JP2019087624A - 圧着装置及び圧着方法 - Google Patents

Abstract

【課題】基板の突出部をバックアップ部に支持させる際、補正可能な回転角度を超えることや、基板保持テーブルとバックアップ部が干渉することを防止できる圧着装置及び圧着方法を提供することを目的とする。【解決手段】テーブル移動機構３１が基板保持テーブル３２を移動させる（基板２の突出部２Ｔの下面をバックアップ部５２に支持させる）前に、基板保持テーブル３２に対する基板２の位置を認識し（ステップＳＴ２の基板位置認識工程）、その認識した基板保持テーブル３２に対する基板２の位置に基づいて、突出部２Ｔの上面に部品３を圧着できるかどうかを判断する（ステップＳＴ３の判断工程）。そして、突出部２Ｔの上面に部品３を圧着できないと判断した場合に、突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させない（ステップＳＴ５の突出部支持工程）。【選択図】図５

Description

本発明は、バックアップ部に支持させた基板の一部の上面に圧着対象物を圧着する圧着装置及びその圧着装置による圧着方法に関する。

基板に部品を実装する部品実装ラインにおけるＡＣＦ貼着装置、仮圧着装置、本圧着装置等は、基板にＡＣＦや部品等の圧着対象物を圧着する圧着装置として知られている。圧着装置は、基板の一部が水平方向に突出するように基板を保持する基板保持テーブルと、基板保持テーブルから突出した基板の一部（突出部）の下面を支持するバックアップ部と、バックアップ部の上方に配置された圧着ツールを備える。圧着ツールは、バックアップ部により支持された突出部の上面に圧着ツールを押し付けて、圧着対象物を突出部に圧着する。

このような構成の圧着装置では、基板保持テーブルに保持された基板の基板保持テーブルに対する基板の位置を認識して突出部をバックアップ部に支持させる。このとき、基板保持テーブルに保持された基板のバックアップ部に対する姿勢がバックアップ部に対する正規の姿勢から回転して回転ずれを起こしていた場合であっても、基板保持テーブルをその方向とは反対の方向に回転させる補正を行うことで回転ずれを解消し、突出部を正規の姿勢にしてバックアップ部に支持させることができる（例えば、下記の特許文献１参照）。

特開２０１４−０４９６６６号公報

しかしながら、近年では、基板はガラスパネルのように剛性の高い基板だけでなく、有機ＥＬパネルのように剛性が極めて小さい基板も増えてきている。剛性が小さい基板では、基板保持テーブルからの突出量をあまり大きくすると突出部の下方への撓み量が大きくなってバックアップ部による支持ができなくなる。このため剛性の小さい基板では突出量を小さくせざるを得ず、従来よりも回転角度が必要となり、状況によっては基板の回転ずれを解消するために基板保持テーブルを回転させる補正を行った際、補正可能な回転角度を超えるおそれや基板保持テーブルの端部がバックアップ部と干渉してしまうおそれがあるという問題点があった。

そこで本発明は、基板の突出部をバックアップ部に支持させる際、補正可能な回転角度を超えることや、基板保持テーブルとバックアップ部が干渉することを防止できる圧着装置及び圧着方法を提供することを目的とする。

本発明の圧着装置は、基板の一部が水平方向に突出した状態で前記基板を保持する基板保持テーブルと、前記基板保持テーブルから突出した前記基板の一部である突出部の下面を支持するバックアップ部と、前記基板保持テーブルを移動させて前記突出部の下面を前記バックアップ部に支持させるテーブル移動機構と、前記バックアップ部により下面が支持された前記突出部の上面に圧着対象物を圧着する圧着ツールとを備えた圧着装置であって、前記テーブル移動機構が前記突出部を前記バックアップ部に支持させる前に前記基板保持テーブルに対する前記基板の位置を認識する基板位置認識手段と、前記基板位置認識手段により認識された前記基板保持テーブルに対する前記基板の位置に基づいて、前記突出部の上面に前記圧着対象物を圧着できるかどうかを判断する判断部とを備え、前記テーブル移動機構は、前記判断部により前記突出部の上面に前記圧着対象物を圧着できると判断されなかった場合に、前記基板保持テーブルを移動させて前記突出部の下面を前記バックアップ部に支持させない。

