JP2019063784A - 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】貴金属の担持量を増加させることなく、高温域及び低温域の双方において、良好な触媒活性を示す排ガス浄化用触媒を提供する。【解決手段】排ガス浄化用触媒は、酸化物(M1)からなる担体と、担体の表面に担持された、酸素吸蔵能を有する金属酸化物(M2)からなる助触媒体と、助触媒体の表面に担持された、Pt、Pd、及びRhからなる群より選ばれた1種又は2種以上からなる貴金属粒子と、を有し、担体及び助触媒体の少なくとも一つは、酸化物(M1)又は金属酸化物(M2)の一次粒子が集合して形成された、中空のナノロッド形状を呈する。【選択図】 図1

Description

本発明は、排ガス浄化用触媒、特に自動車などの内燃機関から排出される排ガスの浄化用触媒に関する。また、本発明は、このような排ガス浄化用触媒の製造方法に関する。
自動車などの内燃機関から排出される排ガスには、一酸化炭素(CO)、窒素酸化物(NOx)、炭化水素(Cxy)などの、人体に有害な成分が含まれている。これらの有害成分は排ガス浄化用触媒によって浄化されてから大気中に放出される。この触媒として、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、又はロジウム(Rh)などの貴金属を多孔質担体に担持させてなる三元触媒が広く用いられている。
この三元触媒として、担体であるアルミナ(Al23)の表面に、触媒材料としての貴金属である白金(Pt)、パラジウム(Pd)、又はロジウム(Rh)と、酸素吸蔵能を有する助触媒体材料としての、酸化セリウム(CeO2:「セリア」と称する場合もある。)、酸化セリウムと酸化ジルコニウムの複合酸化物(CeO2-ZrO2)、又は酸化セリウムと酸化ランタンの複合酸化物(CeO2-La23)とが担持されたものが用いられる。
ところで、内燃機関から排出される排ガスの温度は、内燃機関の負荷条件等によって、200℃〜1200℃の幅広い温度域をとる。特に1000℃以上の高温域では、触媒である貴金属は、シンタリングによって比表面積が小さくなり、三元触媒の触媒活性が低下する。その対策として、貴金属を多量に有する排ガス浄化用触媒が考えられるものの、コスト面から現実的でなく、多量の貴金属を用いなくても高温環境下で高い触媒活性を維持する排ガス浄化用触媒が求められている。
例えば、特許文献1には触媒と助触媒体の微粒子に加えて、コバルト(Co)、マンガン(Mn)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、マグネシウム(Mg)、ランタン(La)及びストロンチウム(Sr)のうちの1種又は2種以上の元素と、鉄(Fe)とを多孔質の担体に担持することで、高温域での助触媒のシンタリングを抑制する技術が開示されている。
更に、例えば、内燃機関と電動機(モーター)を動力源として備えたハイブリッド自動車のように、動力源のハイブリッド化等の進展によって、内燃機関から排出される排ガス温度は、より低温域に拡大していくと考えられ、排ガス浄化用触媒には低温域においても高い触媒活性が求められる。
例えば、特許文献2には、触媒の貴金属としてAuとRhを用い、Auを中央部分の最大成分とし、Rhを外周部分の最大成分としたAuとRhを含む複合微粒子とすることで、Rhの酸化による触媒活性の低下を抑制して、低温域での触媒活性を向上できることが記載されている。また、特許文献3には、炭化ケイ素の表面に酸化物層に覆われた貴金属粒子を担持することで、貴金属粒子と酸化物層の界面相互作用によって、低温での触媒活性を向上できることが記載されている。
特開2016−209862号公報 特開2012−179573号公報 特開2015−9213号公報
しかしながら、特許文献1の方法では高温域での助触媒のシンタリングは抑制できるものの、触媒を構成する貴金属自体のシンタリングの抑制については言及されておらず、高温域において触媒活性を維持する技術については、検討の余地がある。
