JP2019063784A - 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
担体(X)若しくは担体(X)の原料、及び前記助触媒体(Y)の原料を、又は担体(X)及び助触媒体(Y)を、100℃以上の水熱反応に付す工程を有する上記排ガス浄化用触媒の製造方法を提供するものである。
図1は、本発明の排ガス浄化用触媒の構造の一例を模式的に示す図面である。なお、図1において、図面上の寸法比と実際の寸法比は一致していない。
上述したように、本発明の排ガス浄化用触媒を構成する担体(X)は、助触媒体(Y)を担持させる基材を構成すると共に、シンタリングによる助触媒体(Y)の比表面積の減少を抑制する目的で設けられている。
本発明の排ガス浄化用触媒が備える助触媒体(Y)は、図1に模式的に示されるように、担体(X)の表面に担持されている。
本発明の排ガス浄化用触媒が備える貴金属粒子(Z)は、その少なくとも一部が、助触媒体(Y)の表面に担持されてなる、触媒としての作用を担う粒子である。貴金属粒子(Z)は、貴金属(M3)からなる。貴金属(M3)は、Pt、Pd、及びRhからなる群より選ばれた1種又は2種以上である。
すなわち、本発明の排ガス浄化用触媒によれば、高温域でのシンタリングが生じにくく、助触媒体(Y)及び貴金属粒子(Z)の双方が高い比表面積を維持できるため、触媒活性の低下が抑制される。また、担体(X)及び助触媒体(Y)の少なくとも一方を中空ナノロッド形状にすることによって、助触媒体(Y)及び貴金属粒子(Z)が担持できる表面が増大し、担持される助触媒体(Y)同士又は貴金属粒子(Z)同士の間隔を有効に確保しつつ、多量の貴金属粒子(Z)を担持することができるため、より優れた触媒性能を得ることができる。更に、担体(X)及び助触媒体(Y)の双方を中空ナノロッド形状にすることによって、その効果をより高めることができる。
次に、本発明の排ガス浄化用触媒の製造方法について説明する。なお、詳細は実施例の項で後述される。
第一の製造方法は、担体(X)の原料、助触媒体(Y)の原料、及び貴金属粒子(Z)の原料に、水とpH調整剤を混合して得られた水溶液Aを、100℃以上の水熱反応に付して排ガス浄化用触媒を得る製造方法である。
第二の製造方法は、担体(X)、助触媒体(Y)の原料、及び貴金属粒子(Z)の原料に、水とpH調整剤を混合して、得られたスラリーCを100℃以上の水熱反応に付して排ガス浄化用触媒を得る製造方法である。
(I) Alを主要成分とするセラミックス原料化合物と、有機質繊維と、アルカリ溶液とを含有するスラリーDを調製する工程、
(II) 得られたスラリーDを水熱反応に付して、前記有機質繊維と該有機質繊維を被覆するベーマイトからなる複合物を得る工程、及び
(III) 得られた複合物を焼成反応に付して、Al2O3の中空担体(X)を得る工程
を備える。
第三の製造方法は、担体(X)、助触媒体(Y)、及び貴金属粒子(Z)の原料に、水とpH調整剤を混合して、得られたスラリーFを100℃以上の水熱反応に付して排ガス浄化用触媒を得る製造方法である。
上記第一〜第三の製造方法のいずれを採用しても、本発明の、耐熱性に優れる酸化物(M1)からなる担体(X)に、酸素吸蔵能を有する金属酸化物(M2)からなる助触媒体(Y)が担持されてなり、かつ助触媒体(Y)の表面に貴金属粒子(Z)が担持されてなる排ガス浄化用触媒を得ることができる。
Al2(SO4)3・16H2O 0.79g、セルロースナノファイバー 2.31g(ダイセルファインケム社製 PC110T、含水量65質量%)、及び水72.3mLを60分間混合してスラリーA1を作製した。得られたスラリーA1に、10質量%濃度のNaOH水溶液3.0mLを添加し、5分間混合してpH10のスラリーA2を作製した。
水30mLにNaOH 12gを混合して、水溶液B1を得た。また、水50mLにAl2(SO4)3・16H2O 31.51gを混合して水溶液B2を得た。次いで、得られた水溶液B2を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて撹拌し、水溶液B1を50mL/分で滴下してスラリーB3を得た。かかるスラリーB3のpHは9.5であり、Al 1モルに対して3モルのNaを含有していた。
