JP2019145875A - 撮像装置および撮像システム、および移動体 - Google Patents

撮像装置および撮像システム、および移動体 Download PDF

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Abstract

【課題】撮像装置における電荷の転送効率を向上する。【解決手段】光電変換によって生じた電荷を蓄積する光電変換部と、前記光電変換部に蓄積された電荷を転送する転送トランジスタと、前記光電変換部をオーバーフロードレインに接続するオーバーフロートランジスタと、をそれぞれ有する複数の画素を備える撮像装置であって、前記光電変換部に電荷を蓄積する蓄積期間中に、前記オーバーフロートランジスタのゲート電位は電位VofHに設定され、前記転送トランジスタによって前記光電変換部から電荷を転送する転送期間中の少なくとも一部の期間において、前記オーバーフロートランジスタのゲート電位は、前記電位VofHよりも低い電位VofLに設定される、撮像装置。【選択図】図2

Description

本発明は、撮像装置および撮像システム、および移動体に関する。
特許文献1は、オーバーフロードレイン(以下、OFD)トランジスタを用いることによって、高いダイナミックレンジを実現可能な撮像装置(固体撮像素子)が開示されている。
米国特許出願公開第2006/0001060号明細書
撮像装置において、光電変換部から異なる領域へ電荷を転送する際、その転送効率を向上させることが求められている。
本発明は、撮像装置において、電荷の転送効率の向上を目的とする。
本発明の第一の態様は、
光電変換によって生じた電荷を蓄積する光電変換部と、
前記光電変換部に蓄積された電荷を転送する転送トランジスタと、
前記光電変換部をオーバーフロードレインに接続するオーバーフロートランジスタと、
をそれぞれ有する複数の画素を備える撮像装置であって、
前記光電変換部に電荷を蓄積する蓄積期間中に、前記オーバーフロートランジスタのゲート電位は電位VofHに設定され、
前記転送トランジスタによって前記光電変換部から電荷を転送する転送期間中の少なくとも一部の期間において、前記オーバーフロートランジスタのゲート電位は、前記電位VofHよりも低い電位VofLに設定される、
ことを特徴とする。
本発明に係る撮像装置によれば、電荷の転送効率を向上することが可能となる。
実施形態1に係る撮像装置の回路図および平面模式図 実施形態1に係る撮像装置のタイミング図およびポテンシャル分布 実施形態2に係る撮像装置の平面模式図および断面模式図 実施形態3に係る撮像装置のタイミング図 実施形態4に係る撮像装置の回路図および平面模式図 実施形態4に係る撮像装置のタイミング図 実施形態5に係る撮像装置の平面模式図 実施形態6に係る撮像装置の平面模式図および係るタイミング図 実施形態7に係る撮像装置の回路図および平面模式図 実施形態7に係る撮像装置のタイミング図 実施形態8に係る撮像装置の係る回路図 実施形態8に係る撮像装置の平面模式図 実施形態9に係る撮像装置の回路図 実施形態9に係る撮像装置の平面模式図 実施形態19に係る撮像装置のタイミング図 実施形態10に係る撮像装置の回路図 実施形態10に係る撮像装置の平面模式図 実施形態11に係る撮像システムの構成例を表す図 実施形態12に係る撮像システムおよび移動体の構成例を表す図
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。また、以下で説明する図面において、同じ機能を有するものは同一の符号を付し、その説明を省略又は簡潔にすることもある。
撮像装置は、光を電気信号に変換する画素を複数有する半導体デバイスであり、固体撮像素子やイメージセンサや光電変換装置とも呼ばれるものである。撮像装置には、CCDイメージセンサ、CMOSイメージセンサなどが含まれる。以下では、本発明の好ましい適用例の一つとして、CMOSイメージセンサに本発明を適用した場合の構成例を説明する。
(第1実施形態)
図1Aから図2Bは、第1実施形態1による撮像装置の概略を示す概略図である。図1Aはその回路図、図1Bは図1Aの平面図、図2Aは画素を駆動する際のタイミング図、図2Bは図1BのY1−Y1’に沿ったポテンシャル図である。以下では、説明を単純化するために、第1導電型をN型、第2導電型をP型として説明するが、第1導電型をP型、第2導電型をN型としても良い。
図1Aに示されるように、本実施形態に係る撮像装置は、光電変換部101、フローティングディフュージョン部102、転送トランジスタ103、オーバーフロートランジスタ(OFDトランジスタ)104を備える。本実施形態に係る撮像装置は、さらに、リセットトランジスタ105、ソースフォロワ106、選択トランジスタ107、垂直出力線108、および電源109を備える。