また、特許文献2の方法では、高温域での貴金属のシンタリングによる三元触媒の触媒活性の低下を抑制することはできない。更に、特許文献3の方法では炭化ケイ素が800℃以上で酸化してしまうため、やはり高温域での三元触媒の触媒活性の低下を抑制することができない。
本発明は、上記の課題に鑑み、貴金属の担持量を増加させることなく、高温域及び低温域の双方において、良好な触媒活性を示す三元触媒からなる排ガス浄化用触媒及びその製造方法を提供することを目的とする。
そこで本発明者らは、種々検討したところ、表面に特定の貴金属微粒子が担持された酸素吸蔵能を有する金属酸化物又は金属複合酸化物が、特定の担体に担持することで、低温域から高温域にわたって高い触媒活性を保持することのできる排ガス浄化用触媒が得られることを見出した。
すなわち、本発明は、耐熱性に優れる酸化物(M1)からなる担体(X)に、酸素吸蔵能を有する金属酸化物(M2)からなる助触媒体(Y)が担持されてなり、かつ助触媒体(Y)の表面に、貴金属(M3)の粒子(Z)(M3は、Pt、Pd、又はRhの少なくとも1種を示す。)が担持されてなる排ガス浄化用触媒を提供するものである。
更に、本発明は、担体(X)及び助触媒体(Y)の少なくとも一方が、中空のナノロッド形状を呈する、排ガス浄化用触媒を提供するものである。より詳細には、担体(X)が酸化物(M1)の一次粒子が集合して形成された中空のナノロッド形状を呈するか、助触媒体(Y)が金属酸化物(M2)の一次粒子が集合して形成された中空のナノロッド形状を呈するか、又はその両者である。
担体(X)を構成する酸化物(M1)は、好ましくは、Al23、TiO2、ZrO2、及びSiO2からなる群より選ばれた1種又は2種以上である。助触媒体(Y)を構成する金属酸化物(M2)は、好ましくは、CeO2、CeO2-ZrO2、CeO2-La23、及びCeO2-ZrO2-La23からなる群より選ばれた1種又は2種以上である。
また、本発明は、
担体(X)若しくは担体(X)の原料、及び前記助触媒体(Y)の原料を、又は担体(X)及び助触媒体(Y)を、100℃以上の水熱反応に付す工程を有する上記排ガス浄化用触媒の製造方法を提供するものである。
本発明によれば、貴金属の担持量を増加させることなく、低温域では高い触媒活性を保持しつつ、高温域における貴金属のシンタリングを有効に抑制して触媒活性の低下を効果的に抑制し、幅広い温度範囲において高い触媒活性を発現する排ガス浄化用触媒を実現することができる。
本発明の排ガス浄化用触媒の構造の一例を模式的に示す図面である。 従来の排ガス浄化触媒の構造を模式的に示す図面である。 実施例2の排ガス浄化用触媒のSTEM像である。 実施例3の排ガス浄化用触媒のSTEM像である。 実施例14の排ガス浄化用触媒のSTEM像である。 比較例1の排ガス浄化用触媒のSTEM像である。 比較例2の排ガス浄化用触媒のSTEM像である。 実施例2の排ガス浄化用触媒のSTEM−EDX分析結果における各元素観察像である。 実施例14の排ガス浄化用触媒のSTEM−EDX分析結果における各元素観察像である。 比較例1の排ガス浄化用触媒のSTEM−EDX分析結果における各元素観察像である。
以下、本発明について詳細に説明する。
[排ガス浄化用触媒の構成]
図1は、本発明の排ガス浄化用触媒の構造の一例を模式的に示す図面である。なお、図1において、図面上の寸法比と実際の寸法比は一致していない。
本発明の排ガス浄化用触媒(符号1によって表記している。)は、図1に模式的に示されるように、耐熱性に優れる酸化物(M1)からなる担体(X)に、酸素吸蔵能を有する金属酸化物(M2)からなる助触媒体(Y)が担持されてなり、且つ、助触媒体(Y)の表面に貴金属(M3)の粒子(Z)が担持されてなる。なお、以下では、金属酸化物(M2)がセリウム(Ce)含有酸化物であるものとして説明する。
すなわち、本発明の排ガス浄化用触媒は、表面に貴金属(M3)粒子(Z)が担持されたセリウム含有酸化物(M2)からなる助触媒体(Y)が、金属酸化物(M1)からなる担体(X)の表面に担持した特異な形状を有している。この特異な形状を呈することにより、耐熱性に優れる金属酸化物(M1)の表面に強固に担持された酸化物(M2)は、高温下においても酸化物(M2)同士のシンタリングが有効に抑制される。