エタノール300mLにアルミニウムイソプロポキシド12gを混合し、溶液C1を得た。次いで、得られた溶液C1を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて撹拌し、28%アンモニア水を50mL/分で滴下してゲルC2を得た。ゲルC2を90℃で10時間養生した後、空気雰囲気下700℃で2時間の焼成により、γ-Al2O3(平均粒径:10nm、BET比表面積:190m2/g)を得た。
Ce(NO3)3・6H2O 1.11g、製造例1で得られた中空ナノロッド形状のAl2O3 1.28g、及び水55mLを60分間混合してスラリーD1を作製した。得られたスラリーD1に、10質量%濃度のNaOH水溶液9mLを添加し、5分間混合してスラリーD2を作製した。
水30mLに製造例2で得られたベーマイト1.5g及びCe(NO3)3・6H2O 0.33gを混合して、スラリーE1を得た。また、水10mLにNaOH 0.3gを混合して、水溶液E2を得た。次いで、得られたスラリーE1を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて撹拌し、水溶液E2を50mL/分で滴下してスラリーE3を得た。かかるスラリーE3のpHは13.5であり、Al 1モルに対して0.03モルのCeを含有していた。
実施例2において、Ce(NO3)3・6H2O 0.33gを、Ce(NO3)3・6H2O 0.17g及びZrO(NO3)2・2H2O 0.14gに変更した以外(本実施例3で得られたスラリーE3のpHは13.5)、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P3を得た。得られた排ガス浄化用触媒P3のBET比表面積は170m2/gであった。
実施例2において、Ce(NO3)3・6H2O 0.33gを、Ce(NO3)3・6H2O 0.3g及びLa(NO3)3・6H2O 0.02gに変更した以外(本実施例4で得られたスラリーE3のpHは13.5)、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P4を得た。得られた排ガス浄化用触媒P4のBET比表面積は170m2/gであった。
実施例2において、Ce(NO3)3・6H2O 0.33gを、Ce(NO3)3・6H2O 0.17g、ZrO(NO3)2・2H2O 0.11g、及びLa(NO3)3・6H2O 0.02gに変更した以外(本実施例5で得られたスラリーE3のpHは13.5)、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P5を得た。得られた排ガス浄化用触媒P5のBET比表面積は170m2/gであった。
実施例2において、1%RhCl3水溶液2.72gを、1%RhCl3水溶液1.36g及び1%PdCl3水溶液0.85gに変更した以外(本実施例6で得られたスラリーE3のpHは13.0)、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P6を得た。得られた排ガス浄化用触媒P6のBET比表面積は170m2/gであった。
実施例2において、1%RhCl3水溶液0.65g及び1%H2PtCl6水溶液2.72gを、1%RhCl3水溶液3.25gに変更した以外(本実施例7で得られたスラリーE3のpHは13.0)、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P7を得た。得られた排ガス浄化用触媒GのBET比表面積は170m2/gであった。
水50mLにAl2(SO4)3・16H2O 7.88g、Ce(NO3)3・6H2O 0.33g、1%RhCl3水溶液0.65g及び1%H2PtCl6水溶液 2.72gを混合して、水溶液F1を得た。また、水40mLにNaOH 3.30gを混合して、水溶液F2を得た。次いで、得られた水溶液F1を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて撹拌し、水溶液F2を50mL/分で滴下してスラリーF3を得た。かかるスラリーF3のpHは13.0であり、Al 1モルに対して0.03モルのCe、0.001モルのRh、及び0.002モルのPtを含有していた。
水50mLにAl2(SO4)3・16H2O 7.88g、及びCe(NO3)3・6H2O 0.33gを混合して、水溶液G1を得た。また、水20mLにNaOH 3.3gを混合して、水溶液G2を得た。次いで、得られた水溶液G1を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて撹拌し、水溶液G2を50mL/分で滴下してスラリーG3を得た。かかるスラリーG3のpHは13.5であり、Al 1モルに対して0.03モルのCeを含有していた。