本発明の圧着方法は、基板の一部が水平方向に突出した状態で前記基板を基板保持テーブルにより保持する基板保持工程と、テーブル移動機構によって前記基板保持テーブルを移動させて、前記基板保持テーブルから突出した前記基板の一部である突出部の下面をバックアップ部に支持させる突出部支持工程と、前記バックアップ部により下面が支持された前記突出部の上面に圧着対象物を圧着する圧着工程とを含む圧着方法であって、前記突出部が前記バックアップ部によって支持される前に、前記基板保持テーブルに対する前記基板の位置を認識する基板位置認識工程と、前記基板位置認識工程で認識した前記基板保持テーブルに対する前記基板の位置に基づいて、前記突出部の上面に前記圧着対象物を圧着できるかどうかを判断する判断工程とを備え、前記突出部支持工程は、前記判断工程で前記突出部の上面に前記圧着対象物を圧着できないと判断した場合に実行しない。

本発明によれば、基板の突出部をバックアップ部に支持させる際、補正可能な回転角度を超えることや、基板保持テーブルとバックアップ部が干渉することを防止できる。

本発明の一実施の形態における圧着装置の斜視図 本発明の一実施の形態における圧着装置が備える基板移送部の斜視図 本発明の一実施の形態における圧着装置が備える基板設置部及び圧着機構部の斜視図 本発明の一実施の形態における圧着装置の制御系統を示すブロック図 本発明の一実施の形態における圧着装置が実行する圧着作業の動作の流れを示すフローチャート （ａ）（ｂ）本発明の一実施の形態における圧着装置が実行する圧着作業の動作を説明する斜視図 本発明の一実施の形態における圧着装置が実行する基板保持テーブルにより基板を保持した状態を示す平面図 （ａ）（ｂ）本発明の一実施の形態における圧着装置が実行する圧着作業の動作を説明する斜視図 本発明の一実施の形態における圧着装置が備えるカメラにより基板に備えられた基板マークを撮像している状態を示す斜視図 （ａ）（ｂ）（ｃ）本発明の一実施の形態における圧着装置が実行する圧着作業の動作を説明する平面図 本発明の一実施の形態における圧着装置が実行する圧着作業の動作を説明する斜視図 （ａ）（ｂ）（ｃ）本発明の一実施の形態における圧着装置が実行する圧着作業の圧着工程の動作を説明する側面図 （ａ）（ｂ）本発明の一実施の形態における圧着装置が実行する圧着作業の動作を説明する斜視図 （ａ）（ｂ）（ｃ）本発明の一実施の形態における圧着装置が実行する圧着作業の動作を説明する平面図 （ａ）（ｂ）（ｃ）本発明の一実施の形態における圧着装置が実行する圧着作業の動作を説明する平面図

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１に示す圧着装置１は、有機ＥＬパネル等の製造において、上流工程側に配置された仮圧着装置（図示せず）から送られてきた基板２を搬入し、その仮圧着装置によって基板２の縁部に仮圧着された圧着対象物である部品３を基板２に押圧して圧着（本圧着）する本圧着装置である。本実施の形態では説明の便宜上、作業者から見た圧着装置１の左右方向をＸ軸方向、作業者から見た前後方向をＹ軸方向、上下方向をＺ軸方向とする。また、前後方向（Ｙ軸方向）のうち、作業者から見た手前側を圧着装置１の前方と称し、作業者から見た奥側を圧着装置１の後方と称する。

図１において、圧着装置１は、基板移送部１１、基板設置部１２及び圧着機構部１３を有している。図２において、基板移送部１１は、Ｘ軸方向に延びて設けられた移送体移動テーブル２１と、移送体移動テーブル２１上をＸ軸方向に移動自在な移動ベース２２と、移動ベース２２に取り付けられた２つのアームユニット２３を備えている。各アームユニット２３は後方に延びて先端部に複数の吸着部２４ａを備えた２つの吸着アーム２４を有している。

各アームユニット２３は２つの吸着アーム２４の吸着部２４ａに基板２を吸着させてその基板を保持する（図２）。基板移送部１１は、２つのアームユニット２３のそれぞれに基板２を保持させた状態で移動ベース２２を移送体移動テーブル２１上で移動させることにより、基板２をＸ軸方向に移送する。