光電変換部101は、入射光に応じた電荷を生成して蓄積する。フローティングディフュージョン(以下、FD)部102は、光電変換部101の電荷を受け取り、電圧に変換する。転送トランジスタ(以下、TX103)は、オン状態になると、光電変換部101によって生成・蓄積された電荷をFD102へ転送する。OFDトランジスタ104は、オン状態になると、光電変換部101の電荷をオーバーフロードレインに排出する。OFDトランジスタ104をオフに制御することで、光電変換部101による電荷の蓄積が開始される。これにより、露光時間長さを自由に設定することができる。リセットトランジスタ105は、オン状態になると、FD102へ転送された電荷を排出する。ソースフォロワ(以下、SF)106は、FD102で変換された電圧を増幅して出力する。フローティングディフュージョン部102およびSF106は、本発明における増幅部に相当する。選択トランジスタ107は、SF106の出力を制御し、垂直出力線108に接続されている。
図1Bに示すように、光電変換部101は、第一方向および第二方向を辺とする矩形形状であり、第一方向に沿った辺に、OFDトランジスタ104のゲート電極が設けられている。すなわち、OFDトランジスタ104は、光電変換部101の端部に沿って配され
ている。
図2Aにおいて、時刻t1以前は、光電変換部101が電荷を蓄積する蓄積期間であって、OFDトランジスタ104は所定の電位VofHに設定されている。蓄積期間中は、図2B(a)に示されるように、OFDトランジスタ104直下に形成されるポテンシャルVofHとTX103直下に形成されるポテンシャルVtxLの山に囲われた領域に電荷が蓄積される。これによって高輝度の被写体を撮像した際、光電変換部101から溢れ出た余剰な電荷をOFDトランジスタ104へ排出し、隣接画素への混色を抑制することが可能となる。なお、図2B(a)では、VtxLは、VofLとVofHの間の電位をとっているが、これに限定されず、VtxLはVofLより低くてもVofHより高くてもよい。
時刻t1からt4は、SEL107がオンする行選択期間である。時刻t2からt3は、TX103がオンする転送期間であって、光電変換部101からFD104へ電荷が転送される。このとき、OFDトランジスタ104は、転送期間中の少なくとも一部の期間において、所定の電位VofLに設定される。図2Aでは、転送期間中の全ての期間にわたって、OFDトランジスタ104が電位VofLに設定される。このときのポテンシャルは図2B(b)に示される。このように、光電変換部101とOFDトランジスタ104との間により大きな逆バイアスが印加され、光電変換部101の空乏化を促進することが可能となり、転送効率を向上させることが出来る。ここで、VofLは、VofHよりも低い電位である。
図2Aでは、転送期間(時刻t2からt3)の全てにおいて、OFDトランジスタ104は所定の電位VofLに設定されているが、転送期間の少なくとも一部の期間において所定の電位VofLに設定されればよい。こうすることにより、転送期間においてOFDトランジスタ104の電位をVofLに切り替えない場合と比較して、転送効率を向上させることができる。
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態は、第1実施形態と比較して、OFDトランジスタ104のゲート電極の形状が異なる。以下、主に第1実施形態との相違点について説明する。図3Aと図3Bはそれぞれ、本実施形態に係る撮像装置の平面模式図および断面模式図である。
図3Aに示されるように、OFDトランジスタ104のゲート電極は、光電変換部101を囲うように延在した形で配されている。具体的には、OFDトランジスタ104のゲート電極は、光電変換部101の第一方向に沿った辺(第一の辺)の全体と、当該辺に接続する第2の方向に沿った辺(第二の辺)の一部とにわたって配される。このような構成とすることにより、TX103がオンしてOFDトランジスタ104のゲート電極にVofLが印加される際に、光電変換部101の周囲に大きな逆バイアスがかかることによって、更に転送効率を向上させることが可能となる。
また、蓄積期間中において、OFDトランジスタ104のゲート電極に印加されるVofHは、ウェル電位よりも低い電位であることが望ましい。これにより、暗電流を抑制することが可能となる。
図3Bにおいて、光電変換部101は、第一導電型の拡散層601と第二導電型の拡散層602から構成されている。画素分離部603は、例えばSTI(Shallow Trench Isolation)分離、LOCOS(Local Oxidation
Of Silicon)分離、第二導電型の拡散層分離等により形成される。604は、第二導電型のウェル領域である。
(第3実施形態)
本発明の第3実施形態は、第1実施形態と比較してOFDトランジスタ104に設定するゲート電位が異なる。以下、主に第1,第2実施形態との相違点について説明する。図4は、本実施形態における画素を駆動する際のタイミング図である。
