JP2019144217A - 膜厚測定装置、これを用いた蒸着装置及び膜特性評価装置 - Google Patents

膜厚測定装置、これを用いた蒸着装置及び膜特性評価装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2019144217A
JP2019144217A JP2018042400A JP2018042400A JP2019144217A JP 2019144217 A JP2019144217 A JP 2019144217A JP 2018042400 A JP2018042400 A JP 2018042400A JP 2018042400 A JP2018042400 A JP 2018042400A JP 2019144217 A JP2019144217 A JP 2019144217A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
film
film thickness
reflectance
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2018042400A
Other languages
English (en)
Inventor
達雄 椎名
Tatsuo Shiina
達雄 椎名
源二郎 松木
Genjiro Matsuki
源二郎 松木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jochako Kk
Chiba University NUC
Original Assignee
Jochako Kk
Chiba University NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jochako Kk, Chiba University NUC filed Critical Jochako Kk
Priority to JP2018042400A priority Critical patent/JP2019144217A/ja
Publication of JP2019144217A publication Critical patent/JP2019144217A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

【課題】ランプの光をコリメートするため、照射装置が大きく、また消費電力が大きい。ランプのためにスイッチを入れてからしばらく待たないと計測値が安定しない等の課題があった。【解決手段】膜厚測定装置を、赤色光、緑色光、青色光、紫外光のうち少なくとも2種類の光を出力する光出力装置と、前記光出力装置から出力された光が、膜が形成された試料から反射した反射光の強度を測定する光強度測定部と、膜厚に対する反射率の特性を記録する反射率特性情報記録部と、前記光強度測定部により測定した反射光強度及び前記反射率特性情報記録部に記録された反射率特性情報に基づき前記試料に形成された膜の膜厚を算出する膜厚算出部を備えるものとした。【選択図】図1