図３において、基板設置部１２は、テーブル移動機構３１と２つの基板保持テーブル３２を備えている。テーブル移動機構３１は、Ｘ軸ベース４１、Ｙ軸ベース４２、前後移動ベース４３、テーブルベース昇降モータ４４、テーブルベース４５及び２つの旋回モータ４６を備えている。

Ｘ軸ベース４１は移送体移動テーブル２１の後方をＸ軸方向に延びており、Ｙ軸ベース４２をＸ軸方向に移動させる。Ｙ軸ベース４２はＹ軸方向に延びており、前後移動ベース４３をＹ軸方向（前後方向）に移動させる。テーブルベース昇降モータ４４は前後移動ベース４３に取り付けられており、テーブルベース４５を昇降させる。２つの旋回モータ４６はテーブルベース４５上にＸ軸方向に並んで設けられている。２つの基板保持テーブル３２は２つの旋回モータ４６にそれぞれ取り付けられている。

図３において、各基板保持テーブル３２は、上面に開口した基板吸着口３２Ｋを備えている。各基板保持テーブル３２は、基板移送部１１によって上流工程側から移送されてきた基板２の下面を基板吸着口３２Ｋにおいて吸着して保持する。

テーブル移動機構３１は、Ｘ軸ベース４１に対してＹ軸ベース４２をＸ軸方向に移動させ、Ｙ軸ベース４２に対して前後移動ベース４３をＹ軸方向に移動させることによって、テーブルベース４５を（すなわち２つの基板保持テーブル３２を）ＸＹ面内方向に移動させる。またテーブル移動機構３１は、テーブルベース昇降モータ４４によってテーブルベース４５を（すなわち２つの基板保持テーブル３２を）Ｚ軸方向に移動させ、２つの旋回モータ４６によって、２つの基板保持テーブル３２をＸＹ面内で旋回させる。これによりテーブル移動機構３１は、２つの基板保持テーブル３２により保持した２枚の基板２をＸＹ面内方向に移動させ、Ｚ軸方向に移動させ、ＸＹ面内で旋回させることができる。

図３において、圧着機構部１３は基板設置部１２の後方に設置されており、基台５１上に２つのバックアップ部５２を備えている。２つのバックアップ部５２はＸ軸方向に並んでおり、その間隔は２つの基板保持テーブル３２の間隔に対応している。

図３において、圧着機構部１３の２つのバックアップ部５２それぞれの近傍位置には、各バックアップ部５２に対応して、撮像光軸を下方に向けたカメラ５３（図４）が設けられている。カメラ５３は、Ｘ軸方向に移動して、基板２の縁部の部品３を挟んで位置する２つの基板マーク２ｍ（図２）を上方から撮像する。

図３において、基台５１上には門型フレーム６１が設けられている。門型フレーム６１にはツールベース６３が昇降自在に取り付けられている。ツールベース６３のＸ軸方向の両端部には２つの圧着シリンダ６４が取り付けられている。２つの圧着シリンダ６４はそれぞれ圧着ツール６５をツールベース６３の下方で昇降させる。２つの圧着ツール６５は２つのバックアップ部５２それぞれの上方に位置している。

図４において、圧着装置１は制御装置７０を備える。制御装置７０は、基板移送部１１による基板２の保持と移送を制御する。制御装置７０は、基板設置部１２による基板２の保持と移動を制御する。制御装置７０は、圧着機構部１３によるツールベース６３と２つの圧着ツール６５の昇降動作を制御する。また、制御装置７０は、カメラ５３の撮像動作を制御する。

次に、図５に示すフローチャートを用いて、圧着装置１が基板２に部品３を圧着する圧着作業（圧着装置１による圧着方法）を行う手順について説明する。本圧着作業では、先ず、基板移送部１１が、上流工程側の装置（ここでは仮圧着装置）から、部品３が仮圧着された２枚の基板２を２つのアームユニット２３により保持して圧着装置１に移送し（図６（ａ））、２つの基板保持テーブル３２の上方に位置させる。２枚の基板２が２つの基板保持テーブル３２の上方に位置したら、テーブルベース昇降モータ４４の作動によって２つの基板保持テーブル３２が上昇し、対応する基板２に下方から近接する。そして、２つの基板保持テーブル３２がそれぞれ、基板吸着口３２Ｋを介して基板２を吸着して保持する（図６（ｂ）。図５に示すステップＳＴ１の基板保持工程）。