図4において、時刻t0以前は、OFDトランジスタ104のゲート電位は、所定の電位VofHであって、時刻t0において、VofHから所定の電位VofHHへ遷移する。VofHHは、VofHよりも高い電位である。このような制御を行うことで、特に高輝度の被写体を撮像する際、光電変換部101に蓄積された電荷量が飽和することを抑制し、白飛びの少ない画像を取得することができる。
ここでは、時刻t0においてOFDトランジスタ104のゲート電位をVofHからOofHHに切り替えているが、被写体の輝度に応じて、蓄積期間のゲート電位をVofHまたは、VofHHのいずれか一方の電位から選択しても良い。
TX103をオンする転送期間(時刻t2からt3)中の少なくとも一部の期間では、第1実施形態と同様にOFDトランジスタ104のゲート電位はVofLに設定される。なお、図4では、電位VofHHからVofLに切り替えているが、その途中にVofHを維持する期間があっても構わない。
(第4実施形態)
本発明の第4実施形態は、1つの画素が2つの光電変換部を有する撮像装置である。図5A,図5B、図6はそれぞれ、本実施形態4に係る撮像装置の回路図、平面模式図、タイミング図である。
図5Aに示されるように、本実施形態に係る撮像装置は、1つの画素内に、2つの光電変換部801Aと801Bを有し、1つのFD102を共用する構成となっている。さらには、光電変換部801Aに生じた信号電荷をFD102へ転送する転送トランジスタ802A(以下TXA)と、光電変換部802Bに生じた信号電荷をFD102へ転送する転送トランジスタ802B(以下TXB)を有する。本実施形態の構成によれば、撮像用の信号電荷に加えて、撮像以外の用途に用いる信号電荷を蓄積することができる。撮像以外の信号とは、例えば、位相差検出方式による焦点検出用の信号、距離測定のための信号、異なる波長域の光を光電変換した信号等である。
図5Bに示すように、本実施形態では、OFDトランジスタ104のゲート電極は、光電変換部801Aと801Bの両方にまたがって配されている。
図6において、時刻t1以前は、光電変換部801Aと801Bが電荷を蓄積する蓄積期間であって、OFDトランジスタ104は所定の電位VofHに設定されている。これによって高輝度の被写体を撮像した際、光電変換部801Aと801Bから溢れ出た余剰な電荷をOFDトランジスタ104へ排出し、隣接画素への混色を抑制することが可能となる。
時刻t1からt6は、SEL107がオンする行選択期間である。時刻t2からt3は、TXA802Aがオンする第一の転送期間であって、光電変換部801AからFD102へ電荷が転送される。このとき、OFDトランジスタ104は、転送期間中の少なくとも一部の期間において、所定の電位VofLとなる。これにより、光電変換部801AとOFDトランジスタ104との間に、より大きな逆バイアスが印加され、光電変換部801Aの空乏化を促進することが可能となり、転送効率を向上させることが出来る。ここで
、VofLは、VofHよりも低い電位である。
時刻t4からt5は、TXA802AとTXB802Bの両方がオンする第二の転送期間であって、光電変換部801Aと801BからFD102へ電荷が転送される。このとき、OFDトランジスタ104は、転送期間中の少なくとも一部の期間において、所定の電位VofLとなる。これにより、光電変換部801Aと801Bの両方と、OFDトランジスタ104との間に、より大きな逆バイアスが印加され、光電変換部801Aと801Bの空乏化を促進することが可能となり、転送効率を向上させることが出来る。
本実施形態において、第一の転送期間(t2〜t3)と第二の転送期間(t4〜t5)の全てにおいてOFDトランジスタ104は電位VofLに設定されるが、各転送期間の少なくとも一部の期間において電位VofLに設定されればよい。また、時刻t3からt4の期間において、OFDトランジスタ104の電位をVofHとしているが、この期間もVofLとしても構わない。
(第5実施形態)
本発明の第5実施形態は、第4実施形態と比較してOFDトランジスタ104の構成が異なる。図7は、本実施形態に係る撮像装置の概略を平面模式図である。
図7において、OFDトランジスタ104は、光電変換部801Aの端部のみに配されている。このような構成をとることによって、図6のタイミングで画素を駆動した場合、時刻t2からt3、およびt4からt5の期間内において、光電変換部801Aの空乏化を促進し、転送効率を向上させることが出来る。さらには、第4実施形態に比べて、OFDトランジスタ104を小さくすることが可能であって、画素を微細化することができる。
(第6実施形態)
本発明の第6実施形態は、第4,5実施形態と比較してOFDトランジスタ104の構成が異なり、それに伴い画素の駆動タイミングが異なる。図8Aと図8Bはそれぞれ、本実施形態に係る撮像装置の平面模式図、およびタイミング図である。
図8Aにおいて、OFDトランジスタ104は、光電変換部801Bの端部のみに配されている。
