通部３１は、冷却ダクト２１の冷却通路部２１ａを回転軸方向ＤＲに沿って流れる空気ＡＲ１によって外部から冷却される。

流通部３１が冷却されると、配管部３１ａの内部を流れる比較的温度の高い空気ＡＲ２が冷却されて、空気ＡＲ２に含まれていた水蒸気が凝縮して液体の水、すなわち冷媒Ｗになる。このようにして、流通部３１（熱交換部３０）は、冷却されることで流通部３１（熱交換部３０）に流入した空気ＡＲ２から冷媒Ｗを生成する。流通部３１の内部で生成された冷媒Ｗは、熱交換部３０の内部に貯留される。具体的には、生成された冷媒Ｗは、流通部３１の内部、第１蓋部３２の内部、および第２蓋部３３の内部のうち、プロジェクター１の姿勢に応じて重力方向下側となる位置へ移動し、そこで貯留される。このため、熱交換部３０、即ち流通部３１、第１蓋部３２および第２蓋部３３は、冷媒Ｗが貯留される貯留部に相当する。

本実施形態において冷媒伝送部５０は、多孔質部材製であり、毛細管現象によって冷媒Ｗを伝送する。冷媒伝送部５０の材質としては、例えば、ポリプロピレン、コットン、ポーラス金属等が挙げられる。冷媒伝送部５０の材質は、冷媒伝送部５０の表面張力を比較的大きくできる材質が好ましい。冷媒伝送部５０は、図５に示すように、第１捕捉部５１と、第２捕捉部５２と、第３捕捉部５３と、接続部５４と、を有する。

第１捕捉部５１は、第１蓋部３２の内側面のうち延伸方向ＤＥの一方側（＋ＤＥ側）の縁部に固定されている。第１捕捉部５１は、薄い帯状であり、第１蓋部３２の縁部に沿って矩形枠状に成形されている。第２捕捉部５２は、第２蓋部３３の内側面のうち延伸方向ＤＥの他方側（−ＤＥ側）の縁部に固定されている。第２捕捉部５２は、薄い帯状であり、第２蓋部３３の縁部に沿って矩形枠状に成形されている。

第３捕捉部５３は、第１捕捉部５１から配管部３１ａの内部を通って第２捕捉部５２まで延びており、第１捕捉部５１と第２捕捉部５２とを接続している。第３捕捉部５３は、延伸方向ＤＥに延びた薄い帯状である。

接続部５４は、冷媒生成部２０と冷却対象とを接続する部分である。本実施形態において接続部５４は、第２捕捉部５２に接続され、第２蓋部３３の内部から第２蓋部３３の外部に第２蓋部３３の壁を貫通して突出している。第２蓋部３３の外部に突出した接続部５４は、冷却対象である光変調ユニット４Ｇまで延びている（図６参照）。接続部５４は、薄い帯状である。接続部５４の幅は、例えば、第１捕捉部５１の幅、第２捕捉部５２の幅、および第３捕捉部５３の幅よりも大きい。

次に、本実施形態における冷却対象である光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂについて、より詳細に説明する。以下の説明においては、投射光学装置６における最も光射出側の投射レンズの光軸ＡＸと平行な方向、すなわち投射光学装置６の投射方向と平行な方向を「光軸方向ＰＸ」と呼び、適宜図においてＰＸ軸で示す。また、光軸方向ＰＸと直交する方向のうちの一つを「高さ方向ＰＺ」と呼び、適宜図においてＰＺ軸で示す。また、光軸方向ＰＸおよび高さ方向ＰＺの両方と直交する方向を「幅方向ＰＹ」と呼び、適宜図においてＰＹ軸で示す。なお、本明細書において、光軸方向ＰＸと幅方向ＰＹと高さ方向ＰＺとは、プロジェクター１の姿勢を示す３次元直交座標系の各方向とする。

なお、高さ方向ＰＺは、プロジェクター１の姿勢が後述の基本姿勢である場合にプロジェクター１が投射する横長の画像の短辺方向に平行な方向である。また、幅方向ＰＹは、プロジェクター１の姿勢が後述の基本姿勢である場合にプロジェクター１が投射する横長の画像の長辺方向に平行な方向である。

また、高さ方向ＰＺおよび幅方向ＰＹとは、単に各部の相対位置関係を説明するための名称であり、実際の配置関係等は、これらの名称で示される配置関係等以外の配置関係等であってもよい。

図６は、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂと光合成光学系５とを示す斜視図である。図７は、光変調ユニット４Ｇを光が入射する側から視た図である。図８は、光変調ユニット４Ｇを示す図であって、図７におけるＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ断面図である。

冷却対象である光変調ユニット４Ｒと光変調ユニット４Ｇと光変調ユニット４Ｂとは、図６に示すように、光合成光学系５の周りを囲んで配置されている。光変調ユニット４Ｒと光変調ユニット４Ｂとは、光合成光学系５を幅方向ＰＹに挟んで互いに反対側に配置されている。光変調ユニット４Ｇは、光合成光学系５の光軸方向ＰＸの光入射側（−ＰＸ側）に配置されている。光変調ユニット４Ｒの構造と光変調ユニット４Ｇの構造と光変調ユニット４Ｂの構造とは、配置される位置および姿勢が異なる点を除いて同様であるため、以下の説明においては、代表して光変調ユニット４Ｇについてのみ説明する場合がある。

光変調ユニット４Ｇは、光変調装置４ＧＰを保持する保持フレーム８０を有する。保持フレーム８０は、図６から図８に示すように、光変調装置４ＧＰに光が入射する方向に扁平で高さ方向ＰＺに長い略直方体状である。光変調装置４ＧＰの光が入射する方向は、例えば、光軸方向ＰＸである。

保持フレーム８０は、図８に示すように、保持フレーム８０を光が入射する方向に貫通する貫通孔８１を有する。貫通孔８１の光が入射する側（図では−ＰＸ側）の縁には、貫通孔８１の幅が広くなる段差部８３が設けられている。光変調装置４ＧＰは、段差部８３に嵌められて保持フレーム８０に保持されている。図７に示すように、保持フレーム８０の光が入射する側の面における高さ方向ＰＺの両側の部分には、挿入溝８２ａ，８２ｂが形成されている。

プロジェクター１は、図６から図８に示すように、冷却対象である光変調ユニット４Ｇに設けられた冷却促進部７０をさらに備える。冷却促進部７０は、冷媒保持部７１と、固定部材７２と、を有する。冷媒保持部７１は、冷却対象である光変調ユニット４Ｇの保持フレーム８０の面に取り付けられており、光変調ユニット４Ｇに接続されている。本実施形態では、冷媒保持部７１は、保持フレーム８０における光変調装置４ＧＰに光が入射する側（−ＰＸ側）の面に設けられている。冷媒保持部７１は、冷媒Ｗを保持する多孔質部材製である。冷媒保持部７１の材質としては、例えば、ポリプロピレン、コットン、ポーラス金属等が挙げられる。冷媒保持部７１の材質は、例えば、冷媒伝送部５０の材質と同じにできる。冷媒保持部７１の材質は、冷媒保持部７１の表面張力を比較的大きくできる材質が好ましい。

図９は、冷媒保持部７１を示す図である。冷媒保持部７１は、図９に示すように、矩形枠状の本体部７１ａと、本体部７１ａにおける高さ方向ＰＺの両側の端部に設けられた挿入部７１ｂ，７１ｃと、を有する。本体部７１ａは、図８に示すように、保持フレーム８０における光変調装置４ＧＰに光が入射する側（−ＰＸ側）の面の一部を覆っている。本体部７１ａにおける内縁側の部分は、光変調装置４ＧＰの外縁部分を覆っている。挿入部７１ｂは、折り曲げられて保持フレーム８０の挿入溝８２ａに挿入されている。挿入部７１ｃは、折り曲げられて保持フレーム８０の挿入溝８２ｂに挿入されている。

