JP2019071320A - 結露防止機能を備えたレーザ装置 - Google Patents
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Abstract
Description
この技術では、半導体レーザの温度が露点温度より高くなるように冷却手段が制御されるので、露点温度が高い場合は半導体レーザの温度が上がることになる。従って、結露を避けると半導体レーザの寿命消費が加速されるという前述の問題は解決されない。
やはり、この技術も、結露の可能性が生じた場合に当該半導体レーザに対する温度制御を停止させているので、露点温度が高い環境下では半導体レーザの冷却が不充分になり、半導体レーザの寿命消費が加速されるという問題は解決されない。
この装置は、結露を防ぐために、基板温度と基板の周囲気体の湿度等を検出して、冷却水の入水量または入水温を調整している。しかし、やはり、この技術も、基板の周囲気体の湿度が高い場合は、冷却水の入水量を減らす等の方法で基板の温度を上げているため、固体発光素子の寿命消費が加速されるという問題は解決されない。
この文献は、光源への結露を防ぐために、光源を発光させる前に加熱電流を流して光源の温度を露点温度より上げることを開示するだけであり、光源を冷却する技術には言及していない。従って、この技術は、露点温度が高い場合、結露を防ぐために光源の温度を上げることになり、光源の寿命消費が加速されるという問題を解決する技術ではない。
この文献は、冷媒流通制御部には上限温度および下限温度が設定されており、上記温度センサが上記上限温度よりも高い温度を検出したときに、上記冷媒の供給を開始し、上記温度センサが上記下限温度よりも低い温度を検出したときに、上記冷媒の供給を停止することや、空間内の露点温度を上記下限温度として設定することにも言及している。しかし、この技術も、露点温度が高いと、光源ユニットの温度が高くでも冷媒の供給を停止することになるので、露点温度が高い場合には光源の寿命消費が加速されるという問題は解決されない。
しかし、この技術では、筐体内の温度が制御されても、筐体内の露点温度が変化する訳ではないので、結局、露点温度が高い場合は、結露しないように、放射線画像情報検出器の温度を本来維持したい温度より高く保つしかない。従って、この文献にも、寿命消費が加速されるという問題への解決方法は開示されていない。
しかし、この技術は、X線検出器の周囲に循環させる熱媒体の温度が露点温度を超えるように制御するので、露点温度が高い場合は、温度の高い熱媒体を循環させることになり、X線検出器の温度が本来維持したい温度より高温になってしまい、寿命消費が加速されることに変わりはない。
しかし、やはり、この技術も、凝縮器における冷媒の凝縮温度を室内の露点温度よりも高い所定温度に維持するように制御しており、室内の露点温度が高くなると、電子機器を冷却する蒸発器に供給する冷媒の温度が高くなり、電子機器が充分冷却できなくなる恐れがある。
以下に示す各図面において、同じ部材には同じ参照符号を付している。また、異なる図面において同じ参照符号が付されたものは、同じ機能を有する構成要素であることを意味するものとする。なお、これらの図面は見易くするために、縮尺を適宜変更している。また、図面に示される形態は、本発明を実施するための一つの例であり、本発明は図示された形態に限定されるものではない。
図1は、本発明の第1実施形態に係るレーザ装置1の概念的な構成を示すブロック図である。
レーザ装置1は、筐体2の内部に、レーザ発振器3と、レーザ発振器3に駆動電流を供給するレーザ電源部4と、冷却水配管系5と、冷却能力制御手段6と、少なくともレーザ電源部4と冷却能力制御手段6を制御する制御部7と、制御部7に指示を出す入力部8とを備えている。
レーザ装置1の電源がオンされ、制御が開始されると、制御部7は、まず、チラー16の運転状態を確認し(ステップS101)、チラー16が運転中か否かを判定する(ステップS102)。ここで、チラー16が運転中であれば(YESの場合)、入力部8から入力された情報を確認する(ステップS103)。ステップS102での判定で、チラー16が運転中でなければ(NOの場合)、チラー16の運転を開始し(ステップS104)、ステップS103に進む。
レーザ装置1の電源がオンされ、制御が開始されると、制御部7は、まず、チラー16の運転状態を確認する(ステップS101)。ここでは、チラー16は停止中なので、制御部7は、チラー16の運転を開始し(ステップS104)、入力部8からの入力情報を確認する(ステップS103)。ここでは光出力指令が出ていると判定されるので、制御部7は、温度検出手段15からの出力を読み込み(ステップS106)、包囲部材温度が切換温度以上であるか否かを判定する(ステップS107)。
