JP2019109499A5 - - Google Patents

Claims (2)

1. 所定の設計パターンデータにもとづき、フォトマスク基板上に描画を行うことによって、ホール／ドットパターンを含む転写用パターンを備えたフォトマスクとするための、パターン描画方法であって、
   前記フォトマスクを露光することによって被転写体上に得られるホール／ドットパターンのＣＤが目標値となるように、予め求めた補正値に従って、前記設計パターンデータを補正して、補正パターンデータを得る補正工程と、
   前記補正パターンデータを適用し、描画装置を用いて描画を行う描画工程と、を含み、
   前記描画装置は、前記フォトマスク基板面と平行な面内において、Ｘ方向、及び前記Ｘ方向に垂直なＹ方向に対して、ＣＤ制御精度が異なる駆動方式によるものであり、
   前記補正工程では、前記設計パターンデータに対し、前記ホール／ドットパターンのＣＤについて、Ｘ方向及びＹ方向のうち、ＣＤ制御精度の高い方向のＣＤを変更する補正を施すことによって、補正パターンデータを得ることを特徴とする、パターン描画方法。
2. 所定の設計パターンデータにもとづき、フォトマスク基板上に描画を行うことによって、ホール／ドットパターンを含む転写用パターンを備えたフォトマスクとするための、パターン描画方法であって、
   前記フォトマスクを露光することによって被転写体上に得られるホール／ドットパターンの面積が目標値に等しくなるように、予め求めた補正値に従って、前記設計パターンデータを補正して、補正パターンデータを得る補正工程と、
   前記補正パターンデータを適用し、描画装置を用いて描画を行う描画工程と、を含み、
   前記描画装置は、前記フォトマスク基板面と平行な面内において、Ｘ方向、及び前記Ｘ方向に垂直なＹ方向に対して、ＣＤ制御精度が異なる駆動方式によるものであり、
   前記補正工程では、前記設計パターンデータに対し、前記ホール／ドットパターンのＣＤについて、Ｘ方向及びＹ方向のうち、ＣＤ制御精度の高い方向のＣＤを変更する補正を施すことによって、補正パターンデータを得ることを特徴とする、パターン描画方法。