固定部材７２は、冷媒保持部７１を固定する部材である。固定部材７２は、図６および図８に示すように、板状の部材である。固定部材７２は、例えば、金属製である。固定部材７２は、矩形枠状の枠部７２ａと、取付部７２ｂと、挿入部７２ｃと、を有する。枠部７２ａは、図７および図８に示すように、冷媒保持部７１の外縁部を覆っている。保持フレーム８０と冷媒保持部７１と枠部７２ａとは、光変調ユニット４Ｇを通過する光の方向（光軸方向ＰＸ）に積層されている。以下の説明においては、保持フレーム８０と冷媒保持部７１と枠部７２ａとが積層された方向を単に「積層方向」と呼ぶ。固定部材７２は、枠部７２ａによって、保持フレーム８０との間で冷媒保持部７１を積層方向（光軸方向ＰＸ）に挟んで固定している。

枠部７２ａの内縁は、冷媒保持部７１の内縁よりも外側に設けられている。そのため、冷媒保持部７１の一部、すなわち本実施形態では枠部７２ａよりも内側の部分は、積層方向の固定部材７２側から視て、露出している。

取付部７２ｂは、図６および図８に示すように、枠部７２ａの高さ方向ＰＺの両端部における幅方向ＰＹの両端部にそれぞれ設けられている。取付部７２ｂは、枠部７２ａから保持フレーム８０側（＋ＰＸ側）に突出している。取付部７２ｂは、保持フレーム８０の側面に設けられた突起に係合されている。これにより、固定部材７２は、保持フレーム８０に固定されている。

挿入部７２ｃは、枠部７２ａの高さ方向ＰＺの両端部に設けられている。挿入部７２ｃは、枠部７２ａから保持フレーム８０側（＋ＰＸ側）に突出している。挿入部７２ｃは、保持フレーム８０の挿入溝８２ａ，８２ｂに挿入されている。挿入部７２ｃは、挿入溝８２ａ，８２ｂの内部において、冷媒保持部７１の挿入部７１ｂ，７１ｃを押さえている。

冷却促進部７０は、複数の光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂのそれぞれに設けられている。すなわち、冷媒保持部７１と固定部材７２とは、複数の光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂのそれぞれに設けられている。図９に示すように、各光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂのうち、光変調ユニット４Ｇに設けられた冷媒保持部７１Ｇは、冷媒伝送部５０と接続されている。より詳細には、冷媒保持部７１Ｇの下端部には、冷媒伝送部５０の接続部５４が接続されている。

光変調ユニット４Ｂに取り付けられた冷媒保持部７１Ｂおよび光変調ユニット４Ｒに取り付けられた冷媒保持部７１Ｒは、接続部５４が接続されていない点を除いて、光変調ユニット４Ｇに取り付けられた冷媒保持部７１Ｇと同様である。

本実施形態においては、複数の光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに設けられた冷媒保持部７１同士を互いに連結する多孔質部材製の連結部７３ａ，７３ｂが設けられている。本実施形態では、光変調ユニット４Ｇに取り付けられた冷媒保持部７１Ｇの両側に、連結部７３ａ，７３ｂを介して、光変調ユニット４Ｂに取り付けられた冷媒保持部７１Ｂと、光変調ユニット４Ｒに取り付けられた冷媒保持部７１Ｒとが連結されている。

連結部７３ａは、光変調ユニット４Ｇに取り付けられた冷媒保持部７１Ｇと光変調ユニット４Ｂに取り付けられた冷媒保持部７１Ｂとを連結している。これにより、冷媒保持部７１Ｂは、冷媒保持部７１Ｇを介して冷媒伝送部５０（接続部５４）と接続されている。図６に示すように、連結部７３ａには、連結部７３ａを覆う被覆部７４が設けられている。被覆部７４は、例えば、樹脂製のフィルム等である。

連結部７３ｂは、光変調ユニット４Ｇに取り付けられた冷媒保持部７１Ｇと光変調ユニット４Ｒに取り付けられた冷媒保持部７１Ｒとを連結している。これにより、冷媒保持部７１Ｒは、冷媒保持部７１Ｇを介して冷媒伝送部５０（接続部５４）と接続されている。図示は省略するが、連結部７３ｂにも、連結部７３ａと同様に被覆部７４が設けられている。

冷媒生成部２０によって生成された冷媒Ｗは、冷媒伝送部５０の接続部５４によって、冷媒保持部７１Ｇに伝送される。冷媒保持部７１Ｇに伝送された冷媒Ｗは、連結部７３ａを介して冷媒保持部７１Ｂに伝送され、かつ、連結部７３ｂを介して冷媒保持部７１Ｒに伝送される。このようにして、冷媒生成部２０で生成された冷媒Ｗが、３つの光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに伝送される。そして、伝送され冷媒保持部７１に保持された冷媒Ｗが、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂからの熱を受けて気化することで、冷却対象である光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂが冷却される。

本実施形態によれば、冷却装置１０は、冷媒生成部２０で生成した冷媒Ｗを冷媒伝送部５０によって冷却対象へと伝送し、吸熱反応である冷媒Ｗの気化を利用することで冷却対象から熱を奪って冷却対象を冷却することができる。冷媒Ｗの気化による冷却は、積極的に冷却対象から熱を奪えるため、空冷および液冷のように単に冷媒への伝熱によって冷却対象を冷却する場合に比べて、冷却性能に優れている。これにより、空冷および液冷と同じ冷却性能を得る場合に、空冷および液冷に比べて冷却装置１０全体を小型化しやすい。

また、冷媒Ｗの気化による冷却の場合、気化する冷媒Ｗが冷却対象と接触する表面積を大きくすることで冷却性能を向上できる。そのため、冷却装置１０による冷却性能を大きくしても、騒音が大きくなることを抑制できる。以上により、本実施形態によれば、冷却性能に優れ、かつ、小型で静粛性に優れた冷却装置１０を備えたプロジェクター１が得られる。

また、本実施形態によれば、冷媒生成部２０において冷媒Ｗを生成できるため、使用者が冷媒Ｗを補充する手間がなく、使用者の利便性を向上できる。

また、本実施形態によれば、吸放湿部材４０によって第１送風装置６０から送られる空気ＡＲ１に含まれた水蒸気を吸湿でき、吸放湿部材４０によって吸湿した水分を第２送風装置２３によって送られる空気ＡＲ２内に水蒸気として放湿できる。そして、第２送風装置２３から送られた空気ＡＲ２が流入する熱交換部３０の流通部３１によって、空気ＡＲ２に水蒸気として放湿された水分を凝縮させて冷媒Ｗを生成することができる。これにより、本実施形態によれば、プロジェクター１内の雰囲気中から冷媒Ｗを生成することができる。

また、本実施形態によれば、冷媒伝送部５０は、毛細管現象によって冷媒Ｗを伝送する。そのため、冷媒Ｗを伝送するためにポンプ等の動力を別途用意する必要がない。これにより、プロジェクター１の部品点数が増加することを抑制でき、プロジェクター１をより小型・軽量化しやすい。

また、本実施形態によれば、冷媒伝送部５０は、冷媒生成部２０と冷却対象とを接続する多孔質部材製の接続部５４を有する。そのため、冷媒Ｗを接続部５４に吸収させて毛細管現象によって伝送することができる。