基板保持工程で各基板保持テーブル３２が基板２を保持するときは、基板２の後縁側の一部が基板保持テーブル３２の後縁から水平方向（ここでは後方）に突出した状態となるようにする（図７）。この基板保持テーブル３２の後縁から後方に突出した状態となる基板２の一部（図７中に示す２枚の基板２のそれぞれにおいて斜線を施した領域）を以下、「突出部２Ｔ」と称する。部品３は各基板２の突出部２Ｔに仮圧着されている。

基板設置部１２は、２つの基板保持テーブル３２により２枚の基板２を保持したら、前後移動ベース４３を後方へ移動させて（図８（ａ））、各基板２の２つの基板マーク２ｍをカメラ５３のＸ軸方向の移動経路の下方に位置させる。２つの基板マーク２ｍがカメラ５３のＸ軸方向の移動経路の下方に位置したら、カメラ５３はＸ軸方向に移動して、基板２の２つの基板マーク２ｍを上方から撮像する（図９）。

カメラ５３が２つの基板マーク２ｍを撮像したら、制御装置７０の基板位置認識部７０ａ（図４）は、カメラ５３から送られてきた２つの基板マーク２ｍの画像データの画像認識を行い、カメラ５３を基準とした基板マーク２ｍの位置を算出する。そして、その算出した基板マーク２ｍの位置と、テーブル移動機構３１の制御データで設定される基板保持テーブル３２の座標位置とに基づいて、各基板２の基板保持テーブル３２に対する位置を認識する（ステップＳＴ２の基板位置認識工程）。

このように本実施の形態において、カメラ５３と制御装置７０の基板位置認識部７０ａは、基板保持テーブル３２に対する基板２の位置を認識する基板位置認識手段８１となっている（図４）。

制御装置７０の判断部７０ｂ（図４）は、突出部２Ｔの上面に部品３を圧着できるかどうかを判断する。ここで、突出部２Ｔの上面に部品３を圧着できるかどうかの判断は、従来、基板２の突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させた後、圧着ツール６５で部品３を圧着する前に実行されていた。しかしながら、突出部２Ｔの上面に部品３を圧着できるかどうかは、基板保持テーブル３２による基板２の保持具合によることが要因のひとつであることに至った。そのため、基板保持テーブル３２による基板２の保持具合によっては、基板保持テーブル３２若しくは圧着ツール６５で補正できる限度を超える場合がある。このような場合、基板２の突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させる前に、突出部２Ｔの上面に部品３を圧着できないことが判断できる。つまり、判断部７０ｂは、突出部２Ｔの上面に部品３を圧着できるかどうか、言い換えると、突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させることができるかどうかを判断することが必要とされる。

基板位置認識部７０ａが各基板２の基板保持テーブル３２に対する位置を認識したら、判断部７０ｂは、基板位置認識部７０ａが認識した各基板２の位置と、予め記憶されている各バックアップ部５２の位置とに基づいて、２枚の基板２の突出部２Ｔをそれぞれバックアップ部５２に支持させることができるかどうかを判断する（ステップＳＴ３の判断工程）。この判断工程では、判断部７０ｂは、例えば、基板位置認識部７０ａが認識した基板２の位置に基づいて突出部２Ｔの基板保持テーブル３２からの突出状態を求め、その突出状態に基づいて、突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させることができるかどうかを判断する。

これを具体的に説明すると、判断部７０ｂは先ず、突出部２Ｔの突出状態から、基板２の後縁の左端の基板保持テーブル３２の後縁からの後方への突出量（Ｙ軸方向の突出量ＹＬ）と、基板２の後縁の右端の基板保持テーブル３２の後縁からの後方への突出量（Ｙ軸方向の突出量ＹＲ）とを求める（図１０（ａ））。突出量ＹＬ，ＹＲを求めたら、これら突出量ＹＬ，ＹＲから、バックアップ部５２に対する正規の姿勢（基板２の後縁がＸ軸と平行になる姿勢）からの基板２のＺ軸回りの回転ずれの回転角度θ（図１０（ａ））を求める。

