JP2019103990A - 光触媒付基材およびその製造方法及び光触媒装置 - Google Patents
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Abstract
Description
(第1実施形態)
図1に、第1実施形態にかかる光触媒付き基材の構成を表す断面図を示す。
(第2実施形態)
第2の実施形態は、第1の実施形態にかかる光触媒付き基材を製造するための方法の一例である。
(第3実施形態)
第3の実施形態は、第1の実施形態にかかる光触媒付き基材を適用した光触媒装置の一例である。
(ガス分解実験)
JIS−R−1701−1(2004)の窒素酸化物の除去性能(分解能力)評価に準じる流通式装置に光触媒付き基材サンプルを入れた状態で、初期濃度10ppmのアセトアルデヒドガスを140mL/分で流して測定したガス濃度において、光照射前のガス濃度をA、光照射から15分以上経過し、かつ安定したときのガス濃度をBとするとき、下記式(1)に基づいてガス分解率(%)を求める。
光照射は、光源として白色蛍光灯を使用し、紫外線カットフィルムを用い、波長が380nm以上のみの光で照度が6000ルクスの可視光を照射する。
(大腸菌活性試験)
光触媒付き基材サンプルを菌液40ml(1×105/ml)に完全に浸漬された状態で、24時間光照射を行う。
(実施例1)
(第1のアルミナ水和物分散液の調製)
第1のアルミナ水和物の分散液として、川研ファインケミカル製の繊維状の擬ベーマイトナノ粒子の水分散液F−1000を水で希釈して濃度0.5重量%の分散液を調製する。
(酸化タングステン微粒子の調製)
原料粉末として体積平均粒径が0.5μmの三酸化タングステン粉末を用意し、キャリアガスであるアルゴンとRFプラズマに噴霧し、さらに反応性ガスとしてアルゴンを40L/分、空気を40L/分の流量で流し、反応容器内の圧力を40kPaにする。原料粉末を昇華させながら酸化反応させる昇華工程を経て、酸化タングステン微粒子を得る。
(光触媒分散液の調製)
体積平均粒径20nmから100nmの室温pH6の水中におけるゼータ電位が負である酸化タングステン微粒子と、酸化タングステン微粒子に対して3重量%の室温pH6の水中におけるゼータ電位が正である酸化銅微粒子とを水に分散させ、酸化タングステン微粒子と酸化銅微粒子の10重量%水分散液を得る。第2のアルミナ水和物の分散液として、川研ファインケミカル製のより繊維長が長い繊維状の擬ベーマイトF−3000の5重量%水分散液を用意する。酸化タングステンと酸化銅微粒子の10重量%水分散液と、第2のアルミナ水和物の分散液とを配合して、酸化タングステン0.5重量%、擬ベーマイト0.03重量%の光触媒分散液を調製する。
(PETフィルム上への光触媒材料の塗布)
厚さ150μmのPETフィルム(10cm×10cm)を未処理で使用し、PETフィルム上に第1のアルミナ水和物の水分散液 1gを滴下し、全面に広げた後、室温で1時間乾燥し、下地層を形成する。この下地層の室温pH6の水中におけるゼータ電位は正である。
(光触媒活性試験)
アセトアルデヒドの濃度は、初期濃度10ppmに対して光照射30分後には0ppmになる。ガス分解率は100%である。
(耐水性試験)
上記光触媒付き基材を水中に60分間浸しても剥がれは見られず、光触媒活性もほとんど変化しない。
(実施例2)
(光触媒分散液の調製)
体積平均粒径20nmから100nmの酸化タングステン微粒子と、酸化タングステン微粒子に対して0.01重量%のPd微粒子(ポリビニルピロリドン保護コロイド)を助触媒として水に分散させ、10重量%の水分散液を得る。実施例1と同様の第2のアルミナ水和物の水分散液と、上記酸化タングステンとPd微粒子の水分散液と、反応性のシリコーン含有エマルジョンと、次亜塩素酸水とを配合し、酸化タングステン0.5重量%、擬ベーマイト0.02重量%、シリコーン含有エマルジョン固形分0.1重量%、次亜塩素酸60ppmの光触媒分散液を調製する。
(メラミン樹脂膜上への光触媒材料の塗布)
アルミ板上に形成されたメラミン樹脂膜(大きさ10cm×10cm)を未処理で使用し、メラミン樹脂膜上に実施例1と同様のアルミナ水和物分散液をスプレー塗布する。室温で3時間乾燥後、上記光触媒分散液をスプレー塗布する。室温で3時間乾燥し、光触媒層を形成する。
(光触媒活性試験)
アセトアルデヒドの濃度は、初期濃度10ppmに対して光照射30分後には0ppmになる。遮光したもののアセトアルデヒドの濃度は10ppmである。
(剥がれ耐性および耐水性試験)
上記光触媒付き基材を乾いた布および水で濡れた布でこする。共に剥がれは見られず、光触媒活性もほとんど変化しない。