Description

本発明は、膜厚測定装置及びこれを用いた蒸着装置に関するものである。
従来の膜厚測定装置においては、タングステンランプ等による広帯域光源による発光スペクトルによる成膜試料の透過効率で成膜厚みを推定していた。また、温度や水蒸気による影響の見積もり等は、経験に頼った推定を行っていた。
非特許文献1には、光源にタングステンランプを用いた光干渉膜厚計が記載されている。
株式会社チノー、光干渉式膜厚計 IRMS8599B URL:http://www.chino.co.jp/products/meters/irms8599b.html
従来技術では、ランプの光をコリメートするため、照射装置が大きく、また消費電力が大きい。ランプのためにスイッチを入れてからしばらく待たないと計測値が安定しない等の課題があった。また、温度や水蒸気による影響の見積もり等は経験に頼った推定を行っていた。
上記の課題を解決するために、本発明の一つの態様によれば、膜厚測定装置を、赤色光、緑色光、青色光、紫外光のうち少なくとも2種類の光を出力する光出力装置と、光出力装置から出力された光が、膜が形成された試料から反射した反射光の強度を測定する光強度測定部と、膜厚に対する反射率の特性を記録する反射率特性情報記録部と、光強度測定部により測定した反射光強度及び反射率特性情報記録部に記録された反射率特性情報に基づき試料に形成された膜の膜厚を算出する膜厚算出部を備えるものとした。
また、本発明の別の態様によれば、膜厚測定装置を、赤色光、緑色光、青色光、紫外光のうち少なくとも2種類の光を出力する光出力装置と、光出力装置から出力された光が膜が形成された試料から反射した反射光の強度及び光出力装置から出力された光が試料を透過した透過光の強度を測定する光強度測定部と、膜厚に対する反射率及び透過率の特性を記録する特性情報記録部と、光強度測定部により測定した反射光強度及び透過光強度並びに特性情報記録部に記録された透過光特性情報及び反射率特性情報に基づき試料に形成された膜の膜厚を算出する膜厚算出部を備えるものとした。
また、本発明の他の態様によれば、膜厚測定装置を、赤色光、緑色光、青色光、紫外光を出力する光出力装置と、光出力装置から出力された光が、膜が形成された試料から反射した反射光の強度を測定する光強度測定部と、膜厚に対する反射率の特性を記録する反射率特性情報記録部と、光強度測定部により測定した反射光強度及び反射率特性情報記録部に記録された反射率特性情報に基づき試料に形成された膜の膜厚を算出する膜厚算出部を備えるものとした。
また、本発明の他の態様によれば、基板の表面に蒸着により膜を形成する膜形成部と、赤色光、緑色光、青色光、紫外光のうち少なくとも2種類の光を出力する光出力装置と、前記光出力装置から出力された光が、膜が形成された試料から反射した反射光の強度を測定する光強度測定部と、膜厚に対する反射率の特性を記録する反射率特性情報記録部と、前記光強度測定部により測定した反射光強度及び前記反射率特性情報記録部に記録された反射率特性情報に基づき前記試料に形成された膜の膜厚を算出する膜厚算出部を備えるものとした。前記膜厚算出部により算出された基板に形成された膜の膜厚に基づき、前記膜形成部を制御すると望ましい。
また、本発明の他の態様によれば、膜特性評価装置を、膜が形成された基板の透過光強度及び反射光強度を測定する光強度測定部と、膜が形成された基板の反射率の計算値及び透過率の計算値を記録する反射率・透過率情報記録部と、光強度測定部が測定した基板の透過光強度及び反射光強度、前記反射率・透過率情報記録部が記録した基板の反射率の計算値及び透過率の計算値に基づいて基板に形成された膜の特性情報を算出する膜特性算出部とを備えるものとした。さらに、膜特性評価部は、膜の膜厚、屈折率又は吸収率を算出するものとすると望ましい。
本発明によれば、膜厚測定装置及びこれを用いた蒸着装置において、照射装置の小型化、膜厚測定値の安定化を実現することができる。
実施例1の膜厚測定装置の測定原理を示す図である。 実施例1の光強度測定原理を示す図である。 膜厚を変化させた場合の、波長に対する反射率の理論値を示す図である。 実施例2の蒸着装置を示す図である。 計測波形とFFT解析を示す図である。 実施例2における膜厚測定部の概略を示す図である。 実施例3の概念を示す図である。 石英基板の上にZnOの膜を成膜した場合の、波長に対する反射率、透過率の計算値を示す図である。 石英基板の上にAlの膜を成膜した場合の、波長に対する反射率、透過率の計算値を示す図である。
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明の実施形態は以下の実施例に限定されるものではなく、以下の実施例を適宜変形して実施することが可能である。
図1は、実施例1の膜厚測定装置の膜厚測定原理を示す図である。光出力装置(光源ともいう。図示せず。)は、電源1、変調器2、ドライバ3を有している。光出力装置から、赤色光4、緑色光5、青色光6、紫外光(UV光)7が照射される。赤色光4、緑色光5、青色光6は、レーザーであることが望ましい。各光の波長は、概ね赤色光が620nm〜750nm、緑色光が495nm〜570nm、青色光が380nm〜495nm、紫外光が200nm〜380nmである。光出力装置は、各色毎に別々に有していても良いし、波長変換器付きのレーザー光源を用いて、波長を変換して各色光を出力しても良い。