判断部７０ｂは、回転ずれの回転角度θを求めたら、その求めた回転角度θと突出量ＹＬ，ＹＲとから、基板保持テーブル３２を基板２とともに回転ずれの方向とは反対の方向に回転角度θだけ回転させた状態を仮定する（図１０（ｂ）中に一点鎖線で示す基板２及び基板保持テーブル３２参照）。そして、その仮定した状態における、基板２の後縁の基板保持テーブル３２の後縁からの後方への突出量（Ｙ軸方向の突出量）の最小値Ｙｍｉｎを算出する（図１０（ｂ））。

上記最小値Ｙｍｉｎを算出したら、その算出した最小値Ｙｍｉｎが、バックアップ部５２における基板２の突出部を支持する領域として定められた部分のＹ軸方向の寸法である支持長さＹＢ（図１０（ａ））よりも大きいか否かを判定する。そして、最小値Ｙｍｉｎが支持長さＹＢを上回っている場合（最小値Ｙｍｉｎ＞支持長さＹＢ）には、突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させることができると判断する。一方、最小値Ｙｍｉｎが支持長さＹＢを上回っていない場合（最小値Ｙｍｉｎ≦支持長さＹＢ）には、突出部２Ｔをバックアップ部５２により支持できないと判断する。なお、支持長さＹＢは所定のマージンを設けて、支持長さＹＢに余裕を持たせてもよい。

ステップＳＴ３の判断工程において、判断部７０ｂが、突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させることができると判断した場合には、回転ずれの回転角度θを補正角度として設定する（ステップＳＴ４の補正角度設定工程）。そして、テーブル移動機構３１は、一旦前方へ移動させたうえで（図８（ｂ））、補正角度設定工程で設定した補正角度（＝θ）を用いて基板保持テーブル３２を回転させながら（図１０（ｃ））、基板保持テーブル３２を後方へ移動させることによって、突出部２Ｔの下面をバックアップ部５２に支持させる（図１０（ｃ）及び図１１）。一方、判断部７０ｂにより突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させることができないと判断された場合（すなわち、突出部２Ｔの上面に部品３を圧着できると判断されなかった場合）には、基板保持テーブル３２を移動させて突出部２Ｔの下面をバックアップ部５２に支持させることは行わない（ステップＳＴ５の突出部支持工程）。この突出部支持工程では、予め最小値Ｙｍｉｎ＞支持長さＹＢであることが分かっているので、突出部２Ｔを必ずバックアップ部５２に支持させることができる。

このようにして突出部２Ｔがバックアップ部５２により支持されたら、圧着シリンダ６４が作動して圧着ツール６５を下降させる。そして、部品３を基板２ごとバックアップ部５２に押し付けることによって、部品３を突出部２Ｔに圧着する（図１２（ａ）→図１２（ｂ）→図１２（ｃ）。ステップＳＴ６の圧着工程）。圧着工程は基板２ごとに、順次行う（図１３（ａ）→図１３（ｂ））。なお、圧着工程は２枚の基板２に対して同時に行ってもよい。

一方、ステップＳＴ３の判断工程において、最小値Ｙｍｉｎが支持長さＹＢを上回っていなかった（最小値Ｙｍｉｎ≦支持長さＹＢ）ために、判断部７０ｂが、突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させることができないと判断した場合には、基板保持テーブル３２に対する基板２の相対位置を変更する相対位置変更工程（以下のステップＳＴ７〜ステップＳＴ１０）を実行することで、基板２の突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持できるようにする。