更に、助触媒体(Y)を、セリウム含有酸化物(M2)で構成することで、貴金属(M3)粒子(Z)は、セリウム含有酸化物(M2)とのアンカー効果によって助触媒体(Y)の表面に強固に担持されるので、高温域における貴金属(M3)のシンタリングも有効に抑制することを可能とする。なお、「アンカー効果」とは、セリウム含有酸化物(M2)中のCeと、貴金属(M3)粒子(Z)間に生じる、Pt−O−Ce、Rh−O−Ce、Pd−O−Ce等の強固な化学結合をいう。
以下、担体(X)、助触媒体(Y)、及び貴金属粒子(Z)のそれぞれについて、詳述する。
<担体(X)>
上述したように、本発明の排ガス浄化用触媒を構成する担体(X)は、助触媒体(Y)を担持させる基材を構成すると共に、シンタリングによる助触媒体(Y)の比表面積の減少を抑制する目的で設けられている。
排ガス浄化用触媒は、1000℃にも達する高温の排ガスが通過する可能性があることから、高い耐熱性を有することが好ましい。より具体的には、本発明の排ガス浄化用触媒が備える担体(X)に用いられる酸化物(M1)としては、Al23(アルミナ)、TiO2、ZrO2、及びSiO2からなる群より選ばれた1種又は2種以上が挙げられる。なかでも、耐熱性の観点から、Al23、ZrO2が好ましく、Al23がより好ましい。更に、多量の助触媒体(Y)を担持できる観点から、Al23の中でも比表面積が大きいγ-Al23が更に好ましい。
本発明の排ガス浄化用触媒が備える担体(X)を構成する酸化物(M1)の一次粒子の平均粒径(DX)は、効果的に助触媒体(Y)を担持する観点から、5nm〜5μmが好ましく、5nm〜3μmがより好ましく、5nm〜1μmが更に好ましい。
本明細書において、粒子の平均粒径とは、SEM又はTEMの電子顕微鏡による観察において、数十個の粒子の粒子径(長軸の長さ)の測定値の平均値を意味する。
担体(X)の形状に、特に制限はないが、より多くの助触媒体(Y)を担持する観点から、中空ナノロッド形状(以下では、「中空ファイバー形状」とも称することがある。)が好ましい。中空ナノロッドと称される、長軸方向に伸延した棒状を呈する外形を有し、且つ短軸を有する両側面が開孔部となって、長軸方向に連続した中空構造を有する特異な形状によって、外形部表面と中空部表面からなる大きな表面を有し、それら表面に担持される助触媒体(Y)の全てを充分に雰囲気(排ガス)と接触させることが可能になる。以下、このような中空ナノロッド形状(中空ファイバー形状)を呈する担体(X)を、「中空担体(X)」と称することがある。
担体(X)の平均二次粒子径(DX)には、特に制限はないが、後述の助触媒体(Y)を強固に担持する観点からは、かかる助触媒体(Y)の長軸方向の長さよりも大きいものが望ましく、好ましくは100nm〜1000μmであり、より好ましくは500nm〜800μmであり、更に好ましくは1μm〜500μmである。
なお、担体(X)が中空担体(X)の場合、担体(X)の平均二次粒子径(DX)は、中空担体(X)の長軸方向の平均長さを指す。
本発明の排ガス浄化用触媒中の担体(X)の含有量(WX)は、低温域における高い触媒活性の保持効果と、高温域における触媒活性の低下抑制効果とを兼ね備える観点から、好ましくは60質量%〜99質量%であり、より好ましくは70質量%〜96質量%であり、更に好ましくは77質量%〜94質量%である。
<助触媒体(Y)>
本発明の排ガス浄化用触媒が備える助触媒体(Y)は、図1に模式的に示されるように、担体(X)の表面に担持されている。
助触媒体(Y)の形状に、特に制限はないが、より多くの貴金属粒子(Z)を担持する観点から、担体(X)と同様に中空ナノロッド(中空ファイバー)が好ましい。図1では、助触媒体(Y)が、中空ナノロッド形状を呈している場合が図示されている。
助触媒体(Y)を中空ナノロッドとすることで大きな表面を有し、それら表面に担持される貴金属粒子(Z)の全てを充分に雰囲気(排ガス)と接触させることが可能になる。以下、このような中空ナノロッド形状(中空ファイバー形状)を呈する助触媒体(Y)を、「中空助触媒体(Y)」と称することがある。