81、82,83は、ダイクロイックフィルタである。ダイクロイックフィルタ81は、赤色光は透過するが緑色光以下は反射し、ダイクロイックフィルタ82は、赤色光と緑色光は透過するが青色光以下は反射し、ダイクロイックフィルタ83は、赤色光と緑色光と青色光は透過するが、紫外光は反射する性質をもつ。赤色光4、緑色光5、青色光6、紫外光7が表面に膜が形成された試料10に入射される。そして、試料10を透過した透過光及び反射光の強度を、光強度測定器9で測定する。光強度測定器9で測定した透過光、反射光強度にが、波形処理部11、A/D変換部12の処理を経てPC13に入力される。PC13に入力された透過光強度、反射光強度の情報に基づき、各色毎の透過率、反射率および吸収率が算出される。各色毎の透過率、反射率に基づき、膜厚が算出される。
図2は、本実施例による光強度測定の原理を示す図である。赤色光4、緑色光5、青色光6、紫外光7が、ハーフミラー14により反射され、出力参照用光強度測定器91に入射し、出力光(参照光)の強度を測定する。ハーフミラー14はガラスでもよく、光が少量でも反射されれば、それを出力参照用に使用する。表面に膜が形成された試料10を透過した光4、5、6、7の透過光は、透過光用光強度測定器92に入射し、透過光用光強度測定器によって透過光の強度が測定される。
試料10から反射された反射光が、反射光用光強度測定器92に入射し、反射光用光強度測定器92によって、反射光の光強度が測定される。
透過光強度と反射光強度、ならびに参照光強度を用いて吸収率が算出できる。
図3は、膜厚を変化させた場合の反射率特性の理論値である。膜厚を20nmから160nmに変化させた場合、図3のように反射率特性が変化する。前記のとおり、測定した各色毎の反射率の値から、反射率特性を算出又は推定することができる。算出した反射率特性と、図3の反射率の理論値を比較することにより、試料表面に形成された膜厚を推定又は測定することができる。反射率の理論値を用いずに、実験結果等から膜厚毎の反射率特性、透過率特性を用意しても良い。図8、図9のように実際の成膜過程では波長に依存した極値変化が生じる。この各波長の強度変化を元に吸収率を計算できる。
本実施例は、実施例1の膜厚測定装置を真空蒸着装置に応用した実施例である。20が蒸発器、21がシャッター、22が水晶式膜厚計、23が基板ホルダー、24がヒーター、25が光学式膜厚計、26が光学式膜厚計測用モニターガラス、27が基板である。
蒸発器20により基板27に蒸着によって膜が形成される。成膜された基板27の成膜部に赤色光、緑色光、青色光、紫外光を照射し、光学式膜厚計25により、各色の透過光、反射光、参照光の強度を測定する。光源には、LD(レーザダイオード)又はLEDを用いる。4波長には、それぞれ個別の変調周波数を持たせ、PD(光強度測定器)で受光後に高速フーリエ変換(FFT)で各波長成分に分離する。FFTで解析した結果を図5に示す。測定した透過光、反射光強度から、透過率特性、反射率特性を算出し、実施例1で示したように、理論計算との比較によって、膜厚を推定、算出する。時間変化を測定することで膜厚の変化を予測すると望ましい。また、温度変化、屈折率の変化を考慮し、それらに対する膜厚への影響を予測すると望ましい。
図6は、本実施例における試料の膜厚測定部の概略を示す図である。入射光31は、ミラー39に反射され、下の窓38を通過して蒸着装置36の中に入射する。ハーフミラーから40から反射された光32は参照光として利用される。蒸着装置36内に入射した光は、試料35に入射し、試料35を透過した透過光は、上の窓37から蒸着装置36の外部に出ていき、光強度測定器により測定される。他方、試料35から反射された反射光34は、下の窓38を通過して蒸着装置の外部に出ていき、光強度測定器により測定される。
本実施例では、赤、緑、青色のレーザ光、並びに200nmから380nmのスペクトル範囲のUV−LED光をコリメートして真空蒸着装置内に落射し、蒸着によって基盤材に成膜される光学膜の厚みを透過光、反射光並びに光源のモニター光によって測定する。透過率、反射率の成膜過程での変化をモニタすることで、膜厚の推定を行う。
温度、湿度に対する屈折率変化を加味した理論値との比較によって、成膜厚みの補正を行い、実際の膜厚測定にフィードバックする。
計測する項目は膜厚が第1目的であるが、温度に依存して屈折率が異なる。屈折率が異なると膜厚の推定に誤差が含まれるため、その影響を加味して膜厚の推定を行うと望ましい。
本実施例によれば、従来の膜厚測定装置及びこれを用いた蒸着装置よりも、照射装置を小型化でき、また、消費電力を小さくすることができる。また、膜厚の計測値を安定させることができる。
図7に、本発明の実施例3の概念図を示す。光強度測定部71が測定した成膜した基板の透過光及び反射光の光強度及び反射率・透過率特性情報記録部71が記録した反射率情報及び透過率情報に基づいて、多層膜総合特性算出部73が、多層膜総合特性を算出する。多層膜総合特性算出部において、膜厚算出部731が形成膜の膜厚を、屈折率算出部732が、形成膜の屈折率を、吸収率算出部733が、形成膜の吸収率を算出する。
反射率特性・透過率情報記録部71が記録する反射率特性及び透過率情報の例を図8、図9に示す。図8は、石英基板の上にZnOの膜を成膜した場合の、波長に対する反射率、透過率の計算値を示す図である。図8において、実線RHが反射率を示し、点線THが透過率を示す。図9は、石英基板の上にAlの膜を成膜した場合の、波長に対する反射率、透過率の計算値を示す図である。図9において、実線RHが反射率を示し、点線THが透過率を示す。
本発明は、膜厚測定装置、これを用いた蒸着装置及び膜特性評価装置として産業上利用が可能である。
1 電源
2 変調器
3 ドライバ
4 赤色光
5 緑色光
6 青色光
7 紫外光
81、82、83 ダイクロイックフィルタ
9 光強度測定器
10 試料
11 波形処理部
12 A/D変換器
13 PC
71 光強度測定部
72 反射率・透過率特性情報記録部
73 多層膜総合特性算出部
731 膜厚算出部
732 屈折率算出部
733 吸収率算出部