相対位置変更工程では、基板保持テーブル３２に対する基板２の相対位置の変更量を、突出部２Ｔの基板保持テーブル３２からの突出状態に基づいて求める。具体的には、先ず、制御装置７０の相対位置変更量算出部７０ｃ（図４）が、現在の位置に位置した基板保持テーブル３２に対し、基板２の突出部２Ｔの突出量の最小値Ｙｍｉｎがバックアップ部５２の支持長さＹＢを上回る状態となる（最小値Ｙｍｉｎ＞支持長さＹＢとなる）基板２の位置（図１４（ａ）中に一点鎖線で示す基板２参照）を、現在の基板２の突出部２Ｔの突出状態から想定する。そして、その想定した基板２の突出部２Ｔの突出状態と、現在の基板２（図１４（ａ）中に実線で示す基板２参照）の突出部２Ｔの突出状態とを比較して、現在の基板２を想定した基板２の位置に位置させるのに必要な基板２の移動量（Ｘ軸方向の移動量、Ｙ軸方向の移動量及びＺ軸回りの回転角度θ）を、基板保持テーブル３２に対する基板２の相対位置の変更量（相対位置変更量）として算出する（ステップＳＴ７の相対位置変更量算出工程）。この相対位置変更量の算出は、２枚の基板２のそれぞれについて行う。

相対位置変更量算出部７０ｃが相対位置変更量を算出したら、テーブル移動機構３１は２枚の基板２を（すなわち前後移動ベース４３を）一旦前方へ移動させる（図１４（ｂ））。２枚の基板２が前方へ移動したら、基板移送部１１は２つのアームユニット２３によって、２枚の基板２を吸着して保持し（図１４（ｃ））、基板保持テーブル３２が下降することで、２枚の基板２を基板保持テーブル３２の上方に退避させる（ステップＳＴ８の基板退避工程）。

２枚の基板２を基板保持テーブル３２の上方に退避させたら、２つの基板保持テーブル３２はそれぞれ、相対位置変更量算出部７０ｃで算出された相対位置変更量だけ、その算出された方向に対して反対の方向に基板保持テーブル３２を移動させたうえで（図１５（ａ）。ステップＳＴ９の基板移動工程）、基板保持テーブル３２を上昇させて、基板２を基板保持テーブル３２に戻す（ステップＳＴ１０の基板戻し工程）。これら基板移動工程及び基板戻し工程は、２枚の基板２について、順次行う。これにより相対位置変更工程は終了する。この相対位置変更工程において、制御装置７０の相対位置変更量算出部７０ｃ、基板移送部１１及びテーブル移動機構３１は、基板保持テーブル３２に対する基板２の相対位置を変更する相対位置変更手段８２となっている（図４）。

上記相対位置変更工程で基板保持テーブル３２に対して基板２の相対位置を変更したら、テーブル移動機構３１は、ステップＳＴ７の相対位置変更量算出工程で算出された回転角度θだけ、相対位置変更工程を実行したときとは反対の方向に基板保持テーブル３２を回転させて、基板保持テーブル３２を元の向きに戻す（図１５（ｂ））。これにより基板２も回転角度θだけ回転する。そして、テーブル移動機構３１を後方へ移動させて前述のステップＳＴ２の基板位置認識工程を実行し、ステップＳＴ３の判断工程と、ステップＳＴ４の補正角度設定工程を経て、突出部２Ｔの下面をバックアップ部５２に支持させる（図１５（ｃ）。ステップＳＴ５の突出部支持工程）。

この突出部支持工程では、予め最小値Ｙｍｉｎ＞支持長さＹＢであることが分かっているので、突出部２Ｔを必ずバックアップ部５２に支持させることができる。このため、最初の判断工程で突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させることができないと判断された場合であっても、突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させることがでる。

突出部２Ｔがバックアップ部５２により支持されたら、圧着シリンダ６４が作動して圧着ツール６５を下降させ、部品３を基板２ごとバックアップ部５２に押し付けることによって、部品３を突出部２Ｔに圧着する（図１２（ａ）→図１２（ｂ）→図１２（ｃ）。ステップＳＴ６の圧着工程）。圧着工程は基板２ごとに、順次行う（図１３（ａ）→図１３（ｂ））。

以上説明したように、本実施の形態における圧着装置１及び圧着装置１による圧着方法では、テーブル移動機構３１が基板保持テーブル３２を移動させる（基板２の突出部２Ｔの下面をバックアップ部５２に支持させる）前に、基板保持テーブル３２に対する基板２の位置を認識し（基板位置認識工程）、その認識した基板保持テーブル３２に対する基板２の位置に基づいて、突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させることができるかどうかを判断する（判断工程）。そして、突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させることができると判断した場合に、突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させる（突出部支持工程）。このため、基板２の突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させる際、補正可能な回転角度を超えることや、基板保持テーブル３２とバックアップ部５２が干渉することを防止できる。