本実施形態の第4の実施形態の画素駆動タイミングの違い(図8Bと図6との違い)は、時刻t2からt3において、OFDトランジスタ104がVofHとなる点である。時刻t4からt5の期間内においては、光電変換部801Bの空乏化を促進し、転送効率を向上させることが出来る。さらには、第4の実施形態に比べて、OFDトランジスタ104を小さくすることが可能であって、画素を微細化することができる。
(第7実施形態)
本発明の第7実施形態は、グローバル電子シャッター動作を行う撮像装置である。図9A、図9B、図10はそれぞれ、本実施形態に係る撮像装置の、回路図、平面図、およびタイミング図である。
図9Aに示すように、本実施形態に係る撮像装置は、各画素に第二の転送トランジスタ1401とメモリ部1402とをさらに備える。第二の転送トランジスタ(以下、GS)1401は、オン状態の時に、光電変換部101からメモリ部1402へ電荷を転送する。メモリ部1402は、電荷を一時的に保持する電荷保持部である。本実施形態においては、転送トランジスタ(TX)103は、オン状態の時に、メモリ部1402からFD1
02へ電荷を転送する。
このような回路構成によって、全ての画素において、同時刻に、光電変換部101に蓄積された電荷をメモリ部1402へ転送し、電荷を保持することが可能となる。すなわち、グローバル電子シャッターの機能を有することによって、歪みの少ない画像を撮像できる。
図9Bに示すように、OFDトランジスタ104は、光電変換部101の端部に沿って配されている。
図10において、時刻t1からt2は、OFDトランジスタ104がオンすることによって、光電変換部101の電荷をリセットする期間である。この期間に、OFDトランジスタ104のゲート電極には所定の電位VofHHが印加される。
時刻t2からt3は、光電変換部101に電荷が蓄積される蓄積期間である。この期間に、OFDトランジスタ104のゲート電極は、所定の電位VofHに設定される。ここで、VofHは、VofHHよりも低い電位であって、隣接画素への混色を抑制するための適当な電位である。
時刻t3からt4は、GS1401がオンすることで、光電変換部101からメモリ部1402へ電荷が転送される第一の転送期間である。このときGS1401のゲート電位は所定の電位VgsHに設定される。また、OFDトランジスタ104のゲート電位は、第一の転送期間中の少なくとも一部の期間において、所定の電位VofLに設定される。これにより、光電変換部101とOFDトランジスタ104との間に、より大きな逆バイアスが印加され、光電変換部101の空乏化を促進することが可能となり、転送効率を向上させることが出来る。ここで、VgsHはVgsLよりも高い電位であり、VofLはVofHよりも低い電位である。
時刻t5からt8は、SEL107がオンする行選択期間である。時刻t6からt7は、TX103がオンする第二の転送期間であって、メモリ部1402で保持していた電荷をFD102へ転送する。このとき、GS1401は、第二の転送期間中の少なくとも一部の期間において、所定の電位VgsLから所定の電位VgsLLへ遷移する。これにより、メモリ部1402とGS1401との間に、より大きな逆バイアスが印加され、メモリ部1402の空乏化を促進することが可能となり、転送効率を向上させることが出来る。ここで、VgsLは、VgsLLよりも高い電位であって、GS1401と光電変換部101、およびGS1401とメモリ部1402の間の逆バイアスを緩和し、蓄積期間中の光電変換部101およびメモリ部1402の電荷容量を大きく損なわない電位である。
(第8実施形態)
本発明の第8実施形態は、第7実施形態と比較して、2つの画素に対して1つのOFD104が設けられる点が異なる。図11は本実施形態に係る撮像装置の回路図であり、図12Aと図12Bは本実施形態を実現可能な構成の平面図である。図11から図12Bは、いずれも2画素分の構成を示している。
図11に示されるように、複数の画素間において、OFDトランジスタ104が共有化されている。
図12Aは、本実施形態の実現例を示す。図12Aにおいて、第一方向に隣接した画素が、ミラー対称に配置されている。OFDトランジスタ104のゲート電極は、2つの画素の光電変換部101の第二方向に沿った辺にまたがって配されており、2つの画素で共
有されている。OFDトランジスタ104が共有であるため、全く同一の電位が、各画素のOFDトランジスタ104に供給され、第一の転送期間におけるポテンシャル分布がOFDトランジスタ104を中心としてミラー対称に形成される。したがって、各画素におけるGS1401の転送効率ばらつきが抑制され、ざらつきの少ない画像を取得することができる。
図12Bは、本実施形態の他の実現例を示す。図12Bにおいて、第一方向に隣接した画素が、並進対称に配置されている。この例では、OFDトランジスタ104の駆動配線1901が共有化されている。したがって、図12Aと同様、各画素におけるGS1401の転送効率ばらつきが抑制され、ざらつきの少ない画像を取得することができる。