Claims (7)

  1. 赤色光、緑色光、青色光、紫外光のうち少なくとも2種類の光を出力する光出力装置と、前記光出力装置から出力された光が、膜が形成された試料から反射した反射光の強度を測定する光強度測定部と、膜厚に対する反射率の特性を記録する反射率特性情報記録部と、前記光強度測定部により測定した反射光強度及び前記反射率特性情報記録部に記録された反射率特性情報に基づき前記試料に形成された膜の膜厚を算出する膜厚算出部を備える膜厚測定装置。
  2. 赤色光、緑色光、青色光、紫外光のうち少なくとも2種類の光を出力する光出力装置と、前記光出力装置から出力された光が膜が形成された試料から反射した反射光の強度及び前記光出力装置から出力された光が前記試料を透過した透過光の強度を測定する光強度測定部と、膜厚に対する反射率及び透過率の特性を記録する特性情報記録部と、前記光強度測定部により測定した前記反射光強度及び前記透過光強度並びに前記特性情報記録部に記録された前記透過光特性情報及び前記反射率特性情報に基づき前記試料に形成された膜の膜厚を算出する膜厚算出部を備える膜厚測定装置。
  3. 赤色光、緑色光、青色光、紫外光を出力する光出力装置と、前記光出力装置から出力された光が、膜が形成された試料から反射した反射光の強度を測定する光強度測定部と、膜厚に対する反射率の特性を記録する反射率特性情報記録部と、前記光強度測定部により測定した反射光強度及び前記反射率特性情報記録部に記録された反射率特性情報に基づき前記試料に形成された膜の膜厚を算出する膜厚算出部を備える膜厚測定装置。
  4. 基板の表面に蒸着により膜を形成する膜形成部と、赤色光、緑色光、青色光、紫外光のうち少なくとも2種類の光を出力する光出力装置と、前記光出力装置から出力された光が、膜が形成された試料から反射した反射光の強度を測定する光強度測定部と、膜厚に対する反射率の特性を記録する反射率特性情報記録部と、前記光強度測定部により測定した反射光強度及び前記反射率特性情報記録部に記録された反射率特性情報に基づき前記試料に形成された膜の膜厚を算出する膜厚算出部を備える蒸着装置。
  5. 前記膜厚算出部により算出された基板に形成された膜の膜厚に基づき、前記膜形成部を制御することを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。
  6. 膜が形成された基板の透過光強度及び反射光強度を測定する光強度測定部と、膜が形成された基板の反射率の計算値及び透過率の計算値を記録する反射率・透過率情報記録部と、前記光強度測定部が測定した前記基板の透過光強度及び反射光強度、前記反射率・透過率情報記録部が記録した基板の反射率の計算値及び透過率の計算値に基づいて前記基板に形成された膜の特性情報を算出する膜特性算出部とを備える膜特性評価装置。
  7. 前記膜特性評価部は、前記膜の膜厚、屈折率又は吸収率を算出することを特徴とする請求項6に記載の膜特性評価装置。
JP2018042400A 2018-02-20 2018-02-20 膜厚測定装置、これを用いた蒸着装置及び膜特性評価装置 Pending JP2019144217A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018042400A JP2019144217A (ja) 2018-02-20 2018-02-20 膜厚測定装置、これを用いた蒸着装置及び膜特性評価装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018042400A JP2019144217A (ja) 2018-02-20 2018-02-20 膜厚測定装置、これを用いた蒸着装置及び膜特性評価装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2019144217A true JP2019144217A (ja) 2019-08-29