水30mLに、製造例2で得られたベーマイト1.50g、Ce(NO3)3・6H2O 0.33g、1%RhCl3水溶液0.65g及び1%H2PtCl6水溶液2.72gを混合して、スラリーH1を得た。また、水10mLにNaOH 0.3gを混合して、水溶液H2を得た。次いで、得られたスラリーH1を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて撹拌し、水溶液H2を50mL/分で滴下してスラリーH3を得た。かかるスラリーH3のpHは13.0であり、Al 1モルに対して0.03モルのCe、0.001モルのRh及び0.002モルのPtを含有していた。
製造例2で得られたベーマイト1.50gの代わりに、製造例3(ゾルゲル法)で得られたγ-Al2O3 1.27gを用いた以外、実施例10と同様にして排ガス浄化用触媒P11を得た。得られた排ガス浄化用触媒P11のBET比表面積は165m2/gであった。
実施例2において、NaOHの添加量0.30gを0.15gとした以外、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P12を得た。本実施例12において、スラリーE3のpHは11.5であり、スラリーE5のpHは10.5であった。得られた排ガス浄化用触媒P12のBET比表面積は170m2/gであった。
実施例2において、NaOH 0.30gを、28%アンモニア水0.94gとした以外、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P13を得た。本実施例13において、スラリーE3のpHは13.5であり、スラリーE5のpHは13.0であった。得られた排ガス浄化用触媒P13のBET比表面積は170m2/gであった。
実施例2で得られたスラリーE4を吸引ろ過し、次いで得られた固形分を、固形分1質量部に対して10質量部の水で洗浄した。洗浄後の固形分を−50℃で12時間凍結乾燥して、空気雰囲気下500℃で6時間焼成することにより粉末I1を得た。水20mLに得られた粉末I1 1.65g、1%RhCl3水溶液0.65g及び1%H2PtCl6水溶液2.72gを混合してスラリーI2を得た。
実施例14のCe(NO3)3・6H2O 0.33gを、Ce(NO3)3・6H2O 0.17g及びZrO(NO3)2・2H2O 0.14gに変更した以外、実施例14と同様にして排ガス浄化用触媒P15を得た。得られた排ガス浄化用触媒P15のBET比表面積は165m2/gであった。
実施例14の1%H2PtCl6水溶液2.72gを、1%H2PtCl6水溶液1.36g及び1%PdCl3水溶液0.85gに変更した以外、実施例14と同様にして排ガス浄化用触媒P16を得た。得られた排ガス浄化用触媒P16のBET比表面積は165m2/gであった。
水20mLに、Ce(NO3)3・6H2O 0.33g、及び製造例2で得られたベーマイト1.5gを混合して、スラリーJ1を得た。かかるスラリーJ1は、Al 1モルに対して0.03モルのCeを含有していた。次いで、得られたスラリーJ1を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて3時間撹拌し、エバポレータを用いて水を除去し、粉末J2を得た。得られた粉末J2を、空気雰囲気下500℃で3時間焼成し、粉末J3を得た。
比較例1のCe(NO3)3・6H2O 0.33gを、Ce(NO3)3・6H2O 0.17g及びZrO(NO3)2・2H2O 0.14gに変更した以外、比較例1と同様にして排ガス浄化用触媒Q2を得た。得られた排ガス浄化用触媒Q2のBET比表面積は155m2/gであった。
実施例2、3、及び14、並びに比較例1及び2で得られた排ガス浄化用触媒について、Pt、Rh及びCeO2(Ce0.5Zr0.5O2)の粒径及び粒子形状を確認するため、STEM(ARM-200F、日本電子社製)観察を行った。STEM写真を図3A〜図3Eに示す。
全ての実施例及び全ての比較例で得られた排ガス浄化用触媒を用い、有害成分であるCO、C3H6及びNOの分解活性を評価した。
2 : 排ガス浄化触媒(従来技術)
X : 担体
Y,y : 助触媒体
Z : 貴金属粒子
Claims (13)
- 酸化物(M1)からなる担体と、
前記担体の表面に担持された、酸素吸蔵能を有する金属酸化物(M2)からなる助触媒体と、