また、本実施形態によれば、冷媒伝送部５０は、第２蓋部３３の内部に設けられた第２捕捉部５２を有する。第２捕捉部５２は、接続部５４と接続されている。そのため、上述したようにして配管部３１ａから第２蓋部３３の内部に流入し第２蓋部３３の内部に溜まった冷媒Ｗを第２捕捉部５２で吸収して毛細管現象によって接続部５４に伝送することができる。これにより、冷媒Ｗをより冷媒伝送部５０によって伝送しやすく、生成した冷媒Ｗを無駄なく冷却対象へと送りやすい。

また、本実施形態によれば、冷媒伝送部５０は、第１蓋部３２の内部に設けられた第１捕捉部５１と、第１捕捉部５１と第２捕捉部５２とを接続する第３捕捉部５３と、を有する。これにより、第１蓋部３２の内部に溜まった冷媒Ｗを第１捕捉部５１で吸収して、毛細管現象によって第３捕捉部５３を介して第２捕捉部５２に伝送することができる。したがって、第１蓋部３２の内部に溜まった冷媒Ｗを第２捕捉部５２から接続部５４に伝送して、冷却対象に伝送することができる。そのため、生成した冷媒Ｗをより無駄なく冷却対象へと送りやすい。また、プロジェクター１の姿勢を変更した場合に、第１蓋部３２と第２蓋部３３とのいずれが重力方向下側に位置した状態になっても、冷媒Ｗを冷媒伝送部５０によって好適に伝送することができる。

また、本実施形態によれば、第３捕捉部５３は、配管部３１ａの内部を通る。そのため、配管部３１ａの内部に溜まった冷媒Ｗを第３捕捉部５３で吸収して、第２捕捉部５２および接続部５４を介して冷却対象へと伝送することができる。したがって、生成した冷媒Ｗをより無駄なく冷却対象へと送りやすい。また、例えば、配管部３１ａの内部において冷媒Ｗが重力によって移動しにくい場合であっても、第３捕捉部５３を介して配管部３１ａの内部から冷媒Ｗを伝送できる。したがって、配管部３１ａの内部に冷媒Ｗが滞留することをより抑制できる。

また、本実施形態によれば、接続部５４の幅は、例えば、第１捕捉部５１の幅、第２捕捉部５２の幅、および第３捕捉部５３の幅よりも大きい。そのため、接続部５４の幅を比較的大きくしやすく、接続部５４によって伝送できる冷媒Ｗの量を多くできる。したがって、冷媒伝送部５０によって冷媒Ｗを冷却対象に送りやすく、冷却対象をより冷却しやすい。

また、一方で、第１捕捉部５１の幅、第２捕捉部５２の幅、および第３捕捉部５３の幅を比較的小さくしやすい。そのため、第１捕捉部５１と第２捕捉部５２と第３捕捉部５３とによって保持される冷媒Ｗの量を少なくできる。これにより、第１捕捉部５１と第２捕捉部５２と第３捕捉部５３とによって保持されたまま、熱交換部３０の内部に残る冷媒Ｗの量を少なくでき、生成した冷媒Ｗをより無駄なく冷却対象へと送りやすい。

また、本実施形態によれば、熱交換部３０は、第１送風装置６０から放出され、吸放湿部材４０を通過した空気ＡＲ１によって冷却される。そのため、熱交換部３０を冷却する冷媒保持部を別途設ける必要がなく、プロジェクター１の部品点数が増加することを抑制できる。また、熱交換部３０を冷却する冷媒保持部として送風装置を別途設けるような場合に比べて、プロジェクター１から生じる騒音が大きくなることを抑制できる。

また、本実施形態によれば、第１送風装置６０は、冷却対象である光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに空気ＡＲ１を送る。そのため、空気ＡＲ１によって光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに伝送された冷媒Ｗを気化させやすく、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂをより冷却することができる。また、冷却対象を冷却する送風装置を別途設ける必要がないため、プロジェクター１の部品点数が増加することを抑制でき、騒音が大きくなることを抑制できる。

また、上述したように、本実施形態では、プロジェクター１の内部に外部の空気を取り込む吸気ファンである第１送風装置６０を利用して、冷却対象に送られた冷媒Ｗの気化を促進させる。そのため、第１送風装置６０の出力を低くしても、冷却装置１０が設けられていないときと同等の冷却性能を得ることが可能である。したがって、吸気ファンである第１送風装置６０の出力を低くして、第１送風装置６０から生じる騒音を低減することができ、プロジェクター１の静粛性をより向上できる。

また、例えば、冷媒生成部２０において、第２送風装置２３から熱交換部３０に送られる空気ＡＲ２の湿度が比較的低い場合、熱交換部３０が冷却されても、冷媒Ｗが生成されにくい場合がある。熱交換部３０に送られる空気ＡＲ２の湿度は、例えば、プロジェクター１の外部の空気等が混ざり込むような場合に、低下する場合がある。

これに対して、本実施形態によれば、冷媒生成部２０は、第２送風装置２３から放出された空気ＡＲ２が循環する循環経路２７を有する。そのため、循環経路２７を略密閉することで循環経路２７内にプロジェクター１の外部の空気が入ることを抑制でき、熱交換部３０に送られる空気ＡＲ２の湿度を比較的高い状態に維持しやすい。したがって、熱交換部３０を冷却することで、好適に冷媒Ｗを生成することができる。

また、本実施形態によれば、加熱部２２は、第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分を通過する前の空気を加熱する加熱本体部２２ａと、第２送風装置２３と、を有する。そのため、加熱部２２は、第２送風装置２３によって吸放湿部材４０に空気ＡＲ２を送ることで、第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分を加熱することができる。これにより、加熱本体部２２ａを吸放湿部材４０から離れた位置に配置しても、加熱部２２によって吸放湿部材４０を加熱することができる。したがって、加熱部２２の構成の自由度を向上させることができる。

また、本実施形態によれば、冷媒生成部２０は、吸放湿部材４０を回転させるモーター２４を有する。そのため、吸放湿部材４０を一定の速度で安定して回転させることができる。これにより、第１領域Ｆ１に位置する吸放湿部材４０の部分に空気ＡＲ１から好適に水蒸気を吸湿させることができ、かつ、第２領域Ｆ２に位置する吸放湿部材４０の部分から空気ＡＲ２へと好適に水分を放湿させることができる。したがって、効率的に冷媒Ｗを生成できる。

また、本実施形態によれば、冷却対象である光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに接続されて、冷媒Ｗを保持する冷媒保持部７１が設けられる。そのため、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに伝送された冷媒Ｗを、冷媒Ｗが気化するまで冷媒保持部７１によって光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂに対して保持しておくことができる。これにより、生成した冷媒Ｗを無駄なく利用しやすく、冷却装置１０の冷却性能をより向上させることができる。

また、本実施形態によれば、冷媒保持部７１は、冷却対象である光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの面に取り付けられ、かつ、多孔質部材製である。そして、冷媒保持部７１の少なくとも一部は、積層方向の冷媒保持部７１側から視て、露出している。そのため、冷媒保持部７１の露出した部分から冷媒Ｗを気化させやすく、冷却装置１０の冷却性能をより向上させることができる。また、冷媒保持部７１が多孔質部材製であるため、毛細管現象によって、冷媒保持部７１が設けられた冷却対象の面上に均一に冷媒Ｗを行き渡らせやすく、より冷却対象を冷却しやすい。