Family

ID=67772234

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018042400A Pending JP2019144217A (ja) 2018-02-20 2018-02-20 膜厚測定装置、これを用いた蒸着装置及び膜特性評価装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2019144217A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021161986A1 (ja) * 2020-02-13 2021-08-19 浜松ホトニクス株式会社 膜厚測定装置及び膜厚測定方法

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58162805A (ja) * 1982-03-23 1983-09-27 Hitachi Ltd 光学的蒸着膜厚モニタ−方法
JPH11153416A (ja) * 1997-11-21 1999-06-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 膜厚測定装置および膜厚測定方法
JP2001165628A (ja) * 1999-12-13 2001-06-22 Sharp Corp 膜厚測定装置
JP2002081910A (ja) * 2000-09-08 2002-03-22 Omron Corp 膜厚測定方法およびその方法を用いた膜厚センサ
JP2009096638A (ja) * 2007-09-27 2009-05-07 Toshiba Corp 紙葉類厚さ測定装置及び画像形成装置
JP2009250783A (ja) * 2008-04-07 2009-10-29 Sonac Kk 多層薄膜の膜厚測定方法
JP2012026746A (ja) * 2010-07-20 2012-02-09 Yokogawa Electric Corp 多チャンネル測光測定装置
US20120176604A1 (en) * 2010-10-06 2012-07-12 Chalmers Scott A Combining Normal-Incidence Reflectance and Transmittance with Non-Normal-Incidence Reflectance for Model-Free Characterization of Single-Layer Films
WO2013128537A1 (ja) * 2012-02-27 2013-09-06 株式会社シンクロン Led光源装置、膜厚測定装置及び薄膜形成装置
WO2013147038A1 (ja) * 2012-03-28 2013-10-03 横河電機株式会社 物質特性測定装置
WO2014038090A1 (ja) * 2012-09-10 2014-03-13 株式会社シンクロン 測定装置及び成膜装置
DE102015119260A1 (de) * 2015-11-09 2017-05-11 Osram Opto Semiconductors Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Vermessung von Oberflächenstrukturen
JP2017106768A (ja) * 2015-12-08 2017-06-15 国立大学法人静岡大学 厚み測定装置

