JP2019121688A - 制振システム及び、その制振システムを備える光学装置 - Google Patents
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Abstract
Description
例えば、特許文献1には、相対変位として、鏡筒と試料との間の水平方向の相対変位が課題とされる電子ビーム描画装置の例が記載される。この電子ビーム描画装置では、鏡筒を制振対象として、試料ステージの移動における加減速により励振された鏡筒の振動を減少させるための制振機構が提案されている。電子ビーム描画装置は、鏡筒と試料との間に水平方向の相対変位が生じると、試料上で電子ビームの到達位置にずれが発生する。
図1は、本発明の一態様に係る制振システム1の概念的な構成例を示す図である。ここでは、制振対象物(以下、被制振体とする)として、基体2の上面に立設される筒形状又は箱状の被制振体3を一例とし、その被制振体3に伝搬された振動により発生する被制振体3の揺れ動き(以下、揺動とする)を制振する制振システムについて説明する。この制振システムにおいて、後述する実施形態では、半導体やフォトマスク原版上に微細パターンを描画する描画装置を一例として説明し、基体2は、試料であるフォトマスクが載せられるステージを収納する試料室であってよく、被制振体は、投影系を収納する鏡筒が適用できる。被制振体3に発生する揺動は、外部から伝搬される振動、及び、図示していないが被制振体自身が搭載する駆動系等による振動に起因する。
前述した圧電素子10は、基材15の貼付領域となる平坦部15aの両主面にそれぞれ1つの圧電体11を貼付した構成であった。これに対して、第1の圧電素子18は、前述した基材15の貼付領域となる平坦部15aの一方の主面のみに1つの圧電体11を配置している。このようなアクチュエータは、伸縮力が小さくなるため、軽量で振動エネルギーが小さい被制振体に好適する。
この第2の圧電素子19は、基材15の貼付領域となる平坦部15aの両方のそれぞれの主面に、複数の圧電体11(11a〜11d)を積層した構造である。図4に示す例では、平坦部15aの一方の主面に、圧電体11a,11cを積層配置し、他方の主面には、圧電体11b,11dを積層配置している。これらの圧電体11a〜11dは、それぞれに前述した電極が形成されたポリイミドフィルムが接合され接合構造であるものとする。尚、圧電体11a〜11dにおいては、それぞれに電源を供給する配線と接続されており、独立して駆動することができる。よって、被制振体3毎の固有な振動や固有な揺れに対して、最適な制振が行われるように、圧電体を選択して駆動させることができる。このような構成により、1つの圧電素子19を種々のタイプの被制振体3に対して汎用的に利用することが可能である。
ここで説明する圧電素子は、複数の圧電体を基材の貼付領域の主面上に、伸縮方向に連設する配置である。具体的には、図5に示すように第3の圧電素子21は、2つの圧電体22,23を基材24の貼付領域となる平坦部24aの主面に、伸縮方向mとなる長手方向に縦列するように配置する。これらの圧電体22,23は、それぞれが前述した通常サイズの圧電体11(図2(a)参照)と同等な圧電体である。
ここで説明する圧電素子は、複数の圧電体を基材の貼付領域の主面上に、伸縮方向に並設する配置である。ここでは、図6に示すように第4の圧電素子25は、2つの圧電体26,27を基材28の貼付領域となる平坦部28aの主面に、伸縮方向mとなる長手方向に対して並列するように配置する。
図7は、第1の変形例のアクチュエータを上から見た外観構成を示す図である。
この第1の変形例のアクチュエータ31は、2つの圧電素子10a,10bを重ねるように並設して固定部13,14と連結する構成である。圧電素子10a,10bは、共に、前述した圧電素子10と同等である。
図8は、第2の変形例のアクチュエータを上から見た外観構成を示す図である。
この第2の変形例のアクチュエータ32は、2つの圧電素子10a,10bを伸縮方向に連なるように連設し、その両外側にそれぞれ固定部13,14を一直線状に連結する構成である。圧電素子10a,10bは、共に、前述した圧電素子10と同等である。