また、例えば、接着剤によって冷媒保持部７１を保持フレーム８０に固定する場合、接着剤が冷媒保持部７１に吸収されて、多孔質部材製である冷媒保持部７１の孔が塞がれる場合がある。そのため、冷媒保持部７１に冷媒Ｗが吸収されにくくなり、冷媒保持部７１によって冷媒Ｗを保持しにくくなる場合がある。

これに対して、本実施形態によれば、冷媒保持部７１を保持フレーム８０との間で挟んで固定する固定部材７２が設けられている。そのため、接着剤を冷媒保持部７１に付着させることなく、冷媒保持部７１を保持フレーム８０に対して固定することができる。これにより、冷媒保持部７１によって冷媒Ｗを保持しにくくなることを抑制できる。また、本実施形態では、固定部材７２は金属製である。そのため、固定部材７２は、熱伝導率が比較的高く、冷却されやすい。したがって、第１送風装置６０からの空気ＡＲ１および冷媒Ｗの気化によって固定部材７２の温度が低下しやすく、固定部材７２と接触する冷却対象をより冷却しやすい。

また、本実施形態によれば、冷媒保持部７１は、保持フレーム８０における光変調装置４ＧＰに光が入射する側の面に設けられている。そのため、冷媒保持部７１から気化した冷媒Ｗの水蒸気が、光変調装置４ＧＰから光合成光学系５に射出される光に影響を与えることを抑制できる。これにより、プロジェクター１から投射される画像にノイズが生じることを抑制できる。

また、本実施形態によれば、冷媒保持部７１は、複数設けられた光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂにそれぞれ設けられ、複数の冷媒保持部７１同士を互いに連結する連結部７３ａ，７３ｂが設けられている。そのため、冷媒伝送部５０を１つの冷媒保持部７１に接続させることで、他の冷媒保持部７１にも冷媒Ｗを伝送することができる。これにより、プロジェクター１の内部における冷媒伝送部５０の引き回しを簡単化できる。

また、本実施形態によれば、連結部７３ａ，７３ｂには、連結部７３ａを覆う被覆部７４が設けられている。そのため、連結部７３ａ，７３ｂを伝って移動する冷媒Ｗが連結部７３ａ，７３ｂにおいて気化することを抑制できる。これにより、冷媒Ｗが冷却対象である光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの冷却に寄与せずに気化することを抑制でき、生成した冷媒Ｗが無駄になることを抑制できる。

なお、本実施形態においては、連結部７３ａ，７３ｂと同様に、接続部５４が被覆されていてもよい。この構成によれば、冷却対象に伝送する間に冷媒Ｗが気化することを抑制できる。そのため、冷却対象に効率よく冷媒Ｗを伝送でき、かつ、生成した冷媒Ｗが無駄になることをより抑制できる。接続部５４および連結部７３ａ，７３ｂは、例えば、チューブ等によって周囲を被覆されてもよい。また、接続部５４および連結部７３ａ，７３ｂは、表面に気化を抑制するコーティング処理が施されてもよい。

次に、プロジェクター１の内部における熱交換部３０、冷却対象（光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ）および冷媒保持部７１の位置関係について詳細に説明する。以下の説明においては、重力方向（鉛直方向）を「重力方向Ｚ」と呼び、適宜図においてＺ軸で示す。Ｚ軸の正の側を「重力方向上側」とし、Ｚ軸の負の側を「重力方向下側」とする。また、重力方向Ｚと直交する水平方向のうちの１つの方向を「左右方向Ｙ」と呼び、適宜図においてＹ軸で示す。また、重力方向Ｚと直交する水平方向のうちの１つの方向であって、左右方向Ｙと直交する方向を「前後方向Ｘ」と呼び、適宜図においてＸ軸で示す。

図１０から図１４は、プロジェクター１の内部における熱交換部３０、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂおよび冷媒保持部７１の位置関係を示す図であり、これらを透過して示している。図１０において、プロジェクター１は、例えば、床面Ｓｆに設置される。図１０において、プロジェクター１は、光軸方向ＰＸが前後方向Ｘと平行で、幅方向ＰＹが左右方向Ｙと平行で、かつ、高さ方向ＰＺが重力方向Ｚと平行な姿勢である。

図１０に示すように、プロジェクター１は、プロジェクター１の各部を収容する筐体９０をさらに備える。筐体９０は、直方体箱状であり、筐体９０の各面は、光軸方向ＰＸ、幅方向ＰＹ、および高さ方向ＰＺに沿って配置されている。筐体９０は、床面Ｓｆと対向する底面９０ａを有する。底面９０ａは、投射光学装置６の光軸ＡＸと平行な光軸方向ＰＸに沿った面である。底面９０ａは、高さ方向ＰＺと直交する。図１０においては、底面９０ａは、筐体９０の重力方向下側の面であり、重力方向Ｚと直交する。図１０の姿勢において、底面９０ａは、脚部９１を介して床面Ｓｆと対向する。なお、これ以降、図１０に示す姿勢のことを「基本姿勢」とも呼ぶ。

図１０において、熱交換部３０は、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂおよび冷媒保持部７１に対して幅方向ＰＹの正側に、かつ、流通部３１が幅方向ＰＹに対して垂直な姿勢になるように配置されている。また、第１蓋部３２および第２蓋部３３は、ともに光軸方向ＰＸと平行な姿勢で、かつ、第２蓋部３３に対して第１蓋部３２が重力方向上側になるように配置されている。熱交換部３０、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂおよび冷媒保持部７１を幅方向ＰＹに対して垂直な仮想平面（第１の平面）に投影すると、熱交換部３０は、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂおよび冷媒保持部７１に対して、仮想平面に平行な光軸方向ＰＸの正負両側、および仮想平面に平行で光軸方向ＰＸに直交する高さ方向ＰＺの正負両側にはみ出すように配置されている。

また、プロジェクター１は、図１０に示す基本姿勢に限られず、図１１から図１４に示す各姿勢で設置される場合がある。図１１から図１４は、基本姿勢以外の姿勢で設置されたプロジェクター１を示す図である。

図１１において、プロジェクター１の姿勢は、図１０に示す基本姿勢に対して、プロジェクター１を、水平な幅方向ＰＹと平行な軸周りに、幅方向ＰＹの負側から見て反時計回りに９０°回転させた姿勢である。図１１においては、光軸方向ＰＸが重力方向Ｚと平行で、かつ、幅方向ＰＹが左右方向Ｙと平行で、かつ、高さ方向ＰＺが前後方向Ｘと平行である。図１１の姿勢において、プロジェクター１は、固定部材Ｂによって壁面Ｓｗに固定されており、筐体９０の底面９０ａが、壁面Ｓｗに対向している。図１１の姿勢において、プロジェクター１は、重力方向上側に画像を投射する。これ以降、図１１の姿勢のことを「上向き姿勢」とも呼ぶ。

図１２において、プロジェクター１の姿勢は、図１０に示す基本姿勢に対して、水平な幅方向ＰＹと平行な軸周りにプロジェクター１を１８０°回転させた姿勢である。言い換えれば、図１１に示す上向き姿勢に対して、プロジェクター１を、水平な幅方向ＰＹと平行な軸周りに、幅方向ＰＹの負側から見て反時計回りに９０°回転させた姿勢である。図１２においては、基本姿勢と同様、光軸方向ＰＸが前後方向Ｘと平行で、かつ、幅方向ＰＹが左右方向Ｙと平行で、かつ、高さ方向ＰＺが重力方向Ｚと平行である。図１２の姿勢において、プロジェクター１は、固定部材Ｂによって天井面Ｓｃに固定されており、筐体９０の底面９０ａが天井面Ｓｃに対向している。これ以降、図１２の姿勢のことを「反転姿勢」とも呼ぶ。