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58162805A (ja) * 1982-03-23 1983-09-27 Hitachi Ltd 光学的蒸着膜厚モニタ−方法
JPH11153416A (ja) * 1997-11-21 1999-06-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 膜厚測定装置および膜厚測定方法
JP2001165628A (ja) * 1999-12-13 2001-06-22 Sharp Corp 膜厚測定装置
JP2002081910A (ja) * 2000-09-08 2002-03-22 Omron Corp 膜厚測定方法およびその方法を用いた膜厚センサ
JP2009096638A (ja) * 2007-09-27 2009-05-07 Toshiba Corp 紙葉類厚さ測定装置及び画像形成装置
JP2009250783A (ja) * 2008-04-07 2009-10-29 Sonac Kk 多層薄膜の膜厚測定方法
JP2012026746A (ja) * 2010-07-20 2012-02-09 Yokogawa Electric Corp 多チャンネル測光測定装置
US20120176604A1 (en) * 2010-10-06 2012-07-12 Chalmers Scott A Combining Normal-Incidence Reflectance and Transmittance with Non-Normal-Incidence Reflectance for Model-Free Characterization of Single-Layer Films
WO2013128537A1 (ja) * 2012-02-27 2013-09-06 株式会社シンクロン Led光源装置、膜厚測定装置及び薄膜形成装置
WO2013147038A1 (ja) * 2012-03-28 2013-10-03 横河電機株式会社 物質特性測定装置
WO2014038090A1 (ja) * 2012-09-10 2014-03-13 株式会社シンクロン 測定装置及び成膜装置
DE102015119260A1 (de) * 2015-11-09 2017-05-11 Osram Opto Semiconductors Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Vermessung von Oberflächenstrukturen
JP2017106768A (ja) * 2015-12-08 2017-06-15 国立大学法人静岡大学 厚み測定装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
後藤桂三、他6名: ""オンライン・クロム水和酸化物膜厚計の開発"", 鉄と鋼, vol. 70, no. 9, JPN6021051414, 1 July 1984 (1984-07-01), JP, pages 1088 - 1094, ISSN: 0004677532 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021161986A1 (ja) * 2020-02-13 2021-08-19 浜松ホトニクス株式会社 膜厚測定装置及び膜厚測定方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6987914B2 (ja) 変調光源を備える光学計測ツール
US8339617B2 (en) Film thickness measuring device and film thickness measuring method
WO2013147038A1 (ja) 物質特性測定装置
JP4978546B2 (ja) 膜厚測定装置及び方法
US10132787B2 (en) Device for optically determining the concentration of alcohol and carbohydrates in a liquid sample
JP5725584B2 (ja) 半導体層の温度測定方法および温度測定装置
CN105066889A (zh) 一种便携式薄膜测厚仪及其膜厚测量方法
JP2019144217A (ja) 膜厚測定装置、これを用いた蒸着装置及び膜特性評価装置
Serdyukov et al. New features of an FT spectrometer using LED sources
JP5367196B1 (ja) 測定装置及び成膜装置
JP4146111B2 (ja) 膜厚計測方法及び装置
WO2020158506A1 (ja) 濃度測定装置
JP2011252749A (ja) 分光測定装置
US20110206830A1 (en) Reverse interferometric method and apparatus for measuring layer thickness
JP4762801B2 (ja) センサ、センシング装置
JP2014142299A (ja) ガス濃度測定装置
JP2007040981A (ja) ウエハ温度測定方法及びウエハ温度測定装置
JP2003279324A (ja) 膜厚測定方法および膜厚測定装置
KR20110064649A (ko) 백색광 간섭계를 기반으로 하는 굴절률 측정 장치 및 방법
JP5184842B2 (ja) 着色膜厚測定方法及び装置
JP2002318106A (ja) 着色膜の膜厚測定装置、及び着色膜の膜厚測定方法
JP7244900B2 (ja) 反射部材の表裏識別方法
JP3261659B2 (ja) ドライエッチング装置に於けるエッチング監視方法及び装置
WO2021182279A1 (ja) 濃度測定方法および濃度測定装置
WO2004010094A1 (en) Emissivity corrected radiation pyrometer integral with a reflectometer and roughness sensor for remote measuring of true surface temperatures

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180420

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210119

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210331

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20211216

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220106

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20220302

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220418

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220706

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20220819