本発明の排ガス浄化用触媒が備える助触媒体(Y)は、酸素吸蔵能を有する金属酸化物(M2)からなる。金属酸化物(M2)としては、好ましくは、セリウムを含有する酸化物が選ばれる。具体的には、CeO2、CeO2-ZrO2、CeO2-La23、及びCeO2-ZrO2-La23からなる群より選ばれる1種又は2種以上が好ましく、CeO2-ZrO2、CeO2-La23、及びCeO2-ZrO2-La23からなる群より選ばれる1種又は2種以上がより好ましく、CeO2-ZrO2、CeO2-La23が更に好ましい。すなわち、本明細書において、「金属酸化物」とは、複合金属酸化物を含む概念である。
助触媒体(Y)を構成する金属酸化物(M2)のナノ粒子の平均粒子径(DY)は、良好な酸素吸蔵能を確保する観点、及びアンカー効果によって後述する貴金属(M3)のシンタリングを有効に抑制しつつ充分な量の貴金属(M3)を担持する観点から、好ましくは1nm〜20nmであり、より好ましくは2nm〜15nmであり、更に好ましくは2nm〜12nmである。
なお、助触媒体(Y)が中空助触媒体の場合、中空助触媒体(Y)の長軸方向の長さは、中空形状を確実に形成する観点から、10nm〜1000nmが好ましく、10nm〜800nmがより好ましく、10nm〜600nmが更に好ましい。また、中空助触媒体(Y)の短軸方向の長さは、同様の観点から5nm〜60nmが好ましく、5nm〜50nmがより好ましく、5nm〜40nmが更に好ましい。
すなわち、中空助触媒体(Y)のアスペクト比は、2〜30が好ましく、3〜25がより好ましく、4〜20が更に好ましい。なお、ここでいう「アスペクト比」とは、ナノロッド形状を示す中空助触媒体(Y)の長軸方向の長さをL1、短軸方向の長さをL2としたときの、L1/L2の値に対応する。
また、上記、中空助触媒体(Y)の肉厚は、中空助触媒体(Y)に高い機械的強度を持たせる観点から、1nm〜20nmが好ましく、1nm〜17nmがより好ましく、1nm〜15nmが更に好ましい。なお、ここでいう「肉厚」とは、中空助触媒体(Y)の内側の表面(Y2)と、外側の表面(Y1)との間の厚みを指す(図1参照)。
また、上記担体(X)の平均粒子径(DX)と助触媒体(Y)の平均粒子径(DY)との比(DX/DY)は、低温域での高い触媒活性の保持効果と高温域における触媒活性の低下抑制効果とを兼ね備える観点から、好ましくは1〜50であり、より好ましくは1.5〜35であり、更に好ましくは2〜25である。なお、助触媒体(Y)が中空助触媒体である場合の平均粒子径(DY)は、上記の中空助触媒体(Y)の長軸方向の長さL1について、SEM又はTEMの電子顕微鏡による観察において測定される、数十個の中空助触媒体(Y)の平均値を意味する。
助触媒体(Y)の含有量(WY)は、アンカー効果によって、後述する貴金属(M3)のシンタリングを有効に抑制する観点から、本発明の排ガス浄化用触媒中に、好ましくは0.99質量%〜30質量%であり、より好ましくは3.95質量%〜25質量%であり、更に好ましくは5.9質量%〜20質量%である。
また、上記担体(X)の含有量(WX)と助触媒体(Y)の含有量(WY)との質量比(WX/WY)は、低温域での高い触媒活性の保持効果と高温域における触媒活性の低下抑制効果とを兼ね備える観点から、好ましくは2〜100であり、より好ましくは2.8〜24.3であり、更に好ましくは3.85〜15.9である。
更に、助触媒体(Y)による担体(X)の被覆率は、低温域における高い触媒活性の保持効果と、高温域における触媒活性の低下抑制効果とを兼ね備える観点から、好ましくは0.5面積%〜20面積%であり、より好ましくは2面積%〜17面積%であり、更に好ましくは3面積%〜15面積%である。ここで、助触媒体(Y)による担体(X)の被覆率(面積%)とは、SEM又はTEMの電子顕微鏡によって排ガス浄化用触媒を観察した場合に測定される、担体(X)が観察される領域の大きさ(ピクセル数)をPx1とし、担体(X)上の助触媒体(Y)が観察される領域の大きさ(ピクセル数)をPx2としたときの、[Px2/(Px1+Px2)]×100の値である。