包囲部材温度が切換温度より高い期間は、冷却水がチラー16から受熱冷却部11に連続的に常時給水される。包囲部材温度が下がって切換温度より低くなると、冷却水の供給が停止されるが、冷却水の供給が停止されたことによって包囲部材温度が切換温度まで上がってくると、再び冷却水の供給が開始されるので、冷却水の供給は断続的に行われる。その冷却水断続給水を行っている期間は、包囲部材温度はほぼ切換温度付近に維持される。
図4は、本発明の第2実施形態に係るレーザ装置100の概念的な構成を示すブロック図である。
図4に示すレーザ装置100が図1に示すレーザ装置1と異なる点は、筐体2の内部の空気の露点温度を検出するための露点温度検出手段19と、判定結果や警告等を表示するための表示部20が追加されている点である。
図5に示すフローチャートが図2に示すフローチャートと異なる点は、温度検出手段15からの出力読み込み(ステップS206)の後に、露点温度検出手段19からの出力読み込み(ステップS217)が追加された点と、図2に示すフローチャートでは、ステップS107で包囲部材温度と切換温度とを比較しているのに対して、図5に示すフローチャートでは、ステップS207で、包囲部材温度と露点温度検出手段19で検出された露点温度に所定温度を加えた温度とを比較している点である。
図7は、本発明の第3実施形態に係るレーザ装置200の概念的な構成を示すブロック図である。
図7に示すレーザ装置200が図4に示すレーザ装置100と異なる点は、包囲部材14と熱的に接続した補助加熱手段21が設置されている点である。本実施形態における補助加熱手段21は、例えば通電によって発熱するヒータからなり、包囲部材14の周囲を取り囲む枠のような形状を有し、受熱冷却部11に近い位置に、包囲部材14に接して設置されている。しかし、補助加熱手段21の形状や設置位置は、本実施形態に限定されるものではない。
図8は、本発明の第4実施形態に係るレーザ装置300の概念的な構成を示すブロック図であり、図9は、図8に記載されている複数のLDモジュール22の内の一つのLDモジュール22の断面を模式的に表した図である。
本実施形態に示すレーザ装置300において、レーザ発振器は、複数のLDモジュール22を発光源あるいは励起光源とするレーザ発振器3であり、発熱部は、LDモジュール22の構成要素の一つであるレーザダイオードチップ(LDチップ)23であり、包囲部材は、LDモジュール22の構成要素の一つであるパッケージ24であり、結露防止対象部は、LDチップ23を含むLDCOS(LD chip on substrate)25であり、LDチップ23の基板26が、発熱部支持部12に相当している。また、受熱冷却部11は板状の冷却板27としている。冷却水流路10は、この冷却板27の表面又は内部に設けられている。LDモジュール22内には複数のLDCOS25が配置されている。
=R(k/(k+1))Q1
TH1−TM1=r1q1
TM1−TC1=r2q1
TH2−TC2=R(Q2−q2)=(r1+r2)q2
=R(k/(k+1))Q2
TH2−TM2=r1q2
TM2−TC2=r2q2
k:k=(r1+r2)/R= 定数
Q1:標準駆動条件におけるpn接合の発熱量
q1:標準駆動条件における熱抵抗(r1、r2)を流れる熱量
TH1:標準駆動条件におけるpn接合の温度
TM1:標準駆動条件における温度検出部位の温度
TC1:標準駆動条件における冷却板の温度
Q2:Q1より小さいpn接合の発熱量
q2:pn接合の発熱量がQ1の条件において熱抵抗(r1、r2)を流れる熱量
TH2:pn接合の発熱量がQ1の条件におけるpn接合の温度
TM2:pn接合の発熱量がQ1の条件における温度検出部位の温度
TC2:pn接合の発熱量がQ1の条件における冷却板の温度
である。
TH2 =(TH1−TC1)Q2/Q1+TC1
TH2 =(TH1−TM1)Q2/Q1+TM2
(1)標準駆動条件の光出力を出力する条件で駆動されている場合(Q=Q1)と、(2)標準駆動条件より光出力が大きい条件で駆動されている場合(Q>Q1)と、(3)準駆動条件より光出力が小さい条件で駆動されている場合(Q<Q1)の3つの場合について、パッケージ24やLDCOS25への結露が確実に防止できると共に、pn接合の温度上昇によってLDチップ23の寿命消費が加速されないことを以下に述べる。なお、切換温度は、切換温度=(筐体2の内部の空気の露点温度+1℃)とする。
筐体2の内部の空気の温度が35℃で湿度95%でも、筐体2の内部の空気の露点温度は34.1℃なので、標準駆動条件における温度検出部位の温度(TM1)=38℃より低い。このため、少なくともタブ28等の突起部分を除くパッケージ24には、結露は発生しない。発熱源であるpn接合に近い基板26は、温度検出部位より更に温度が高くなるので、結露防止対象部であるLDCOS25にも結露は発生しない。
温度検出部位の温度が、TM1=38℃より更に高くなるので、パッケージ24やLDCOS25への結露が発生することはない。一方、LDチップ23の寿命消費は、光出力が標準駆動条件より大きく、pn接合の温度も標準駆動条件より高くなるので、標準駆動条件の場合より加速される。しかし、これは、標準光出力(定格光出力)を上回る光出力を出力したためであり、結露防止対策のためにLDチップ23の寿命消費が加速される訳ではない。