図１３において、プロジェクター１の姿勢は、図１０に示す基本姿勢に対して、プロジェクター１を、水平な幅方向ＰＹと平行な軸周りに、幅方向ＰＹの負側から見て反時計回りに２７０°回転させた姿勢である。言い換えれば、図１２に示す反転姿勢に対して、プロジェクター１を、水平な幅方向ＰＹと平行な軸周りに、幅方向ＰＹの負側から見て反時計回りに９０°回転させた姿勢である。図１３においては、上向き姿勢と同様、光軸方向ＰＸが重力方向Ｚと平行で、かつ、幅方向ＰＹが左右方向Ｙと平行で、かつ、高さ方向ＰＺが前後方向Ｘと平行である。図１３の姿勢において、プロジェクター１は、固定部材Ｂによって壁面Ｓｗに固定されており、筐体９０の底面９０ａが、壁面Ｓｗに対向している。図１３の姿勢においてプロジェクター１は、重力方向下側に画像を投射する。これ以降、図１３の姿勢のことを「下向き姿勢」とも呼ぶ。

図１４において、プロジェクター１の姿勢は、図１０に示す基本姿勢に対して、プロジェクター１を、水平な光軸方向ＰＸと平行な軸周りに、光軸方向ＰＸの負側から見て反時計回りに９０°回転させた姿勢である。図１４においては、光軸方向ＰＸが前後方向Ｘと平行で、かつ、幅方向ＰＹが重力方向Ｚと平行で、かつ、高さ方向ＰＺが左右方向Ｙと平行である。図１４の姿勢において、プロジェクター１は、床面Ｓｆに載置され、側面９０ｂが床面Ｓｆと対向している。基本姿勢において、プロジェクター１が横長の画像（重力方向Ｚよりも左右方向Ｙに長い画像）を投射する場合には、図１４の姿勢では、プロジェクター１は、縦長の画像（左右方向Ｙよりも重力方向Ｚに長い画像）を投射する。これ以降、図１４の姿勢のことを「垂直姿勢」とも呼ぶ。

図１０に戻って、基本姿勢において、熱交換部３０の内部で生成された冷媒Ｗは、重力により重力方向下側に移動する。図１０に示すように、基本姿勢では、熱交換部３０において第２蓋部３３が重力方向下側に位置するため、生成された冷媒Ｗは、第２蓋部３３に貯留される。そして、第２蓋部３３は、貯留されている冷媒Ｗの界面Ｌｗが、冷媒保持部７１の重力方向最下部を通る水平面Ｌｂに対して重力方向下側に位置するように構成されている。

図１０に示す基本姿勢において、第２蓋部３３に貯留されている冷媒Ｗの界面Ｌｗが水平面Ｌｂよりも重力方向上側に位置する場合、重力により過剰な冷媒Ｗが冷媒保持部７１に伝送され、冷媒保持部７１から漏れが生じることが考えられる。これに対して、本実施形態によれば、図１０に示すように、基本姿勢において、冷媒Ｗの界面Ｌｗは水平面Ｌｂに対して重力方向下側に位置するため、冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制できる。

また、図１１に示すように、上向き姿勢では、熱交換部３０において第１蓋部３２と第２蓋部３３における光軸方向ＰＸの負側が重力方向下側に位置するため、生成された冷媒Ｗは、第１蓋部３２と第２蓋部３３における光軸方向ＰＸの負側に貯留される。そして、第１蓋部３２および第２蓋部３３は、貯留されている冷媒Ｗの界面Ｌｗが、冷媒保持部７１の重力方向最下部を通る水平面Ｌｂに対して重力方向下側に位置するように構成されている。このため、上向き姿勢においても、冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制できる。

また、図１２に示すように、反転姿勢では、熱交換部３０において第１蓋部３２が重力方向下側に位置するため、生成された冷媒Ｗは、第１蓋部３２に貯留される。そして、第１蓋部３２は、貯留されている冷媒Ｗの界面Ｌｗが、冷媒保持部７１の重力方向最下部を通る水平面Ｌｂに対して重力方向下側に位置するように構成されている。このため、反転姿勢においても、冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制できる。

また、図１３に示すように、下向き姿勢では、熱交換部３０において第１蓋部３２と第２蓋部３３における光軸方向ＰＸの正側が重力方向下側に位置するため、生成された冷媒Ｗは、第１蓋部３２と第２蓋部３３における光軸方向ＰＸの正側に貯留される。そして、第１蓋部３２および第２蓋部３３は、貯留されている冷媒Ｗの界面Ｌｗが、冷媒保持部７１の重力方向最下部を通る水平面Ｌｂに対して重力方向下側に位置するように構成されている。このため、下向き姿勢においても、冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制できる。

また、図１４に示すように、垂直姿勢では、熱交換部３０において第１蓋部３２と第２蓋部３３における幅方向ＰＹの正側が重力方向下側に位置するため、生成された冷媒Ｗは、第１蓋部３２と第２蓋部３３における幅方向ＰＹの正側に貯留される。そして、第１蓋部３２および第２蓋部３３は、貯留されている冷媒Ｗの界面Ｌｗが、冷媒保持部７１の重力方向最下部を通る水平面Ｌｂに対して重力方向下側に位置するように構成されている。このため、垂直姿勢においても、冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制できる。

本実施形態において、基本姿勢が第１の姿勢に対応する。また、上向き姿勢は、基本姿勢から、幅方向ＰＹに平行な水平軸の周りに第１の回転方向に沿ってプロジェクター１を９０°回転させた姿勢であり、第２の姿勢に対応する。本実施形態において、第１の回転方向は、幅方向ＰＹの負側から見て反時計回りの回転方向である。また、反転姿勢は、上向き姿勢から、幅方向ＰＹと平行な水平軸の周りに第１の回転方向に沿ってプロジェクター１をさらに９０°回転させた姿勢であり、第３の姿勢に対応する。換言すると、第３の姿勢である反転姿勢は、第１の姿勢である基本姿勢から、幅方向ＰＹに平行な水平軸の周りに第１の回転方向に沿ってプロジェクター１を１８０°回転させた姿勢である。

また、本実施形態において、下向き姿勢は、反転姿勢から、幅方向ＰＹに平行な水平軸の周りに第１の回転方向に沿ってプロジェクター１をさらに９０°回転させた姿勢であり、第４の姿勢に対応する。また、垂直姿勢は、基本姿勢から、光軸方向ＰＸと平行な水平軸の周りにプロジェクター１を９０°回転させた姿勢であり、第５の姿勢に対応する。また、幅方向ＰＹに平行な水平軸が第１の水平軸に対応し、光軸方向ＰＸに平行な水平軸が第２の水平軸に対応する。また、光軸方向ＰＸが第１の方向に対応し、高さ方向ＰＺが第２の方向に対応する。

本実施形態において、プロジェクター１を、基本姿勢から、光軸方向ＰＸと平行な水平軸の周りに、光軸方向ＰＸの負側から見て時計回りに９０°回転させた姿勢（これ以降、「第２垂直姿勢」とも呼ぶ。）では、熱交換部３０が冷媒保持部７１に対して重力方向上側に位置してしまい、冷媒Ｗが過剰に供給される恐れがある。このため、取扱説明書等において、プロジェクター１を第２垂直姿勢で設置（使用）しないよう、ユーザーに案内されている。なお、第２垂直姿勢で床面Ｓｆと対向する筐体９０の側面９０ｃに勾配や凹凸を設ける等、筐体９０の形状を、第２垂直姿勢では安定した設置ができないような形状にすることが望ましい。