(第9実施形態)
本発明の第9実施形態は、グローバル電子シャッター用のメモリ部を2つ備える撮像装置である。図13から図15はそれぞれ、本実施形態に係る撮像装置の、回路図、平面図、およびタイミング図である。
図13に示されるように、本実施形態に係る撮像措置における画素は、第7実施形態(図9A)の構成に加えて、第三の転送トランジスタ2001と第二のメモリ部2002、および第四の転送トランジスタ2003を有する。ここでは、第二の転送トランジスタ1401をトランジスタGSA1401と称し、第三のトランジスタ2001をトランジスタGSB2001と称する。また、転送トランジスタ103をトランジスタTXA103と称し、第四の転送トランジスタ2003をトランジスタTXB2003と称する。トランジスタGSB2001は、オン状態の時に、光電変換部101から第二のメモリ部2002へ電荷を転送する。トランジスタTXB2003は、オン状態の時に、第二のメモリ部2002からFD102へ電荷を転送する。
図14に示すように、光電変換部101は、トランジスタGSA1401とトランジスタGSB2001、およびOFDトランジスタ104に囲われた構成をとっている。
図15において、時刻t1からt2は、OFDトランジスタ104がオンすることによって、光電変換部101の電荷をリセットする期間である。この期間に、OFDトランジスタ104のゲート電極には所定の電位VofHHが印加される。
時刻t2からt3は、光電変換部101に電荷が蓄積される蓄積期間である。この期間に、OFDトランジスタ104のゲート電極には、所定の電位VofH、およびGS2001には所定の電位Vgs2Lが印加される。ここで、VofHは、VofHHよりも低い電位であって、隣接画素への混色を抑制するための適当な電位である。
時刻t3からt4は、GS1401がオンすることで、光電変換部101からメモリ部1402へ電荷が転送される第一の転送期間である。このとき、OFDトランジスタ104とGS2001はそれぞれ、第一の転送期間中の少なくとも一部の期間において、所定の電位VofL、およびVgs2LLが印加される。これにより、光電変換部101とOFDトランジスタ104、および光電変換部101とGS2001の間に、より大きな逆バイアスが印加され、光電変換部101の空乏化を促進することが可能となり、転送効率を更に向上させることが出来る。ここで、Vgs2LLは、Vgs2Lよりも低い電位である。また、Vgs2Lは、光電変換部101とメモリ部2002の電荷容量を大きく損なわない適当な電位である。
時刻t5からt6は、GS2001がオンすることで、光電変換部101からメモリ部2002へ電荷が転送される第二の転送期間である。このとき、OFDトランジスタ10
4とGS1401はそれぞれ、第二の転送期間中の少なくとも一部の期間において、所定の電位VofL、およびVgsLLが印加され、第一の転送期間と同様、転送効率を向上させることが可能となる。
(第10実施形態)
本発明の第10実施形態は、1つの画素内に第9実施形態の構成を二重に備える撮像装置である。図16と図17はそれぞれ、本実施形態に係る撮像装置の回路図および平面模式図である。
図16に示されるように、本実施形態においては、1つの画素内において、2つの光電変換部2301Aと2301B、および2つのFD2308Aと2308Bを有する。また、光電変換部2301Aに生じた信号電荷をメモリ部2304Aと2305Aへ転送する転送トランジスタ2302Aと2303Aを有する。同様に、光電変換部2301Bに生じた信号電荷をメモリ部2304Bと2305Bへ転送する転送トランジスタ2302Bと2303Bを有する。さらに、メモリ部2304Aと2305AからFD2308Aへ電荷を転送する転送トランジスタ2306Aと2307Aを有する。同様に、メモリ部2304Bと2305BからFD2308Bへ電荷を転送する転送トランジスタ2306Bと2307Bを有する。
図17において、FD2308Aは、第一導電型の拡散層2401Aと2402Aから構成される。同様に、FD2308Bは、第一導電型の拡散層2401Bと2402Bから構成される。ここで、第一のFD2308Aと第二のFD2308Bは、それぞれ独立のノードであるとしたが、共有化されていても良い。さらには、拡散層2401Aと2402A、拡散層2401Bと2402Bがそれぞれ共有であるとしたが、拡散層2401A、2402A、2401B、2402Bの内、共有となる組み合わせは本実施形態の限りではない。例えば、拡散層2401Aと2401B、および拡散層2402Aと2402Bがそれぞれ共有であっても良い。
本実施形態における画素の駆動タイミングは、第9の実施形態(図15)と同様であるため説明を省略する。
本実施形態の構成によれば、撮像用の信号電荷に加えて、撮像以外の用途に用いる信号電荷を蓄積することができる。撮像以外の信号とは、例えば、位相差検出方式による焦点検出用の信号、距離測定のための信号、異なる波長域の光を光電変換した信号等である。