pn接合の発熱量が減少して、温度検出部位の温度が切換温度まで下がり、冷却能力の制御によって、温度検出部位の温度がほぼ切換温度と同じ温度に保たれるようになった場合のpn接合の温度を前述の式を用いて算出すると、図11に示したような結果が得られる。
温度検出手段の温度が、切換温度=(筐体2の内部の空気の露点温度+1℃)まで下がると、冷却水の供給を停止した場合は、温度検出部位の温度≧(筐体2の内部の空気の露点温度+1℃)なので、やはり、パッケージ24やLDCOS25に結露は発生しない。
図14は、本発明の第5実施形態に係るレーザ装置600の概念的な構成を示すブロック図である。
このレーザ装置600は、複数の発熱部9にそれぞれ熱的に接続した複数の受熱冷却部11と、複数の受熱冷却部11を冷却する冷却能力を独立して制御するための複数の冷却能力制御手段6と、複数の発熱部9と発熱部支持部12を含む結露防止対象部に近接して、それぞれの結露防止対象部を実質的に包囲する複数の包囲部材14と、複数の包囲部材14の所定部位の温度を検出する複数の温度検出手段15を備えている。また、制御部7は、それぞれの温度検出手段15によるそれぞれの検出結果に応じて、対応する受熱冷却部11を冷却する冷却能力を、対応する冷却能力制御手段6によってそれぞれ個別に制御するようにしている。図14には3つのレーザ発振器3が示されているが、レーザ発振器3の数は3つに限定されない。
図15は、本発明の第6実施形態に係るレーザ装置700の概念的な構成を示すブロック図である。
レーザ装置700は、複数のレーザ発振器3を備え、それぞれのレーザ発振器3におけるレーザ発振のために発熱する複数の発熱部9にそれぞれ熱的に接続した複数の受熱冷却部11と、複数の受熱冷却部11を冷却する冷却能力を一括して制御するための冷却能力制御手段6と、複数の発熱部9と発熱部支持部12を含む結露防止対象部に近接して、それぞれの結露防止対象部を実質的に包囲する複数の包囲部材14と、複数の包囲部材14の所定部位の温度を検出する複数の温度検出手段15を備えている。また、制御部7は、それぞれの温度検出手段15によるそれぞれの検出結果がほぼ同一温度になるように、対応するレーザ電源部4からレーザ発振器3に供給する電流を制御するようにしている。図15にも3つのレーザ発振器3が示されているが、レーザ発振器3の数は3つに限定されない。
2 筐体
3 レーザ発振器
4 レーザ電源部
5 冷却水配管系
6 冷却能力制御手段
7 制御部
8 入力部
9 発熱部
10 冷却水流路
11 受熱冷却部
12 発熱部支持部
13 結露防止対象部
14 包囲部材
15 温度検出手段
16 チラー
17 レーザ光
18 レーザ光学系
19 露点温度検出手段
20 表示部
21 補助加熱手段
22 LDモジュール
23 LD、LDチップ
24 (LDモジュールの)パッケージ
25 LDCOS(LD chip on substrate)
26 (LDチップの)基板
27 冷却板
28 (LDモジュールの)タブ
29 排水機構
30 毛細管部材
31 ヒータ
32 断熱材
A,B,C 電磁弁
Claims (15)
- 筐体を備えると共に、前記筐体の内部に、少なくとも一つ以上のレーザ発振器と、前記レーザ発振器に電流を供給する一つ以上のレーザ電源部とを有し、
前記レーザ発振器は、レーザ発振のために発熱する一つ以上の発熱部と、少なくとも前記発熱部を含む結露防止対象部に熱的に接続し、前記結露防止対象部を冷却するための冷却水を流す冷却水流路を有する一つ以上の受熱冷却部と、前記冷却水流路に冷却水を流すための冷却水配管系が接続されたレーザ装置であって、
更に、前記冷却水配管系を流れる冷却水によって前記受熱冷却部を冷却する冷却能力を制御するための一つ以上の冷却能力制御手段と、
少なくとも前記冷却能力制御手段及び前記レーザ電源部を制御する制御部と、
前記結露防止対象部に近接して前記結露防止対象部を包囲する包囲部材と、
前記包囲部材の所定部位の温度を検出し、その検出結果として包囲部材温度を前記制御部に出力する少なくとも一つ以上の温度検出手段と、を備え、
前記包囲部材は、前記レーザ装置あるいは前記レーザ発振器が、標準光出力のレーザ光を出射し、前記冷却能力制御手段によって前記受熱冷却部を冷却する冷却能力が標準水準に制御されている標準駆動条件で駆動されて実質的に平衡状態に達した状態において、前記発熱部の温度上昇に連動して、前記筐体の内部の空気に対して想定される最高露点温度より高温の包囲部材平衡温度になるように構成され、
前記制御部は、前記レーザ電源部に電流出力指令を出力している間、前記温度検出手段によって検出された前記包囲部材温度を、予め前記包囲部材平衡温度より低温に設定された切換温度と比較し、前記包囲部材温度が前記切換温度より低い時は、前記受熱冷却部を冷却する冷却能力が前記標準水準より低い低水準となるように前記冷却能力制御手段を制御し、前記包囲部材温度が前記切換温度以上である時は、前記受熱冷却部を冷却する冷却能力が前記標準水準あるいは前記標準水準より高水準となるように前記冷却能力制御手段を制御する、レーザ装置。 - 更に、前記筐体の内部の空気の露点温度を検出するための一つ以上の露点温度検出手段を備え、