(実施例3)
メラミン樹脂膜の代わりにポリエチレン製の不織布を用いることを除いては実施例2と同様にして光触媒付き基材を作製する。
(光触媒活性試験)
アセトアルデヒドの濃度は初期濃度10ppmに対して光照射25分後には0ppmになる。遮光したものの濃度は10ppmである。
(剥がれ耐性および耐水性試験)
上記光触媒付き基材を乾いた布および水で濡れた布でこする。共に剥がれは見られず、光触媒活性もほとんど変化しない。
(実施例4)
(ヘパフィルター上への光触媒材料の塗布)
実施例1と同様の第1のアルミナ水和物の分散液を用いて、ヘパフィルター上にスプレー塗布して60℃の温風で20分乾燥し、下地層を形成する。次に、下地層上に、実施例1と同様の光触媒分散液をスプレーで塗布して60℃の温風で20分乾燥し、光触媒付き基材を形成する。
(光触媒装置の活性試験)
図4に、実施例に使用する光触媒装置の構成を表す概略図を示す。
(剥がれ耐性および耐水性試験)
上記光触媒付き基材を乾いた布および水で濡れた布でこする。共に剥がれは見られず、光触媒活性もほとんど変化しない。
(実施例5)
(アルミナ水和物分散液の調製)
第1のアルミナ水和物の分散液として、川研ファインケミカル製の粒状の擬ベーマイトナノ粒子の水分散液10Aを水で希釈して濃度0.5重量%の水分散液を調製する。
(光触媒分散液の調製)
体積平均粒径20nmから100nmの室温pH6の水中におけるゼータ電位が負である酸化タングステン微粒子と、酸化タングステンに対して10重量%の室温pH6の水中におけるゼータ電位が正である鉄ニッケル複合酸化物微粒子とを水に分散させ、10重量%の分散液を得る。川研ファインケミカル製の繊維状の擬ベーマイトF−1000の水分散液と酸化タングステンの水分散液から酸化タングステン0.5重量%、擬ベーマイト0.01重量%の光触媒分散液を得る。
(疎水性和紙への光触媒材料の塗布)
疎水性和紙(10cm×10cm)に第1のアルミナ水和物分散液10mlをスプレー塗布し、60℃で10分乾燥し、下地層を形成する。下地層の室温pH6の水中におけるゼータ電位は正である。
(光触媒活性試験)
アセトアルデヒドの濃度は、初期濃度10ppmに対して、光照射20分後には0ppmになる。比較として、遮光して20分経過したものを測定したところ、アセトアルデヒドの濃度は10ppmである。
(耐水性試験)
上記光触媒付き基材を水中に浸しても剥がれは見られず、光触媒活性もほとんど変化しない。
(実施例6)
(ジルコニア分散液の調製)
日産化学工業製のジルコニアゾルZR−40BLを水で希釈して濃度0.5重量%の分散液を調製する。
(光触媒分散液の調製)
体積平均粒径20nmから100nmの酸化タングステン微粒子と酸化タングステンに対して10重量%の室温pH6の水中におけるゼータ電位が正である鉄ニッケル複合酸化物微粒子を水に分散させ、酸化タングステン微粒子と鉄ニッケル複合酸化物微粒子の10重量%水分散液を得る。川研ファインケミカル製の繊維状の擬ベーマイトF−1000の水分散液と酸化タングステンの水分散液から酸化タングステン0.5重量%、擬ベーマイト0.01重量%の光触媒分散液を得る。
(疎水性和紙への光触媒材料の塗布)
疎水性和紙(10cm×10cm)にジルコニアゾル分散液をスプレー塗布し、60℃で10分乾燥し、下地層を形成する。下地層の室温pH6の水中におけるゼータ電位は正である。
(光触媒活性試験)
アセトアルデヒドの濃度は初期濃度10ppmに対して光照射20分後には0ppmになる。比較として遮光したものを測定したところ、アセトアルデヒドの濃度は10ppmである。
(耐水性試験)
上記光触媒付き基材を水中に浸しても剥がれは見られず、光触媒活性もほとんど変化しない。
(実施例7)
(チタニア分散液の調製)
境化学工業製の粒状のルチル型酸化チタン粉末STR―100Nを水で分散して濃度0.5重量%の水分散液を調製する。
(光触媒分散液の調製)
体積平均粒径20nmから100nmの室温pH6の水中におけるゼータ電位が負である酸化タングステン微粒子と、酸化タングステンに対して10重量%の室温pH6の水中におけるゼータ電位が正である鉄ニッケル複合酸化物微粒子とを水に分散させ、酸化タングステン微粒子と鉄ニッケル複合酸化物微粒子の10重量%の分散液を得る。川研ファインケミカル製の繊維状の擬ベーマイトF−1000の水分散液と、酸化タングステンの水分散液と鉄ニッケル複合酸化物微粒子と、酸化タングステン0.5重量%、擬ベーマイト0.05重量%の光触媒分散液を得る。
(PETフィルムへの光触媒材料の塗布)