(第11実施形態)
本発明の第11実施形態による撮像システムについて、図18を用いて説明する。図18は、本実施形態による撮像システムの概略構成を示すブロック図である。
上記第1乃至第10実施形態で述べた撮像装置は、種々の撮像システムに適用可能である。適用可能な撮像システムとしては、特に限定されるものではないが、例えば、デジタルスチルカメラ、デジタルカムコーダ、監視カメラ、複写機、ファックス、携帯電話、車載カメラ、観測衛星、医療用カメラなどの各種の機器が挙げられる。また、レンズなどの光学系と撮像装置(光電変換装置)とを備えるカメラモジュールも、撮像システムに含まれる。図18にはこれらのうちの一例として、デジタルスチルカメラのブロック図を例示している。
撮像システム500は、図18に示すように、撮像装置100、撮像光学系502、CPU510、レンズ制御部512、撮像装置制御部514、画像処理部516、絞りシャッター制御部518、表示部520、操作スイッチ522、記録媒体524を備える。
撮像光学系502は、被写体の光学像を形成するための光学系であり、レンズ群、絞り504等を含む。絞り504は、その開口径を調節することで撮影時の光量調節を行なう機能を備えるほか、静止画撮影時には露光秒時調節用シャッターとしての機能も備える。レンズ群及び絞り504は、光軸方向に沿って進退可能に保持されており、これらの連動した動作によって変倍機能(ズーム機能)や焦点調節機能を実現する。撮像光学系502は、撮像システムに一体化されていてもよいし、撮像システムへの装着が可能な撮像レンズでもよい。
撮像光学系502の像空間には、その撮像面が位置するように撮像装置100が配置されている。撮像装置100は、第1乃至第10実施形態で説明した撮像装置であり、CMOSセンサ(画素部)とその周辺回路(周辺回路領域)とを含んで構成される。撮像装置100は、複数の光電変換部を有する画素が2次元配置され、これらの画素に対してカラーフィルタが配置されることで、2次元単板カラーセンサを構成している。撮像装置100は、撮像光学系502により結像された被写体像を光電変換し、画像信号や焦点検出信号として出力する。
レンズ制御部512は、撮像光学系502のレンズ群の進退駆動を制御して変倍操作や焦点調節を行うためのものであり、その機能を実現するように構成された回路や処理装置により構成されている。絞りシャッター制御部518は、絞り504の開口径を変化して(絞り値を可変として)撮影光量を調節するためのものであり、その機能を実現するように構成された回路や処理装置により構成される。
CPU510は、カメラ本体の種々の制御を司るカメラ内の制御装置であり、演算部、ROM、RAM、A/Dコンバータ、D/Aコンバータ、通信インターフェイス回路等を含む。CPU510は、ROM等に記憶されたコンピュータプログラムに従ってカメラ内の各部の動作を制御し、撮像光学系502の焦点状態の検出(焦点検出)を含むAF、撮像、画像処理、記録等の一連の撮影動作を実行する。CPU510は、信号処理部でもある。
撮像装置制御部514は、撮像装置100の動作を制御するとともに、撮像装置100から出力された信号をA/D変換してCPU510に送信するためのものであり、それら機能を実現するように構成された回路や制御装置により構成される。A/D変換機能は、撮像装置100が備えていてもかまわない。画像処理部516は、A/D変換された信号に対してγ変換やカラー補間等の画像処理を行って画像信号を生成する処理装置であり、その機能を実現するように構成された回路や制御装置により構成される。表示部520は、液晶表示装置(LCD)等の表示装置であり、カメラの撮影モードに関する情報、撮影前のプレビュー画像、撮影後の確認用画像、焦点検出時の合焦状態等を表示する。操作スイッチ522は、電源スイッチ、レリーズ(撮影トリガ)スイッチ、ズーム操作スイッチ、撮影モード選択スイッチ等で構成される。記録媒体524は、撮影済み画像等を記録するためのものであり、撮像システムに内蔵されたものでもよいし、メモリカード等の着脱可能なものでもよい。
このようにして、第1乃至第10実施形態による撮像装置100を適用した撮像システム500を構成することにより、高性能の撮像システムを実現することができる。
(第12実施形態)
本発明の第12実施形態による撮像システム及び移動体について、図19A及び図19Bを用いて説明する。図19A及び図19Bは、本実施形態による撮像システム及び移動体の構成を示す図である。