前述した制振システムのアクチュエータ4は、図1に示されるように、被制振体3の側面と基体2の上面との間を斜めに直線的に繋ぐ際に、アクチュエータ4の主面(前述した長い板形状の面積が大きい表裏の面)の面方向が被制振体3の側面と直交又は交差する方向となるように固定されている。
図10は、第3の変形例のアクチュエータ37を側方から見た外観構成を示す図である。図2等の前述したアクチュエータ4は、圧電素子10と固定部13,14が一直線形状に配置される構造であった。これに対して、第3の変形例のアクチュエータ37は、全体的には扇状に湾曲した形状を成している。
次に、図11を参照して、本発明の制振システムを光学装置に適用した第1の実施形態について説明する。図11は、第1の実施形態に係る制振システムを適用した光学装置として、半導体やフォトマスク原版上に微細パターンを描画する電子ビーム描画装置の概念的な構成例を示す図である。本実施形態では、光学装置として電子ビーム描画装置を一例としているが、鏡筒等のチャンバを試料室等の筐体上に立設して構成される装置であれば、同様に制振システムを適用することができる。また、ビームは、電子ビームに限られず、レーザなどの光、X線などの電磁波であってよい。従って、「光学」とは、いわゆる「光」の他に、「電子線」や「電磁波」といったものも含まれることを理解されたい。尚、本実施形態の電子ビーム描画装置に設けられる制振システムにおいて、前述した制御システムと同等の構成部位には、同じ参照符号を付して、その詳細な説明は省略する。
また詳細には示していないが、鏡筒42内には、照明レンズ、アパーチャ、投影レンズ、偏光器及び対物レンズ等で構成される光学系47が搭載されている。この光学系47は、レンズ駆動部52により駆動制御され、電子銃46から出射された電子ビーム55を整形及び偏向し、走査するように試料49に照射し、試料ステージ48の移動を伴って、試料49に所望するパターンを描画する。電子ビーム55が、試料49の狙った位置に正確に照射されることが重要であり、描画されるパターンが微細化すればするほど、鏡筒42内の光学系47と試料との相対変位を抑える必要性が高くなる。
図12(a)は、鏡筒42の第一次モードAの揺動状態を示す図である。
前述したように、電子ビーム描画装置41の鏡筒42内には、照明レンズ、アパーチャ、投影レンズ、偏光器及び対物レンズ等の複数の構成部位からなる光学系47が収容されている。こられの構成部位は、それぞれが互いに異なる重量を有しているため、揺動の際の複数の質点(代表の質点とした101c)になる。この質点101cの存在により、鏡筒42の揺動状態(例えば、揺動幅)によっては、同期して略直線状態101a−101bとなる所謂、第一次モードAの揺動となる。この第一次モードAの揺動においては、図12(a)に示すように、筐体43に立設される鏡筒42の根元側を支点として揺動する。よって、図11に示したように、鏡筒42の上部に設けた電子銃46の上面(頂部)に加速度センサ61(又は歪みセンサ63)を配置することで、最も大きい振れとなる揺動幅を検出することができる。最も大きい揺動幅の揺動を検出することにより、揺動を制振した際に減少する状態を適確に把握することができる。
鏡筒42の揺動状態(例えば、揺動幅)は、前述した複数の質点のうちで、1つの質点102cで屈曲して1つの交点を持つ状態102a−102bとなる所謂、第二次モードBの揺動となる。
鏡筒42の揺動状態(例えば、揺動幅)は、前述した複数の質点のうちで、2つの質点103c,103dでそれぞれ屈曲した状態103a−103bとなる所謂、第三次モードCの揺動となる。
Claims (11)
- 基体の上面に立設される被制振体に伝搬された振動により発生する前記被制振体の揺動を制振する制振システムであって、
前記被制振体を中心とする少なくとも三方において前記被制振体の側面と前記基体の上面との間を繋ぎ、伸縮する圧電体を有するアクチュエータと、
前記圧電体を伸縮させる駆動電圧を供給する駆動電源と、