<貴金属粒子(Z)>
本発明の排ガス浄化用触媒が備える貴金属粒子(Z)は、その少なくとも一部が、助触媒体(Y)の表面に担持されてなる、触媒としての作用を担う粒子である。貴金属粒子(Z)は、貴金属(M3)からなる。貴金属(M3)は、Pt、Pd、及びRhからなる群より選ばれた1種又は2種以上である。
貴金属(M3)粒子(Z)の平均粒子径(DZ)は、良好な触媒活性を発現させる観点から、好ましくは0.1nm〜5nmであり、より好ましくは0.1nm〜3nmであり、更に好ましくは0.1nm〜2nmである。
また、助触媒体(Y)の平均粒子径(DY)と貴金属(M3)粒子(Z)の平均粒子径(DZ)との比(DY/DZ)は、アンカー効果によって貴金属(M3)のシンタリングを有効に抑制する観点から、好ましくは1〜200であり、より好ましくは1〜150であり、更に好ましくは1〜120である。
貴金属(M3)粒子(Z)の含有量(WZ)は、幅広い温度範囲において高い触媒活性を発現させる観点から、本発明の排ガス浄化用触媒中に、好ましくは0.01質量%〜10質量%であり、より好ましくは0.05質量%〜5質量%であり、更に好ましくは0.1質量%〜3質量%である。
また、助触媒体(Y)の含有量(WY)と貴金属粒子(Z)の含有量(WZ)との質量比(WY/WZ)は、アンカー効果によって貴金属(M3)のシンタリングを有効に抑制する観点から、好ましくは1〜3000であり、より好ましくは1〜500であり、更に好ましくは1〜200である。
また、本発明の排ガス浄化用触媒における貴金属粒子(Z)による助触媒体(Y)の被覆率は、低温域における高い触媒活性の保持効果と、高温域における触媒活性の低下抑制効果とを兼ね備える観点から、好ましくは10面積%〜90面積%であり、より好ましくは20面積%〜90面積%であり、更に好ましくは30面積%〜90面積%である。ここで、貴金属粒子(Z)による助触媒体(Y)の被覆率(面積%)とは、SEM又はTEMの電子顕微鏡によって排ガス浄化用触媒を観察した場合に測定される、助触媒体(Y)が観察される領域の大きさ(ピクセル数)をPx2とし、助触媒体(Y)上の貴金属粒子(Z)が観察される領域の大きさ(ピクセル数)をPx3としたときの、[Px3/(Px2+Px3)]×100の値に対応する。
好ましくは、上記の貴金属粒子(Z)は、その全て又はほとんど全てが、助触媒体(Y)を構成するセリウム酸化物(M2)の表面に担持される。この場合、本発明の排ガス浄化用触媒が備える貴金属粒子(Z)は、その全て又はほとんど全てが、助触媒体(Y)の表面に、アンカー効果によって強固に担持される。この結果、排ガス浄化用触媒が高温域で長時間にわたって稼働されても、これらの貴金属粒子(Z)同士が移動して、シンタリングすることはないか、又は極めてシンタリングが生じにくい。
これに対し、例えば、図2に模式的に示される、従来技術による排ガス浄化触媒(以下、「排ガス浄化触媒2」と称する。)のように、助触媒体(y)が粒状の場合、高温でのシンタリングによって粒子表面の凹凸が消失して、助触媒体(y)の比表面積は、容易に減少する。この結果、たとえ貴金属粒子(Z)が助触媒体(y)にアンカー効果によって強固に担持されていても、シンタリングによる助触媒体(y)の変形によって、貴金属粒子(Z)は、貴金属粒子(Z)同士がシンタリングを生じる状態にまで接近し、ついには、シンタリングによる貴金属粒子(Z)の大径化が生じる。このように、図2に示す排ガス浄化触媒2は、高温域において貴金属粒子(Z)の大径化、すなわち比表面積が減少して、触媒活性の低下が生じる。
[作用]
すなわち、本発明の排ガス浄化用触媒によれば、高温域でのシンタリングが生じにくく、助触媒体(Y)及び貴金属粒子(Z)の双方が高い比表面積を維持できるため、触媒活性の低下が抑制される。また、担体(X)及び助触媒体(Y)の少なくとも一方を中空ナノロッド形状にすることによって、助触媒体(Y)及び貴金属粒子(Z)が担持できる表面が増大し、担持される助触媒体(Y)同士又は貴金属粒子(Z)同士の間隔を有効に確保しつつ、多量の貴金属粒子(Z)を担持することができるため、より優れた触媒性能を得ることができる。更に、担体(X)及び助触媒体(Y)の双方を中空ナノロッド形状にすることによって、その効果をより高めることができる。