また、本実施の形態における圧着装置１及び圧着方法では、突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させることができないと判断した場合には、基板保持テーブル３２に対する基板２の相対位置を変更した後、突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させるので、突出部２Ｔを確実にバックアップ部５２に支持させて部品３を基板２に圧着することができる。

これまで本実施の形態について説明してきたが、本発明は上述したものに限定されない。例えば、上述の実施の形態では、基板保持テーブル３２の端部がバックアップ部５２に干渉するか否かを基準にして、基板２の突出部２Ｔをバックアップ部５２に支持させることができるかどうかを判断していたが、２枚の基板２の突出部２Ｔを２つのバックアップ部５２に同時に支持させることができるか否かを基準にして判断するようにしてもよい。

また、上述の実施の形態では、基板保持テーブル３２ごとに旋回モータ４６が取り付けられていたが、前後移動ベース４３に旋回モータ４６を取り付けてもよい。旋回モータ４６は、前後移動ベース４３を介して、複数の基板保持テーブル３２を同時に旋回させることができる。このような場合において、判断部７０ｂは、基板保持テーブル３２の端部がバックアップ部５２に干渉するか否かを判断する際に、複数の基板保持テーブル３２の全てを対象として判断する。従って、ひとつの基板保持テーブル３２において、補正角度θで旋回させて支持させることができる場合であっても、そのほかの基板保持テーブル３２で支持させることができない際（そのほかの基板保持テーブル３２において、補正角度θで旋回させるとバックアップ部５２に干渉する際）は、ステップＳＴ７〜ステップＳＴ１０の工程を実施させる。

また、判断部７０ｂは、基板保持テーブル３２の端部がバックアップ部５２に干渉するか否かを判断する以外に、圧着対象の基板２を複数同時に圧着できるか否かを判断してもよい。同時に複数の基板２を圧着できない場合は、上述と同様に、ステップＳＴ７〜ステップＳＴ１０の工程を実施させる。なお、同時に基板２を圧着する場合は、上述した最小値Ｙｍｉｎ＞支持長さＹＢであることに加えて、複数の基板２の縁部の平行度が所定範囲内であるかも考慮される。

また、上述の実施の形態では、基板２の突出部２Ｔに圧着対象物（部品３）を圧着する圧着装置の例として本圧着装置を例示したが、本発明の圧着装置及び圧着方法は、その他の圧着装置（ＡＣＦ貼着装置や仮圧着装置等）にも適用することができる。従って、圧着対象物の一例として、チップ部品、フレキシブルプリント回路基板、又はＡＣＦ等が挙げられる。

基板の突出部をバックアップ部に支持させる際、補正可能な回転角度を超えることや、基板保持テーブルとバックアップ部が干渉することを防止できる圧着装置及び圧着方法を提供する。

１ 圧着装置
２ 基板
２Ｔ 突出部
３ 部品（圧着対象物）
１１ 基板移送部
３１ テーブル移動機構
３２ 基板保持テーブル
５２ バックアップ部
６５ 圧着ツール
７０ｂ 判断部
８１ 基板位置認識手段
８２ 相対位置変更手段

Claims (14)