PETフィルム(10cm×10cm)にチタニア分散液をスプレー塗布し、60℃で10分乾燥し、下地層を形成する。下地層の室温pH6の水中におけるゼータ電位は正である。PETフィルム上に光触媒分散液を3g滴下し、全面に広げて光触媒塗布層を形成した後、室温で24時間乾燥し、光触媒層を形成する。
(光触媒活性試験)
アセトアルデヒドの濃度は初期濃度10ppmに対して光照射30分後には0ppmになる。比較として遮光したものを測定したところ、アセトアルデヒドの濃度は10ppmである。
(耐水性試験)
上記光触媒付き基材を水中に浸しても剥がれは見られず、光触媒活性もほとんど変化しない。
(実施例8)
(光触媒装置の活性試験)
図5に、冷蔵庫中に設置される光触媒装置の構成を表す概略図を示す。
(実施例9)
(光触媒付き基材の調整)
厚さ1mmで5cm角のアルミニウム板の表面をUVオゾンで処理してアルミ酸化膜を形成させる。実施例1の第1のアルミナ分散液を0.5g滴下し、全面に広げた後、室温で1時間乾燥する。次に第2のアルミナ水和物を含む光触媒分散液を2g滴下し、全面に広げ、室温で24時間乾燥する。次に空気中で2時間500℃で加熱し、光触媒付き基材を形成する。高温加熱によりアルミナ水和物は脱水されアルミナになる。
(光触媒活性試験)
アセトアルデヒドの濃度は、初期濃度10ppmに対して光照射30分後には0ppmになる。ガス分解率は100%である。
(剥がれ耐性および耐水性試験)
上記光触媒付き基材を乾いた布および水で濡れた布でこする。共に剥がれは見られず、光触媒活性もほとんど変化しない。
(耐熱性試験)
上記光触媒付き基材を大気中200℃で500時間保持した。剥がれやひび割れは見られず光触媒活性もほとんど変化しない。
(比較例1)
アルミナ水和物下地層を作製しないことを除いては実施例1と同様にして光触媒付き基材を作製する。上記光触媒付き基材を水中に浸漬すると1時間程度で剥がれが観測される。
Claims (20)
- 基材と、前記基材上に設けられ、pH6の水中で正のゼータ電位を有する下地層と、前記下地層上に設けられ、負のゼータ電位を有する光触媒材料を含有する光触媒層とを含む光触媒付基材。
- 前記基材は負のゼータ電位を有する請求項1に記載の光触媒付基材。
- 前記光触媒層は助触媒材料をさらに含む請求項1もしくは2に記載の光触媒付基材。
- 前記助触媒材料は正のゼータ電位を有する請求項3に記載の光触媒付基材。
- 前記光触媒材料は酸化タングステンを含有する請求項1から4のいずれか1項に記載の光触媒付基材。
- 前記下地層は第1のアルミナ水和物を含む請求項1から5のいずれか1項に記載の光触媒付基材。
- 前記第1のアルミナ水和物は繊維状である請求項6に記載の光触媒付基材。
- 前記基材は、多孔質である請求項1から7のいずれか1項に記載の光触媒付基材。
- 前記基材は、有機材料である請求項1から8のいずれか1項に記載の光触媒付基材。
- 前記光触媒層は、第2のアルミナ水和物をさらに含む請求項1から9のいずれか1項に記載の光触媒付基材。
- pH6の水中で負のゼータ電位を有する基材上に正のゼータ電位を有する金属酸化物を含有する下地層塗付液を塗布、乾燥して下地層を形成する工程と、前記下地層上に負のゼータ電位を有する光触媒材料を含有する光触媒層塗付液を塗布、乾燥して光触媒層を形成する工程を有する光触媒付基材の製造方法。
- 前記光触媒層塗付液は、正のゼータ電位を有する助触媒材料をさらに含む請求項11に記載の光触媒付基材の製造方法。
- 前記光触媒層塗付液を塗布する工程がスプレー法である請求項11または12に記載の光触媒付基材の製造方法。
- 前記光触媒層塗付液は、第2の金属酸化物をさらに含む請求項11から13のいずれか1項に記載の光触媒付基材の製造方法。
- 前記光触媒材料は、負の電位を有する粒子と正の電位を有する粒子の混合物である請求項11から14のいずれか1項に記載の光触媒付基材の製造方法。
- 請求項1から10のいずれか1項に記載の光触媒付基材と、前記光触媒付基材に光触媒活性を生じさせる光照射部と、前記基材に光触媒作用を受ける物質を供給する供給部とを具備する光触媒装置。
- 前記光照射部はLEDである請求項16に記載の光触媒装置。
- 前記供給部はファンである請求項16もしくは17に記載の光触媒装置。
- 前記基材は多孔質基材であり、前記物質は前記多孔質基材を透過する請求項16から18のいずれか1項に記載の光触媒装置。
- 前記物質を吸着するための吸着部をさらに具備する請求項16から19のいずれか1項に記載の光触媒装置。
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