図19Aは、車載カメラに関する撮像システム400の一例を示したものである。撮像システム400は、撮像装置410を有する。撮像装置410は、上述の第1乃至第10実施形態に記載の撮像装置のいずれかである。撮像システム400は、撮像装置410により取得された複数の画像データに対し、画像処理を行う処理装置である画像処理部412と、撮像装置410により取得された複数の画像データから視差(視差画像の位相差)の算出を行う処理装置である視差取得部414を有する。また、撮像システム400は、算出された視差に基づいて対象物までの距離を算出する処理装置である距離取得部416と、算出された距離に基づいて衝突可能性があるか否かを判定する処理装置である衝突判定部418と、を有する。ここで、視差取得部414や距離取得部416は、対象物までの距離情報等の情報を取得する情報取得手段の一例である。すなわち、距離情報とは、視差、デフォーカス量、対象物までの距離等に関する情報である。衝突判定部418はこれらの距離情報のいずれかを用いて、衝突可能性を判定してもよい。上述の処理装置は、専用に設計されたハードウェアによって実現されてもよいし、ソフトウェアモジュールに基づいて演算を行う汎用のハードウェアによって実現されてもよい。また、処理装置はFPGA(Field Programmable Gate Array)、ASIC(Application Specific Integrated
Circuit)等によって実現されてもよいし、これらの組合せによって実現されてもよい。
撮像システム400は、車両情報取得装置420と接続されており、車速、ヨーレート、舵角などの車両情報を取得することができる。また、撮像システム400は、衝突判定部418での判定結果に基づいて、車両に対して制動力を発生させる制御信号を出力する制御装置である制御ECU430が接続されている。すなわち、制御ECU430は、距離情報に基づいて移動体を制御する移動体制御手段の一例である。また、撮像システム400は、衝突判定部418での判定結果に基づいて、ドライバーへ警報を発する警報装置440とも接続されている。例えば、衝突判定部418の判定結果として衝突可能性が高い場合、制御ECU430はブレーキをかける、アクセルを戻す、エンジン出力を抑制するなどして衝突を回避、被害を軽減する車両制御を行う。警報装置440は音等の警報を鳴らす、カーナビゲーションシステムなどの画面に警報情報を表示する、シートベルトやステアリングに振動を与えるなどしてユーザに警告を行う。
本実施形態では、車両の周囲、例えば前方又は後方を撮像システム400で撮像する。図19Bに、車両前方(撮像範囲450)を撮像する場合の撮像システム400を示した。車両情報取得装置420は、撮像システム400を動作させ撮像を実行させるように指示を送る。上述の第1乃至第10実施形態の撮像装置を撮像装置410として用いることにより、本実施形態の撮像システム400は、測距の精度をより向上させることができる。
以上の説明では、他の車両と衝突しないように制御する例を述べたが、他の車両に追従して自動運転する制御、車線からはみ出さないように自動運転する制御等にも適用可能である。更に、撮像システムは、自動車等の車両に限らず、例えば、船舶、航空機あるいは産業用ロボットなどの移動体(輸送機器)に適用することができる。移動体(輸送機器)における移動装置はエンジン、モーター、車輪、プロペラなどの各種の駆動源である。加えて、移動体に限らず、高度道路交通システム(ITS)等、広く物体認識を利用する機器に適用することができる。
(その他の実施形態)
撮像装置は、画素が設けられた第1半導体チップと、読み出し回路(増幅器)が設けられた第2半導体チップとを積層した構造(チップ積層構造)を有していてもよい。第2半導体チップにおける読み出し回路(増幅器)は、それぞれ、第1半導体チップの画素列に対応した列回路とすることができる。また、第2半導体チップにおける読み出し回路(増
幅器)は、それぞれ、第1半導体チップの画素あるいは画素ブロックに対応したマトリックス回路とすることもできる。第1半導体チップと第2半導体チップとの接続は貫通電極(TSV)、銅(Cu)等の金属の直接接合によるチップ間配線、チップ間のマイクロバンプによる接続などを採用することができる。
101 光電変換部
103 転送トランジスタ
104 オーバーフロードレイントランジスタ

Claims (13)

  1. 光電変換によって生じた電荷を蓄積する光電変換部と、
    前記光電変換部に蓄積された電荷を転送する転送トランジスタと、
    前記光電変換部をオーバーフロードレインに接続するオーバーフロートランジスタと、
    をそれぞれ有する複数の画素を備える撮像装置であって、
    前記光電変換部に電荷を蓄積する蓄積期間中に、前記オーバーフロートランジスタのゲート電位は電位VofHに設定され、
    前記転送トランジスタによって前記光電変換部から電荷を転送する転送期間中の少なくとも一部の期間において、前記オーバーフロートランジスタのゲート電位は、前記電位VofHよりも低い電位VofLに設定される、
    撮像装置。
  2. 前記複数の画素のそれぞれは、電荷に基づく信号を出力する増幅部を、さらに備え、
    前記転送トランジスタは、前記光電変換部に蓄積された電荷を前記増幅部に転送するトランジスタである