1. 基板の一部が水平方向に突出した状態で前記基板を保持する基板保持テーブルと、前記基板保持テーブルから突出した前記基板の一部である突出部の下面を支持するバックアップ部と、前記基板保持テーブルを移動させて前記突出部の下面を前記バックアップ部に支持させるテーブル移動機構と、前記バックアップ部により下面が支持された前記突出部の上面に圧着対象物を圧着する圧着ツールとを備えた圧着装置であって、
   前記テーブル移動機構が前記突出部を前記バックアップ部に支持させる前に前記基板保持テーブルに対する前記基板の位置を認識する基板位置認識手段と、
   前記基板位置認識手段により認識された前記基板保持テーブルに対する前記基板の位置に基づいて、前記突出部の上面に前記圧着対象物を圧着できるかどうかを判断する判断部とを備え、
   前記テーブル移動機構は、前記判断部により前記突出部の上面に前記圧着対象物を圧着できると判断されなかった場合に、前記基板保持テーブルを移動させて前記突出部の下面を前記バックアップ部に支持させない圧着装置。
2. 前記判断部は、前記突出部を前記バックアップ部に支持させることができるかどうかに基づいて前記突出部の上面に前記圧着対象物を圧着できるかどうかを判断する請求項１に記載の圧着装置。
3. 前記判断部は、前記基板位置認識手段により認識された前記基板保持テーブルに対する前記基板の位置から求められる前記突出部の前記基板保持テーブルからの突出状態及び前記バックアップ部における前記突出部を支持する領域の寸法に基づいて、前記突出部を前記バックアップ部に支持させることができるかどうかを判断する請求項２に記載の圧着装置。
4. 前記基板保持テーブルに対する前記基板の相対位置を変更する相対位置変更手段を備え、前記判断部により前記突出部を前記バックアップ部に支持させることができないと判断された場合に、前記相対位置変更手段が前記基板保持テーブルに対する前記基板の相対位置を変更した後、前記テーブル移動機構が前記基板保持テーブルを移動させて、前記突出部の下面を前記バックアップ部に支持させる請求項２又は３に記載の圧着装置。
5. 前記相対位置変更手段は、前記基板保持テーブルに対する前記基板の相対位置の変更を、前記基板保持テーブルに保持された前記基板を前記基板保持テーブルの上方に退避させた状態で前記基板保持テーブルを移動させ、そのうえで前記基板を前記基板保持テーブルに戻して行う請求項４に記載の圧着装置。
6. 前記基板の退避を前記基板保持テーブルに前記基板を移送する基板移送部により行う請求項５に記載の圧着装置。
7. 前記基板保持テーブルに対する前記基板の相対位置の変更量を前記突出部の前記基板保持テーブルからの突出状態に基づいて求める請求項４〜６のいずれかに記載の圧着装置。
8. 基板の一部が水平方向に突出した状態で前記基板を基板保持テーブルにより保持する基板保持工程と、テーブル移動機構によって前記基板保持テーブルを移動させて、前記基板保持テーブルから突出した前記基板の一部である突出部の下面をバックアップ部に支持させる突出部支持工程と、前記バックアップ部により下面が支持された前記突出部の上面に圧着対象物を圧着する圧着工程とを含む圧着方法であって、
   前記突出部が前記バックアップ部によって支持される前に、前記基板保持テーブルに対する前記基板の位置を認識する基板位置認識工程と、
   前記基板位置認識工程で認識した前記基板保持テーブルに対する前記基板の位置に基づいて、前記突出部の上面に前記圧着対象物を圧着できるかどうかを判断する判断工程とを備え、
   前記突出部支持工程は、前記判断工程で前記突出部の上面に前記圧着対象物を圧着できないと判断した場合に実行しない圧着方法。
9. 前記判断工程は、前記突出部を前記バックアップ部に支持させることができるかどうかに基づいて前記突出部の上面に前記圧着対象物を圧着できるかどうかを判断する請求項８に記載の圧着方法。
10. 前記判断工程で、前記基板位置認識工程で認識した前記基板保持テーブルに対する前記基板の位置から求められる前記突出部の前記基板保持テーブルからの突出状態及び前記バックアップ部における前記突出部を支持する領域の寸法に基づいて、前記突出部を前記バックアップ部に支持させることができるかどうかを判断する請求項９に記載の圧着方法。
11. 前記判断工程で前記突出部を前記バックアップ部に支持させることができないと判断した場合に、前記基板保持テーブルに対する前記基板の相対位置を変更する相対位置変更工程を実行した後、前記突出部支持工程を実行する請求項９又は１０に記載の圧着方法。
12. 前記相対位置変更工程における前記基板保持テーブルに対する前記基板の相対位置の変更を、前記基板保持テーブルに保持された前記基板を前記基板保持テーブルの上方に退避させた状態で前記基板保持テーブルを移動させ、そのうえで前記基板を前記基板保持テーブルに戻して行う請求項１１に記載の圧着方法。
13. 前記基板の退避を前記基板保持テーブルに前記基板を移送する基板移送部により行う請求項１２に記載の圧着方法。
14. 前記基板保持テーブルに対する前記基板の相対位置の変更量を前記突出部の前記基板保持テーブルからの突出状態に基づいて求める請求項９〜１３のいずれかに記載の圧着方法。

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