＜第２実施形態＞
以下、第２実施形態のプロジェクター１について説明する。
第２実施形態は、第１実施形態に対して、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂおよび冷媒保持部７１に対する熱交換部３０の位置関係および姿勢が異なる。なお、第１実施形態と同様の構成については、適宜同一の符号を付す等により説明を省略する場合がある。

図１５から図１９は、第２実施形態のプロジェクター１の内部における熱交換部３０、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂおよび冷媒保持部７１の位置関係を示す図であり、これらを透過して示している。図１５に示すように、プロジェクター１は、筐体９０の底面９０ａが床面Ｓｆに対向する基本姿勢で設置されている。図１５において、プロジェクター１は、光軸方向ＰＸが前後方向Ｘと平行で、幅方向ＰＹが左右方向Ｙと平行で、かつ、高さ方向ＰＺが重力方向Ｚと平行な姿勢である。

本実施形態において、熱交換部３０は、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂおよび冷媒保持部７１に対して光軸方向ＰＸの負側に、かつ、流通部３１が光軸方向ＰＸに対して垂直な姿勢になるように配置されている。また、第１蓋部３２および第２蓋部３３は、ともに幅方向ＰＹと平行な姿勢で、かつ、第２蓋部３３に対して第１蓋部３２が重力方向上側になるように配置されている。熱交換部３０、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂおよび冷媒保持部７１を光軸方向ＰＸに対して垂直な仮想平面（第１の平面）に投影すると、熱交換部３０は、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂおよび冷媒保持部７１に対して、仮想平面に平行な幅方向ＰＹの正負両側、および仮想平面に平行で幅方向ＰＹに直交する高さ方向ＰＺの正負両側にはみ出すように配置されている。

また、本実施形態においても、プロジェクター１は、図１５に示す基本姿勢に限られず、図１６〜図１９に示す各姿勢で設置される場合がある。図１６〜図１９は、基本姿勢以外の姿勢で設置されたプロジェクター１を示す図である。

図１６において、プロジェクター１の姿勢は、図１５に示す基本姿勢に対して、プロジェクター１を、水平な光軸方向ＰＸと平行な軸周りに、光軸方向ＰＸの負側から見て反時計回りに９０°回転させた垂直姿勢である。図１６においては、光軸方向ＰＸが前後方向Ｘと平行で、かつ、幅方向ＰＹが重力方向Ｚと平行で、かつ、高さ方向ＰＺが左右方向Ｙと平行である。垂直姿勢において、プロジェクター１は、床面Ｓｆに載置され、側面９０ｂが床面Ｓｆと対向している。

図１７において、プロジェクター１の姿勢は、図１５に示す基本姿勢に対して、水平な光軸方向ＰＸと平行な軸周りにプロジェクター１を１８０°回転させた反転姿勢である。言い換えれば、図１６に示す垂直姿勢に対して、プロジェクター１を、水平な光軸方向ＰＸと平行な軸周りに、光軸方向ＰＸの負側から見て反時計回りに９０°回転させた姿勢である。図１７においては、基本姿勢と同様、光軸方向ＰＸが前後方向Ｘと平行で、かつ、幅方向ＰＹが左右方向Ｙと平行で、かつ、高さ方向ＰＺが重力方向Ｚと平行である。図１７の姿勢において、プロジェクター１は、固定部材Ｂによって天井面Ｓｃに固定されており、筐体９０の底面９０ａが天井面Ｓｃに対向している。

図１８において、プロジェクター１の姿勢は、図１５に示す基本姿勢に対して、プロジェクター１を、水平な光軸方向ＰＸと平行な軸周りに、光軸方向ＰＸの負側から見て反時計回りに２７０°回転させた第２垂直姿勢である。言い換えれば、図１７に示す反転姿勢に対して、プロジェクター１を、水平な光軸方向ＰＸと平行な軸周りに、光軸方向ＰＸの負側から見て反時計回りに９０°回転させた姿勢である。図１８においては、垂直姿勢と同様、光軸方向ＰＸが前後方向Ｘと平行で、かつ、幅方向ＰＹが重力方向Ｚと平行で、かつ、高さ方向ＰＺが左右方向Ｙと平行である。第２垂直姿勢において、プロジェクター１は、床面Ｓｆに載置され、側面９０ｂとは反対側の側面９０ｃが床面Ｓｆと対向している。

図１９において、プロジェクター１の姿勢は、図１５に示す基本姿勢に対して、プロジェクター１を、水平な幅方向ＰＹと平行な軸周りに、幅方向ＰＹの負側から見て反時計回りに９０°回転させた上向き姿勢である。図１９においては、光軸方向ＰＸが重力方向Ｚと平行で、かつ、幅方向ＰＹが左右方向Ｙと平行で、かつ、高さ方向ＰＺが前後方向Ｘと平行である。図１９の姿勢において、プロジェクター１は、固定部材Ｂによって壁面Ｓｗに固定されており、筐体９０の底面９０ａが、壁面Ｓｗに対向している。

図１５に戻って、基本姿勢において、熱交換部３０の内部で生成された冷媒Ｗは、重力により重力方向下側に移動する。図１５に示すように、基本姿勢では、熱交換部３０において第２蓋部３３が重力方向下側に位置するため、生成された冷媒Ｗは、第２蓋部３３に貯留される。そして、第２蓋部３３は、貯留されている冷媒Ｗの界面Ｌｗが、冷媒保持部７１の重力方向最下部を通る水平面Ｌｂに対して重力方向下側に位置するように構成されている。このため、冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制できる。

また、図１６に示すように、垂直姿勢では、熱交換部３０において第１蓋部３２と第２蓋部３３における幅方向ＰＹの正側が重力方向下側に位置するため、生成された冷媒Ｗは、第１蓋部３２と第２蓋部３３における幅方向ＰＹの正側に貯留される。そして、第１蓋部３２および第２蓋部３３は、貯留されている冷媒Ｗの界面Ｌｗが、冷媒保持部７１の重力方向最下部を通る水平面Ｌｂに対して重力方向下側に位置するように構成されている。このため、垂直姿勢においても、冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制できる。

また、図１７に示すように、反転姿勢では、熱交換部３０において第１蓋部３２が重力方向下側に位置するため、生成された冷媒Ｗは、第１蓋部３２に貯留される。そして、第１蓋部３２は、貯留されている冷媒Ｗの界面Ｌｗが、冷媒保持部７１の重力方向最下部を通る水平面Ｌｂに対して重力方向下側に位置するように構成されている。このため、反転姿勢においても、冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制できる。

また、図１８に示すように、第２垂直姿勢では、熱交換部３０において第１蓋部３２と第２蓋部３３における幅方向ＰＹの負側が重力方向下側に位置するため、生成された冷媒Ｗは、第１蓋部３２と第２蓋部３３における幅方向ＰＹの負側に貯留される。そして、第１蓋部３２および第２蓋部３３は、貯留されている冷媒Ｗの界面Ｌｗが、冷媒保持部７１の重力方向最下部を通る水平面Ｌｂに対して重力方向下側に位置するように構成されている。このため、第２垂直姿勢においても、冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制できる。

また、図１９に示すように、上向き姿勢では、熱交換部３０において第１蓋部３２と第２蓋部３３における光軸方向ＰＸの負側が重力方向下側に位置するため、生成された冷媒Ｗは、第１蓋部３２と第２蓋部３３における光軸方向ＰＸの負側に貯留される。そして、第１蓋部３２および第２蓋部３３は、貯留されている冷媒Ｗの界面Ｌｗが、冷媒保持部７１の重力方向最下部を通る水平面Ｌｂに対して重力方向下側に位置するように構成されている。このため、上向き姿勢においても、冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制できる。