    請求項1に記載の撮像装置。
  3. 前記オーバーフロートランジスタのゲート電極の少なくとも一部が、前記光電変換部の第一の辺と、前記第一の辺に接続する第二の辺の少なくとも一部とにわたって配置される、
    請求項2に記載の撮像装置。
  4. 前記オーバーフロートランジスタのゲート電位は、前記蓄積期間中に、前記電位VofHと、前記電位VofHよりも高い電位VofHHとに設定される、
    請求項2または3に記載の撮像装置。
  5. 前記光電変換部は、第一の光電変換部と第二の光電変換部とを含み、
    前記転送トランジスタは、前記第一の光電変換部に蓄積された電荷を前記増幅部に転送するトランジスタTXAと、前記第二の光電変換部に蓄積された電荷を前記増幅部に転送するトランジスタTXBと、を含み、
    前記オーバーフロートランジスタのゲート電極は、前記第一の光電変換部と前記第二の光電変換部のいずれか一方または両方に接続され、
    前記オーバーフロートランジスタのゲート電位は、前記オーバーフロートランジスタのゲート電極が接続された光電変換部の電荷を前記増幅部に転送する転送期間の少なくとも一部の期間において、前記電位VofLに設定される、
    請求項2から4のいずれか1項に記載の撮像装置。
  6. 前記複数の画素のそれぞれは、
    光電変換によって生じた電荷を蓄積する光電変換部と、
    電荷を保持する電荷保持部と、
    電荷に基づく信号を出力する増幅部と、
    前記光電変換部に蓄積された電荷を前記電荷保持部に転送する第一の転送トランジスタと、
    前記電荷保持部に保持された電荷を前記増幅部に転送する第二の転送トランジスタと、
    を備え、
    前記光電変換部に蓄積された電荷を転送する前記転送トランジスタは、前記第一の転送トランジスタである、
    請求項1に記載の撮像装置。
  7. 前記オーバーフロートランジスタのゲート電位は、前記蓄積期間中に、前記電位VofHと、前記電位VofHよりも高い電位VofHHとに設定される、
    請求項6に記載の撮像装置。
  8. 前記第一の転送トランジスタのゲート電位は、VgsH、VgsL、VgsLL(VgsH>VgsL>VgsLL)の少なくとも3つの電位をとり、
    前記蓄積期間中に、前記第一の転送トランジスタのゲート電位は電位VgsLに設定され、
    前記光電変換部から前記電荷保持部に電荷を転送する転送期間中に、前記第一の転送トランジスタのゲート電位は電位VgsHに設定され、
    前記電荷保持部から前記増幅部に電荷を転送する転送期間の少なくとも一部の期間において、前記第一の転送トランジスタのゲート電位は電位VgsLLに設定される、
    請求項6または7に記載の撮像装置。
  9. 2つの画素が1つのオーバーフロートランジスタを共有する、
    請求項6から8のいずれか1項に記載の撮像装置。
  10. 前記電荷保持部は、第一の電荷保持部と第二の電荷保持部とを含み、
    前記第一の転送トランジスタは、前記光電変換部に蓄積された電荷を前記第一の電荷保持部に転送するトランジスタGSAと、前記光電変換部に蓄積された電荷を前記第二の電荷保持部に転送するトランジスタGSBとを含み、
    前記トランジスタGSAによって前記光電変換部から前記第一の電荷保持部に電荷を転送する転送期間中の少なくとも一部の期間と、前記トランジスタGSBによって前記光電変換部から前記第二の電荷保持部に電荷を転送する転送期間中の少なくとも一部の期間とにおいて、前記オーバーフロートランジスタのゲート電位は前記電位VofLに設定される、
    請求項6から9のいずれか1項に記載の撮像装置。
  11. 前記トランジスタGSAによって前記光電変換部から前記第一の電荷保持部に電荷を転送する転送期間中の少なくとも一部の期間において、前記トランジスタGSBの電位は、前記蓄積期間における電位よりも高い電位に設定され、
    前記トランジスタGSBによって前記光電変換部から前記第二の電荷保持部に電荷を転送する転送期間中の少なくとも一部の期間において、前記トランジスタGSAの電位は、前記蓄積期間における電位よりも高い電位に設定される、
    請求項10に記載の撮像装置。
    撮像装置。
  12. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の撮像装置と、
    前記撮像装置から出力される信号を処理する信号処理部と、
    を有することを特徴とする撮像システム。
  13. 移動体であって、
    請求項1〜11のいずれか1項に記載の撮像装置と、
    移動装置と、
    前記撮像装置から出力される信号から情報を取得する処理装置と、
    前記情報に基づいて前記移動装置を制御する制御装置と、
    を有することを特徴とする移動体。
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