[製造方法]
次に、本発明の排ガス浄化用触媒の製造方法について説明する。なお、詳細は実施例の項で後述される。
本発明の排ガス浄化用触媒の製造方法は、担体(X)若しくは担体(X)の原料、及び助触媒体(Y)の原料を、又は担体(X)及び助触媒体(Y)を、100℃以上の水熱反応に付す工程を有する。すなわち、原料の組合せに応じて3種類の製造方法を採用することができる。以下に原料の組合せ毎に、製造方法を説明する。
なお、上記の100℃以上の水熱反応は、全ての原料をまとめて1回の水熱反応に付してもよく、担体(X)及び助触媒体(Y)の1つ以上の製造を行う複数の水熱反応を組合せてもよく、更には貴金属粒子(Z)を助触媒体(Y)に選択的に担持させるための水熱反応を組合せてもよい。以下に例示する製造方法は、全て1回の水熱反応でもって製造する方法である。
(第一の製造方法)
第一の製造方法は、担体(X)の原料、助触媒体(Y)の原料、及び貴金属粒子(Z)の原料に、水とpH調整剤を混合して得られた水溶液Aを、100℃以上の水熱反応に付して排ガス浄化用触媒を得る製造方法である。
水熱反応に供する各原料は、溶解性及び水熱反応の効率等などの観点から、金属の硝酸塩、硫酸塩、塩化物、有機酸塩、及びアルコキシドが好ましい。
水溶液Aにおける上記水の使用量は、各原料の溶解性又は分散性、撹拌の容易性、及び水熱反応の効率等などの観点から、水溶液Aに含有される各金属原子合計1モルに対して10モル〜300モルが好ましく、50モル〜200モルがより好ましい。
水熱反応に付す際の水溶液AのpHは、7〜14が好ましい。従って、水溶液Aを調製する際、適宜pH調整剤を用いるのが好ましい。かかるpH調整剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、又はアンモニア水が挙げられ、水酸化ナトリウム、又はアンモニア水が好ましい。
水溶液Aを水熱反応に付す際、耐圧容器中で行うのが好ましい。水熱反応に付すときの反応温度は、100℃以上であって、100℃〜200℃が好ましく、100℃〜160℃がより好ましい。この時の圧力は、100℃〜200℃で反応を行う場合、0.2MPa〜1.4MPaであるのが好ましく、100℃〜160℃で反応を行う場合の圧力は0.2MPa〜0.8MPaであるのが好ましい。また、水熱反応に付す時間は、10分〜24時間であるのが好ましく、30分〜18時間であるのがより好ましい。水熱反応の雰囲気は、空気又は不活性ガス(窒素ガスなど)が好ましい。
水溶液Aを水熱反応に付して得られる水熱反応生成物は、担体(X)又は担体(X)の前駆体(例えばAlOOH(ベーマイト))の表面に、貴金属粒子(Z)が表面に担持された助触媒体(Y)が担持された複合物Bである。助触媒体(Y)は、好ましくは中空助触媒体(Y)である。
複合物Bが、担体(X)を備えるものである場合、上記水熱反応生成物(複合物B)は、ろ過後、水熱反応生成物1質量部に対し、水を5質量部〜100質量部用いて洗浄し、乾燥することによって単離できる。かかる単離して得られたものが、本発明の排ガス浄化用触媒に相当する。なお、上記の乾燥手段は、凍結乾燥又は真空乾燥が用いられ、凍結乾燥が好ましい。
一方、複合物Bが、担体(X)を構成する酸化物(M1)の水和物を備えるものである場合、得られた水熱反応生成物に対して、更に焼成反応に付する。これにより、担体(X)の水和物(前駆体)を、担体(X)(酸化物)に変化させることができる。ここで、得られる担体(X)を緻密にする観点からは、焼成温度は、酸素を含む雰囲気下で、300℃〜1000℃であることが好ましく、400℃〜1000℃であることがより好ましい。また、焼成時間は、10分間〜10時間であることが好ましく、30分間〜6時間であることがより好ましい。この焼成反応を経て得られたものが、本発明の排ガス浄化用触媒に相当する。
(第二の製造方法)
第二の製造方法は、担体(X)、助触媒体(Y)の原料、及び貴金属粒子(Z)の原料に、水とpH調整剤を混合して、得られたスラリーCを100℃以上の水熱反応に付して排ガス浄化用触媒を得る製造方法である。