前記被制振体の揺動幅及び揺動方向を検出する揺動検出部と、
前記揺動検出部により検出された前記揺動幅及び前記揺動方向に基づき、前記アクチュエータの前記圧電体に対して前記被制振体が離反する揺動時に収縮させて、前記被制振体が接近する揺動時に伸長させて前記被制振体の揺動を抑止させるために前記駆動電源の出力を制御する制御部と、
を具備する制振システム。 - 前記アクチュエータは、
弾性変形可能な平板状の基材と、
前記基材の少なくとも一方の主面上の中央に前記圧電体が貼付され、前記基材の両端には支持部材が配置されて構成される圧電素子と、
少なくとも1つの前記圧電素子の両側の前記支持部材に設けられ、前記被制振体の側面と前記基体の上面に固定する固定部材とで構成される、請求項1に記載の制振システム。 - 前記アクチュエータは、前記被制振体の側面のそれぞれの箇所から前記基体の上面に斜方向に延びて、前記被制振体の側面と前記基体の上面との間をそれぞれ直線的に繋ぎ、前記圧電体は前記直線の方向に沿って伸縮する、請求項1に記載の制振システム。
- 前記アクチュエータは、
弾性変形可能な平板状の基材の少なくとも一方の主面上に、複数の前記圧電体が並設又は連設して貼付され、前記基材の両端には支持部材が配置されて構成される圧電素子と、
少なくとも1つの前記圧電素子の両側の前記支持部材に設けられ、前記被制振体の側面と前記被制振体の上面に固定する固定部材とで構成される、請求項1に記載の制振システム。 - 前記アクチュエータは、
両端に設けられた前記固定部材に対して、複数の前記圧電素子が並設又は連設するように配置されている、請求項2に記載の制振システム。 - 前記アクチュエータが固定される前記被制振体の側面の位置は、前記被制振体の揺動における揺動幅が最も大きい位置である、請求項1に記載の制振システム。
- 内部に移動可能なステージを収容する筐体上に立設される鏡筒を備える光学装置に設けられ、前記ステージの移動に伴い生じた振動により、前記鏡筒に発生する揺動を制振する制振システムを搭載する光学装置であって、
前記制振システムは、
前記鏡筒を中心とする少なくとも三方における前記鏡筒の側面の箇所から前記筐体の上面に延びて、前記鏡筒の側面と前記筐体の上面との間をそれぞれ繋ぎ、伸縮する圧電体を有するアクチュエータと、
前記圧電体を伸縮する駆動電圧を供給する駆動電源と、
前記鏡筒の揺動幅及び揺動方向を含む揺動状態を検出する揺動検出部と、
前記揺動検出部により検出された前記揺動幅が所定値以下となるように、前記アクチュエータに対して前記鏡筒が離反する揺動時に収縮し、前記鏡筒が接近する揺動時に伸長させて、前記鏡筒の揺動を抑止させるために前記駆動電源の出力を制御する制御部と、
を具備する制振システムを搭載する光学装置。 - 前記揺動検出部は、前記鏡筒の揺動幅及び揺動方向を含む揺動状態を、互いに直交する2軸方向又は3軸方向のいずれかにおける加速度として検出する加速度検出部であり、
前記アクチュエータが前記加速度検出部により検出された前記加速度が所定値以下となるように伸縮する、請求項7に記載の制振システムを搭載する光学装置。 - 前記揺動検出部は、前記鏡筒の揺動幅及び揺動方向を含む揺動状態を歪み量として検出する歪み検出部であり、
前記アクチュエータが前記歪み検出部により検出された前記歪み量が所定値以下となるように伸縮する、請求項7に記載の制振システムを搭載する光学装置。 - 前記揺動検出部は、前記鏡筒の揺動幅及び揺動方向を含む揺動状態を光束によって非接触で距離を計測する光学歪み量として検出する光検出部であり、
前記アクチュエータが前記光検出部により検出された前記距離が所定値以下となるように伸縮する、請求項7に記載の制振システムを搭載する光学装置。 - 前記アクチュエータは、
前記鏡筒を中心とする少なくとも三方における前記鏡筒の側面の箇所から前記筐体の上面に斜方向に延びて、前記鏡筒の側面と前記筐体の上面との間をそれぞれ直線的に繋ぎ、前記圧電体は前記直線の方向に沿って伸縮する、請求項7に記載の制振システムを搭載する光学装置。
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