前記助触媒体の表面に担持された、Pt、Pd、及びRhからなる群より選ばれた1種又は2種以上からなる貴金属粒子と、を有し、
前記担体及び前記助触媒体の少なくとも一つは、前記酸化物(M1)又は前記金属酸化物(M2)の一次粒子が集合して形成された、中空のナノロッド形状を呈することを特徴とする排ガス浄化用触媒。 - 前記助触媒体は、前記金属酸化物(M2)の一次粒子が集合して形成された、中空のナノロッド形状を呈し、
前記金属酸化物(M2)は、CeO2、CeO2-ZrO2、CeO2-La2O3、及びCeO2-ZrO2-La2O3からなる群より選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする、請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。 - 前記助触媒体は、粒径が1nm〜20nmの、前記金属酸化物(M2)の一次粒子が集合して形成された、アスペクト比が2〜30、及び肉厚が1nm〜20nmの中空のナノロッド形状であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記酸化物(M1)は、Al2O3、TiO2、ZrO2、及びSiO2からなる群より選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記担体は、前記酸化物(M1)の一次粒子が集合して形成された、中空のナノロッド形状を呈することを特徴とする、請求項4に記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記担体は、粒径が5nm〜5μmの前記酸化物(M1)の一次粒子が集合して形成された、長軸方向の長さが100nm〜1000μmの中空のナノロッド形状であることを特徴とする、請求項5に記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記貴金属粒子は、粒径が0.1nm〜5nmであることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の排ガス浄化用触媒。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法であって、
前記担体若しくは前記担体の原料、及び前記助触媒体の原料を、又は前記担体及び前記助触媒体を、100℃以上の水熱反応に付す工程を有することを特徴とする排ガス浄化用触媒の製造方法。 - 前記担体を構成する前記酸化物(M1)の原料、前記助触媒体を構成する前記金属酸化物(M2)の原料、前記貴金属粒子の原料、及びpH調整剤を含むスラリーを100℃以上の水熱反応に付す工程を有することを特徴とする、請求項8に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。
- 前記担体を構成する前記酸化物(M1)の原料、前記助触媒体を構成する前記金属酸化物(M2)の原料、及びpH調整剤を含むスラリーを100℃以上の水熱反応に付して混合物を得る工程と、
前記混合物に前記貴金属粒子を担持させる工程と、を有することを特徴とする請求項9に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。 - 前記担体を得る工程と、
前記担体、前記助触媒体を構成する前記金属酸化物(M2)の原料、前記貴金属粒子の原料、及びpH調整剤を含むスラリーを100℃以上の水熱反応に付す工程と、を有することを特徴とする請求項8に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。 - 前記担体を得る工程と、
前記担体、前記助触媒体を構成する前記金属酸化物(M2)の原料、及びpH調整剤を含むスラリーを100℃以上の水熱反応に付して混合物を得る工程と、
前記混合物に前記貴金属粒子を担持させる工程と、を有することを特徴とする請求項8に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。 - 前記貴金属粒子の原料を含むスラリーを水熱反応に付す工程の後に、焼成工程を有することを特徴とする請求項8〜12のいずれか1項に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。
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