本実施形態において、基本姿勢が第１の姿勢に対応する。また、垂直姿勢は、基本姿勢から、光軸方向ＰＸと平行な水平軸の周りに第１の回転方向に沿ってプロジェクター１を９０°回転させた姿勢であり、第２の姿勢に対応する。本実施形態において、第１の回転方向は、光軸方向ＰＸの負側から見て反時計回りの回転方向である。また、反転姿勢は、垂直姿勢から、光軸方向ＰＸと平行な水平軸の周りに第１の回転方向に沿ってプロジェクター１をさらに９０°回転させた姿勢であり、第３の姿勢に対応する。換言すると、第３の姿勢である反転姿勢は、第１の姿勢である基本姿勢から、光軸方向ＰＸに平行な水平軸の周りに第１の回転方向に沿ってプロジェクター１を１８０°回転させた姿勢である。

また、本実施形態において、第２垂直姿勢は、反転姿勢から、光軸方向ＰＸと平行な水平軸の周りに第１の回転方向に沿ってプロジェクター１をさらに９０°回転させた姿勢であり、第４の姿勢に対応する。また、上向き姿勢は、基本姿勢から、光軸方向ＰＸに垂直な幅方向ＰＹに平行な水平軸の周りにプロジェクター１を９０°回転させた姿勢であり、第５の姿勢に対応する。また、光軸方向ＰＸに平行な水平軸が第１の水平軸に対応し、幅方向ＰＹに平行な水平軸が第２の水平軸に対応する。また、幅方向ＰＹが第１の方向に対応し、高さ方向ＰＺが第２の方向に対応する。

また、本実施形態において、プロジェクター１を、基本姿勢から、光軸方向ＰＸに垂直な幅方向ＰＹに平行な水平軸の周りに、幅方向ＰＹの負側から見て時計回りに９０°回転させた下向き姿勢では、熱交換部３０が冷媒保持部７１に対して重力方向上側に位置してしまい、冷媒Ｗが過剰に供給される恐れがある。このため、取扱説明書等において、プロジェクター１を下向き姿勢で設置（使用）しないよう、ユーザーに案内されている。

（変形例）
また、上記実施形態は、以下のように変更してもよい。

上述した各実施形態では、プロジェクター１の光軸方向ＰＸが、前後方向Ｘまたは重力方向Ｚと平行になるような姿勢でプロジェクター１を設置する例を示したが、プロジェクター１の設置姿勢は、これらに限定されない。例えば、図２０に示すように、光軸方向ＰＸが前後方向Ｘや重力方向Ｚに対して傾くような姿勢で設置された場合でも、貯留されている冷媒Ｗの界面Ｌｗが、冷媒保持部７１の重力方向最下部を通る水平面Ｌｂに対して重力方向下側に位置するように構成されていれば、冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制できる。

上述した第１実施形態では、基本姿勢、上向き姿勢、反転姿勢、下向き姿勢、垂直姿勢、第２垂直姿勢の６つの姿勢のうち、第２垂直姿勢を除く５つの姿勢で、冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制可能になっている。また、第２実施形態では、下向き姿勢を除く５つの姿勢で冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制可能になっている。このように、冷媒Ｗの過剰な伝送を抑制可能な姿勢は、熱交換部３０の配置や姿勢に応じて適宜選択可能である。また、冷媒Ｗの過剰な伝送を、上記の６つの姿勢のうち、５つの姿勢で抑制できる態様に限定されず、２〜４つの姿勢でのみ抑制可能な態様であってもよい。

流通部３１の構成は、上述した各実施形態の構成に限られない。流通部３１は、内部に冷媒Ｗが流通するならば、特に限定されない。流通部３１は、例えば、箱状であってもよいし、多角筒状であってもよい。また、流通部３１は、１つの配管部から構成されてもよい。また、流通部３１の姿勢は、上述した各実施形態の構成に限られない。

また、筐体９０の構成は、上述した各実施形態の構成に限られない。筐体９０の形状は、特に限定されない。例えば、筐体９０を構成する各面は、直交していなくてもよいし、曲面であってもよい。

また、冷媒生成部２０の構成は、上述した各実施形態の構成に限られない。冷媒生成部２０は、冷媒Ｗを生成できるならば、特に限定されない。例えば、冷媒生成部２０は、熱電素子によってプロジェクター１の内部における空気中の水蒸気を凝縮させて冷媒Ｗを生成してもよい。また、例えば、冷媒生成部２０は、水素電池等の燃料電池を有してもよい。この場合、例えば、プロジェクター１に電力を供給することで燃料電池から生成される水を冷媒Ｗとして利用することができる。また、冷媒Ｗは、冷却対象を冷却できるならば、特に限定されず、水以外であってもよい。また、生成される冷媒Ｗは、液体に限られず、例えば、固体であってもよい。この場合、冷却対象に伝送される間に液体に変化してもよいし、固体のまま冷却対象に伝送されてもよい。冷媒Ｗが固体のまま冷却対象に伝送された場合、冷媒Ｗは、直接気体へと昇華することで冷却対象を冷却してもよいし、液体に融解した後に気化して冷却対象を冷却してもよい。

また、第１捕捉部５１、第２捕捉部５２、第３捕捉部５３の構成は、上述した各実施形態の構成に限られない。熱交換部３０内の冷媒Ｗを冷媒伝送部５０に伝送できるならば、特に限定されない。第１捕捉部５１、第２捕捉部５２、第３捕捉部５３は、多孔質部材を配する代わりに熱交換部３０の内壁に直接溝を形成する加工を施して表面張力を発現させてもよい。

また、冷媒伝送部５０の構成は、上述した各実施形態の構成に限られない。冷媒伝送部５０は、冷媒Ｗを冷却対象に伝送できるならば、特に限定されない。冷媒伝送部５０は、冷媒Ｗを伝送するポンプとポンプによって伝送される冷媒Ｗが通る配管とを有してもよい。また、冷媒伝送部５０は、例えば、重力を利用して冷却対象に冷媒を伝送してもよい。

また、冷却促進部７０の構成は、上述した各実施形態の構成に限られない。冷却促進部７０は、冷却対象に伝送された冷媒Ｗによる冷却対象の冷却を促進できるならば、特に限定されない。例えば、冷却促進部７０の冷媒保持部７１は、冷却対象の表面に加工等によって形成された微細な凹凸であってもよい。この場合、凹凸によって冷媒Ｗが保持される。また、冷媒保持部７１は、冷却対象の表面に設けられた親水性コート等であってもよい。

また、加熱部２２は、上述した構成に限られない。加熱部２２は、吸放湿部材４０に接触して吸放湿部材４０を加熱する構成であってもよい。この場合、加熱部２２は、吸放湿部材４０を通過する前の空気を加熱しなくてもよい。

また、上述した各実施形態において冷却対象は、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂとしたが、これに限られない。冷却対象は、光変調装置４ＲＰ，４ＧＰ，４ＢＰと、光変調ユニット４Ｒ，４Ｇ，４Ｂと、光源装置２と、光源装置２から射出された光の波長を変換する波長変換素子と、光源装置２から射出された光を拡散する拡散素子と、光源装置２から射出された光の偏光方向を変換する偏光変換素子とのうちの少なくとも一つを含んでもよい。この構成によれば、プロジェクター１の各部を上述したのと同様に、冷却することができる。