前記露点温度検出手段によって検出された前記筐体の内部の空気の露点温度を筐体内露点温度としたとき、前記切換温度が、(切換温度)=(筐体内露点温度)+(所定温度)に設定されている、請求項1に記載のレーザ装置。 - 前記最高露点温度が、前記レーザ装置の許容設置環境条件、あるいは、設置条件仕様から導出される前記レーザ装置の周囲の空気における露点温度の上限である周囲上限露点温度に設定されている、請求項1又は2に記載のレーザ装置。
- 更に、前記筐体の内部の空気の露点温度が、前記周囲上限露点温度より高くなった場合に、前記制御部の制御によって、前記レーザ装置の設置環境が前記設置条件仕様の範囲から逸脱していることを視覚的又は聴覚的に通知する通知手段を備える、請求項3に記載のレーザ装置。
- 前記温度検出手段が設置される前記所定部位が、前記包囲部材における空気に接している表面あるいは表面の近傍の部位であって、前記レーザ装置あるいは前記レーザ発振器が前記平衡状態に達した状態において、前記包囲部材の突起部分を除いて最も温度の低い部位、あるいは最も温度の低い部位の温度に近い温度を示す部位に設定されている、請求項1〜4のいずれか1項に記載のレーザ装置。
- 前記包囲部材に熱的に接続した補助加熱手段を備え、
前記制御部は、前記レーザ装置あるいは前記レーザ発振器が前記平衡状態に達した状態において、前記温度検出手段によって検出される前記包囲部材温度が前記最高露点温度より高温になるように、前記補助加熱手段の発熱量を制御する、請求項1〜5のいずれか1項に記載のレーザ装置。 - 前記レーザ発振器は、少なくとも一つ以上のLDモジュールを発光源あるいは励起光源とするレーザ発振器であり、
少なくとも一つ以上の前記発熱部は、前記LDモジュールの構成要素の一つであるレーザダイオードチップであり、
前記包囲部材は、前記LDモジュールの構成要素の一つであるパッケージであり、
前記パッケージの内部に、少なくとも一つ以上の前記レーザダイオードチップが設置されている、請求項1〜6のいずれか1項に記載のレーザ装置。 - 前記受熱冷却部は、内部又は表面に前記冷却水流路が設けられた冷却板であり、
少なくとも一つ以上の前記LDモジュールが、前記冷却板に熱的に接続して配置されている、請求項7に記載のレーザ装置。 - 前記冷却板に複数の前記LDモジュールが配置されており、少なくとも、前記冷却板の前記冷却水流路に冷却水を流した時に最も上流側に近い位置に配置された前記LDモジュールの前記パッケージの表面あるいは表面近傍に、前記温度検出手段が設置されている、請求項8に記載のレーザ装置。
- 前記冷却能力制御手段は、冷却水の流路を開閉する開閉弁及び/又は冷却水の流路の流量を調整する流量調整弁を有し、
前記冷却能力制御手段の冷却能力の制御は、前記開閉弁又は前記流量調整弁による冷却水の給水・非給水又は流量の制御である、請求項1〜9のいずれか1項に記載のレーザ装置。 - 前記冷却水流路に冷却水を流すことによって前記筐体の内部に発生した結露水を、外部に排水する排水機構を備える、請求項1〜10のいずれか1項に記載のレーザ装置。
- 前記筐体の内部において、冷却水によって冷却される部位の少なくとも一ヶ所以上の表面に、断熱材が配置されている、請求項11に記載のレーザ装置。
- 前記筐体の内部で結露が発生する部分に、結露による腐食を抑制するために防錆処理が施されている、あるいは、前記筐体の内部で結露が発生する部分の材質が防錆材である、請求項11又は12に記載のレーザ装置。
- 複数の前記発熱部にそれぞれ熱的に接続した複数の前記受熱冷却部と、
複数の前記受熱冷却部を冷却する冷却能力を独立して制御するための複数の前記冷却能力制御手段と、
複数の前記発熱部を含む前記結露防止対象部に近接して、それぞれの前記結露防止対象部を包囲する複数の前記包囲部材と、
複数の前記包囲部材の前記所定部位の温度を検出する複数の前記温度検出手段と、を備え、
前記制御部は、それぞれの前記温度検出手段の検出結果に応じて、対応する前記受熱冷却部を冷却する冷却能力を制御する前記冷却能力制御手段をそれぞれ個別に制御する、請求項1〜13のいずれか1項に記載のレーザ装置。 - 複数の前記レーザ発振器を備え、
それぞれの前記レーザ発振器におけるレーザ発振のために発熱する複数の前記発熱部にそれぞれ熱的に接続した複数の前記受熱冷却部と、
複数の前記受熱冷却部を冷却する冷却能力を一括して制御するための前記冷却能力制御手段と、
複数の前記発熱部を含む前記結露防止対象部に近接して、それぞれの前記結露防止対象部を包囲する複数の前記包囲部材と、
複数の前記包囲部材の前記所定部位の温度を検出する複数の前記温度検出手段を備え、
前記制御部は、それぞれの前記温度検出手段の検出結果が同一温度になるように、対応する前記レーザ電源部から前記レーザ発振器に供給する電流を制御する、請求項1〜13のいずれか1項に記載のレーザ装置。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113138520A (zh) * | 2020-01-17 | 2021-07-20 | 中强光电股份有限公司 | 投影装置以及散热控制方法 |
JP2021168462A (ja) * | 2020-04-13 | 2021-10-21 | 三菱電機株式会社 | アレイアンテナ装置 |
WO2021246307A1 (ja) * | 2020-06-03 | 2021-12-09 | ファナック株式会社 | レーザ装置 |
KR20220116843A (ko) | 2021-02-16 | 2022-08-23 | 동아대학교 산학협력단 | 폐 리튬이온 배터리 내 유가금속 회수방법 |
WO2023037460A1 (ja) * | 2021-09-08 | 2023-03-16 | ファナック株式会社 | レーザ発振器及びレーザ加工装置の加工制御装置 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6619410B2 (ja) * | 2017-12-05 | 2019-12-11 | ファナック株式会社 | レーザ加工装置 |
JP7114984B2 (ja) * | 2018-03-29 | 2022-08-09 | 株式会社島津製作所 | 水中用レーザ光源 |
JP7088861B2 (ja) * | 2019-02-12 | 2022-06-21 | ファナック株式会社 | 除湿機能を高めたレーザ発振器 |
US20220337014A1 (en) * | 2021-04-16 | 2022-10-20 | General Electric Company | Thermal control apparatus for laser system |
DE102021110857A1 (de) | 2021-04-28 | 2022-11-03 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Optisches Messgerät |
CN113187754B (zh) * | 2021-05-11 | 2023-03-28 | 珠海泰坦新动力电子有限公司 | 具有防凝露功能的风机控制方法及系统 |
CN114384404B (zh) * | 2022-03-23 | 2022-08-23 | 上海菲莱测试技术有限公司 | 一种冷却测试装配单元及老化冷却设备 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0577992U (ja) * | 1992-03-27 | 1993-10-22 | 沖電気工業株式会社 | 電子機器収納棚箱 |
JP2002076500A (ja) * | 2000-08-22 | 2002-03-15 | Keyence Corp | 半導体レーザの冷却機構および冷却方法 |
JP2006196644A (ja) * | 2005-01-13 | 2006-07-27 | Fanuc Ltd | レーザ装置 |
JP2010219516A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-30 | Gigaphoton Inc | ガスレーザ装置用温度調節装置 |
CN104083211A (zh) * | 2014-07-17 | 2014-10-08 | 山东杰美医疗科技有限公司 | 一种半导体激光脱毛仪中半导体激光器的保护方法 |
JP2016219456A (ja) * | 2015-05-14 | 2016-12-22 | ファナック株式会社 | 結露の発生を予測する機能を備えたレーザ装置 |
JP2017005141A (ja) * | 2015-06-11 | 2017-01-05 | ファナック株式会社 | レーザ発振部、空気冷却機、および除湿器を共通の冷却水にて冷却するレーザ装置 |
JP2017103414A (ja) * | 2015-12-04 | 2017-06-08 | ファナック株式会社 | 結露防止機能を有するレーザ装置 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2550889C2 (de) | 1975-11-13 | 1985-05-23 | Wankel Gmbh, 8990 Lindau | Innendichtung für Rotationskolbenmaschinen |
JPS551119A (en) | 1978-06-16 | 1980-01-07 | Canon Inc | Semiconductor laser apparatus |