また、上記実施形態において、透過型のプロジェクター１に本発明を適用した場合の例について説明したが、本発明は、反射型のプロジェクター１にも適用することも可能である。ここで、「透過型」とは、液晶パネル等を含む光変調装置４ＲＰ，４ＧＰ，４ＢＰが光を透過するタイプであることを意味する。「反射型」とは、光変調装置４ＲＰ，４ＧＰ，４ＢＰが光を反射するタイプであることを意味する。なお、光変調装置４ＲＰ，４ＧＰ，４ＢＰは、液晶パネル等に限られず、例えばマイクロミラーを用いた光変調装置であってもよい。

また、上記実施形態において、３つの光変調装置４ＲＰ，４ＧＰ，４ＢＰを用いたプロジェクター１の例を挙げたが、本発明は、１つの光変調装置のみを用いたプロジェクター、４つ以上の光変調装置を用いたプロジェクター１にも適用可能である。

また、上記説明した各構成は、相互に矛盾しない範囲内において、適宜組み合わせることができる。

１…プロジェクター、２…光源装置、３…色分離光学系、４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ…光変調ユニット、４ＲＰ，４ＧＰ，４ＢＰ…光変調装置、５…光合成光学系、６…投射光学装置、７ａ…第１のダイクロイックミラー、７ｂ…第２のダイクロイックミラー、８ａ…第１の反射ミラー、８ｂ…第２の反射ミラー、８ｃ…第３の反射ミラー、８ｄ…リレーレンズ、９Ｒ，９Ｇ，９Ｂ…フィールドレンズ、１０…冷却装置、２０…冷媒生成部、２１…冷却ダクト、２１ａ…冷却通路部、２２…加熱部、２２ａ…加熱本体部、２３…第２送風装置、２３ａ…排気口、２４…モーター、２５，２６…循環ダクト、２７…循環経路、３０…熱交換部、３１…流通部、３１ａ…配管部、３２…第１蓋部、３２ａ…仕切部、３２ｂ，３２ｃ…連通孔、３３…第２蓋部、４０…吸放湿部材、４０ａ…帯状部材、４０ｂ…貫通孔、４０ｃ…中心孔、５０…冷媒伝送部、５１…第１捕捉部、５２…第２捕捉部、５３…第３捕捉部、５４…接続部、６０…第１送風装置、７０…冷却促進部、７１，７１Ｒ，７１Ｇ，７１Ｂ…冷媒保持部、７１ａ…本体部、７１ｂ，７１ｃ…挿入部、７２…固定部材、７２ａ…枠部、７２ｂ…取付部、７２ｃ…挿入部、７３ａ，７３ｂ…連結部、７４…被覆部、８０…保持フレーム、８１…貫通孔、８２ａ，８２ｂ…挿入溝、８３…段差部、９０…筐体、９０ａ…底面、９０ｂ，９０ｃ…側面、９１…脚部、ＡＲ１，ＡＲ２…空気、ＡＸ…光軸、Ｂ…固定部材、ＤＥ…延伸方向、ＤＲ…回転軸方向、ＤＴ…厚さ方向、Ｆ１…第１領域、Ｆ２…第２領域、ＬＢ…青色光、ＬＧ…緑色光、ＬＲ…赤色光、Ｌｂ…水平面、Ｌｗ…界面、ＰＸ…光軸方向、ＰＹ…幅方向、ＰＺ…高さ方向、Ｒ…回転軸、Ｓ１…第１空間、Ｓ２…第２空間、ＳＣＲ…スクリーン、Ｓｃ…天井面、Ｓｆ…床面、Ｓｗ…壁面、Ｗ…冷媒、ＷＬ…照明光、Ｘ…前後方向、Ｙ…左右方向、Ｚ…重力方向。

Claims (9)

1. 光を射出する光源装置と、
   前記光源装置からの光を画像信号に応じて変調する光変調装置と、
   前記光変調装置により変調された光を投射する投射光学装置と、
   冷媒が気体へ変化することで冷却対象を冷却する冷却装置と、
   を備えるプロジェクターであって、
   前記冷却装置は、
   前記冷媒を生成する冷媒生成部と、
   前記冷媒生成部において生成された前記冷媒を前記冷却対象に向けて伝送する冷媒伝送部と、
   前記冷却対象に接続され、前記冷媒伝送部によって伝送された前記冷媒を保持し、前記冷却対象からの熱を受けて前記冷媒を気体に変化させる冷媒保持部と、
   を有し、
   前記冷媒生成部は、生成された前記冷媒が内部に貯留される貯留部を有し、
   前記プロジェクターが第１の姿勢である場合に、前記冷媒保持部および前記冷媒生成部は、前記貯留部内に貯留される前記冷媒の界面が前記冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側に位置するように、前記プロジェクター内に配置されることを特徴とするプロジェクター。
2. 請求項１に記載のプロジェクターであって、
   前記冷媒保持部および前記冷媒生成部は、
   前記第１の姿勢、および前記第１の姿勢から第１の水平軸の周りに９０°回転させた第２の姿勢の双方において、前記貯留部内に貯留される前記冷媒の界面が前記冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側に位置するように、前記プロジェクター内に配置されることを特徴とするプロジェクター。
3. 請求項１に記載のプロジェクターであって、
   前記冷媒保持部および前記冷媒生成部は、
   前記第１の姿勢、および前記第１の姿勢から第１の水平軸の周りに１８０°回転させた第３の姿勢の双方において、前記貯留部内に貯留される前記冷媒の界面が前記冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側に位置するように、前記プロジェクター内に配置されることを特徴とするプロジェクター。
4. 請求項１に記載のプロジェクターであって、
   前記冷媒保持部および前記冷媒生成部は、
   前記第１の姿勢、前記第１の姿勢から第１の水平軸の周りに第１の回転方向に沿って９０°回転させた第２の姿勢、前記第２の姿勢から前記第１の水平軸の周りに前記第１の回転方向に沿ってさらに９０°回転させた第３の姿勢、および前記第３の姿勢から前記第１の水平軸の周りに前記第１の回転方向に沿ってさらに９０°回転させた第４の姿勢において、前記貯留部内に貯留される前記冷媒の界面が前記冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側に位置するように、前記プロジェクター内に配置されることを特徴とするプロジェクター。
5. 請求項４に記載のプロジェクターであって、
   前記冷媒保持部および前記冷媒生成部は、
   前記第１の姿勢から前記第１の水平軸に直交する第２の水平軸の周りに９０°回転させた第５の姿勢において、前記貯留部内に貯留される前記冷媒の界面が前記冷媒保持部の重力方向最下部よりも重力方向下側に位置するように、前記プロジェクター内に配置されることを特徴とするプロジェクター。
6. 請求項１に記載のプロジェクターであって、
   前記冷媒保持部および前記冷媒生成部は、
   前記貯留部および前記冷媒保持部を、第１の水平軸に垂直な第１の平面に投影した場合に、前記貯留部が、前記冷媒保持部に対して、前記第１の平面に平行な第１の方向の正負両側、および前記第１の平面に平行で前記第１の方向に直交する第２の方向の正負両側にはみ出すように、前記プロジェクター内に配置されることを特徴とするプロジェクター。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載のプロジェクターであって、
   前記貯留部の内壁には、表面張力を生じる溝が形成されており、
   前記冷媒伝送部は、前記溝を含んで構成されることを特徴とするプロジェクター。
8. 請求項１〜６のいずれか一項に記載のプロジェクターであって、
   前記貯留部の内壁には、多孔質部材が設けられており、
   前記冷媒伝送部は、前記多孔質部材を含んで構成されることを特徴とするプロジェクター。
9. 請求項１〜８のいずれか一項に記載のプロジェクターであって、
   前記冷却対象は、前記光変調装置であることを特徴とするプロジェクター。

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