JPH0632336B2 (ja) | 1984-09-26 | 1994-04-27 | 三田工業株式会社 | 半導体レーザ装置 |
JP3315461B2 (ja) | 1993-04-20 | 2002-08-19 | オリンパス光学工業株式会社 | 波長安定化光源の結露防止装置 |
JP2001326410A (ja) | 2000-05-16 | 2001-11-22 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 半導体レーザ冷却装置 |
US7058100B2 (en) | 2002-04-18 | 2006-06-06 | The Boeing Company | Systems and methods for thermal management of diode-pumped solid-state lasers |
JP2004253525A (ja) | 2003-02-19 | 2004-09-09 | Nec Corp | 半導体レーザ装置及び半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
US7164703B2 (en) | 2003-02-20 | 2007-01-16 | Lambda Physik Ag | Temperature control systems for excimer lasers |
JP3775397B2 (ja) | 2003-03-27 | 2006-05-17 | 住友電気工業株式会社 | 光送信モジュール |
JP2008093330A (ja) | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Shimadzu Corp | X線診断装置 |
JP4797004B2 (ja) | 2007-09-03 | 2011-10-19 | 株式会社日立製作所 | レーザダイオードの制御方法及びレーザダイオード制御装置並びに情報記録再生装置 |
JP2009072361A (ja) | 2007-09-20 | 2009-04-09 | Fujifilm Corp | 放射線画像撮影装置 |
JP4816974B2 (ja) | 2008-03-24 | 2011-11-16 | 株式会社日立プラントテクノロジー | 電子機器の冷却システム |
JP5482985B2 (ja) | 2009-03-11 | 2014-05-07 | ソニー株式会社 | 光安定化装置、光安定化方法および印刷装置 |
EP2556745A1 (en) | 2010-04-09 | 2013-02-13 | Sharp Kabushiki Kaisha | Lighting device, plant cultivation device, and method for cooling lighting device |
US9341792B2 (en) * | 2010-06-29 | 2016-05-17 | Cisco Technology, Inc. | Vent structures for encapsulated components on an SOI-based photonics platform |
JP2012059993A (ja) | 2010-09-10 | 2012-03-22 | Miyachi Technos Corp | レーザ装置及びその制御方法 |
JP2012089417A (ja) | 2010-10-21 | 2012-05-10 | Harison Toshiba Lighting Corp | 光源装置 |
JP6366288B2 (ja) | 2014-02-07 | 2018-08-01 | 三菱電機株式会社 | 光源装置およびプロジェクタ装置 |
WO2015186258A1 (ja) * | 2014-06-06 | 2015-12-10 | 三菱電機株式会社 | 光源装置、および光源装置を備えた投写型映像表示装置 |
US9966731B2 (en) * | 2014-10-01 | 2018-05-08 | Nlight, Inc. | Cryogenic cooling of diode laser with coolant recovery |
JP6259419B2 (ja) | 2015-06-01 | 2018-01-10 | ファナック株式会社 | 扉の開放の可否を判定する機能を備えたレーザ装置 |
JP6267164B2 (ja) | 2015-08-24 | 2018-01-24 | ファナック株式会社 | 保守作業用の温度管理機能を有するレーザ装置 |
JP6259435B2 (ja) | 2015-10-28 | 2018-01-10 | ファナック株式会社 | レーザ光を合波して出力するレーザ発振器 |
JP6360090B2 (ja) | 2016-03-10 | 2018-07-18 | ファナック株式会社 | 機械学習装置、レーザ装置および機械学習方法 |
JP6412042B2 (ja) | 2016-03-29 | 2018-10-24 | ファナック株式会社 | レーザ発振器 |
JP6367900B2 (ja) * | 2016-12-14 | 2018-08-01 | ファナック株式会社 | レーザ装置 |
JP7022901B2 (ja) * | 2017-07-07 | 2022-02-21 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 半導体レーザ装置 |
US10454244B2 (en) * | 2017-08-09 | 2019-10-22 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Driver circuitry and systems for high current laser diode arrays |
JP6629812B2 (ja) * | 2017-10-10 | 2020-01-15 | ファナック株式会社 | レーザ発振器 |
WO2020004288A1 (ja) * | 2018-06-29 | 2020-01-02 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | レーザ装置及びレーザ装置の除湿管理方法 |
-
2017
- 2017-10-06 JP JP2017195848A patent/JP6640811B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0577992U (ja) * | 1992-03-27 | 1993-10-22 | 沖電気工業株式会社 | 電子機器収納棚箱 |
JP2002076500A (ja) * | 2000-08-22 | 2002-03-15 | Keyence Corp | 半導体レーザの冷却機構および冷却方法 |
JP2006196644A (ja) * | 2005-01-13 | 2006-07-27 | Fanuc Ltd | レーザ装置 |
JP2010219516A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-30 | Gigaphoton Inc | ガスレーザ装置用温度調節装置 |
CN104083211A (zh) * | 2014-07-17 | 2014-10-08 | 山东杰美医疗科技有限公司 | 一种半导体激光脱毛仪中半导体激光器的保护方法 |
JP2016219456A (ja) * | 2015-05-14 | 2016-12-22 | ファナック株式会社 | 結露の発生を予測する機能を備えたレーザ装置 |
JP2017005141A (ja) * | 2015-06-11 | 2017-01-05 | ファナック株式会社 | レーザ発振部、空気冷却機、および除湿器を共通の冷却水にて冷却するレーザ装置 |
JP2017103414A (ja) * | 2015-12-04 | 2017-06-08 | ファナック株式会社 | 結露防止機能を有するレーザ装置 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113138520A (zh) * | 2020-01-17 | 2021-07-20 | 中强光电股份有限公司 | 投影装置以及散热控制方法 |
US11256165B2 (en) | 2020-01-17 | 2022-02-22 | Coretronic Corporation | Projection device and heat dissipation control method |
JP2021168462A (ja) * | 2020-04-13 | 2021-10-21 | 三菱電機株式会社 | アレイアンテナ装置 |
JP7458873B2 (ja) | 2020-04-13 | 2024-04-01 | 三菱電機株式会社 | アレイアンテナ装置 |
WO2021246307A1 (ja) * | 2020-06-03 | 2021-12-09 | ファナック株式会社 | レーザ装置 |
JP7436661B2 (ja) | 2020-06-03 | 2024-02-21 | ファナック株式会社 | レーザ装置 |
KR20220116843A (ko) | 2021-02-16 | 2022-08-23 | 동아대학교 산학협력단 | 폐 리튬이온 배터리 내 유가금속 회수방법 |
WO2023037460A1 (ja) * | 2021-09-08 | 2023-03-16 | ファナック株式会社 | レーザ発振器及びレーザ加工装置の加工制御装置 |
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