スラリーCを生成する際に用いられる担体(X)は、Al23、TiO2、ZrO2、及びSiO2からなる群より選ばれた1種又は2種以上の酸化物(M1)である。酸化物(M1)としては、粒子状の市販品及びその粉砕物を用いることもできるが、別途製造された中空ナノロッド形状の酸化物(M1)、すなわち中空担体(X)を用いることもできる。以下では、例としてAl23の中空担体(X)の製造方法を説明する。
Al23の中空担体(X)の製造方法は、次の工程(I)〜(III):
(I) Alを主要成分とするセラミックス原料化合物と、有機質繊維と、アルカリ溶液とを含有するスラリーDを調製する工程、
(II) 得られたスラリーDを水熱反応に付して、前記有機質繊維と該有機質繊維を被覆するベーマイトからなる複合物を得る工程、及び
(III) 得られた複合物を焼成反応に付して、Al23の中空担体(X)を得る工程
を備える。
工程(I)で用いられるセラミックス原料化合物に含まれる金属元素は、Alを主体とするが、Al以外の元素を、Alを含む全ての金属元素100モル%中30モル%以下含有していてもよい。かかるセラミックス原料化合物としては、具体的には、Al、又はAlとAl以外の元素とからなる金属化合物の硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、有機酸塩、アルコキシド等を好適に使用することができる。前記Al以外の元素としては、例えばFe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Tb、Si、Ge、Sn、Ti、Zr、Mn、Eu、Y、Nb、Ce、Ba等の金属元素が挙げられる。
得られるAl23の中空担体(X)は、有機質繊維を鋳型とするので、必要とするAl23の中空担体(X)の長さと内径に応じて、適当な大きさを有する有機質繊維が選定される。なお、Al23の中空担体(X)の外径(肉厚)は、後述する工程(II)の水熱反応において制御することができる。
上記の有機質繊維としては、後述する工程(II)の水熱反応においてベーマイトが表面に生成し、更に後述する工程(III)の焼成反応において焼失するものであれば特に制限されず、天然繊維ではセルロース、セルロースナノファイバー、ウール、綿、麻、絹等が、合成繊維ではアラミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリエチレン、アクリル、レーヨン等が使用できる。なお、スラリーDの調整において、水への良好な分散性を有する観点からは、有機質繊維としてセルロースナノファイバー(CNF)の使用が好ましい。
CNFとは、全ての植物細胞壁の約5割を占める骨格成分であって、かかる細胞壁を構成する植物繊維をナノサイズまで解繊等することにより得ることができる軽量高強度繊維であり、水への良好な分散性も有している。CNFの平均繊維径は、10nm〜30μmであり、平均長さは、100nm〜100μmである。
上記セラミックス原料化合物と上記有機質繊維とを混合してスラリーDを調製する際、分散媒には水を用いることができる。そして、スラリーD中に溶解又は分散している金属成分が金属水酸化物となるように、適宜、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、アンモニア等のpH調整剤を用いて、スラリーDのpHを9.5〜14とする。スラリーDのpHが9.5未満の場合、NaAl3(SO4)2(OH)6が副生する傾向があり、水熱反応によるAl23前駆体の生成効率が悪くなってしまう場合がある。
スラリーDを調製する際の、水の使用量は、各原料の溶解性又は分散性、撹拌の容易性、及び水熱反応の効率等の点から、セラミックス原料化合物100質量部に対して50質量部〜100000質量部が好ましく、更に50質量部〜80000質量部が好ましい。また、スラリーDの有機質繊維の含有量は、セラミックス原料化合物100質量部に対して5質量部〜2000質量部であることが好ましく、5質量部〜1000質量部であることがより好ましい。
工程(II)では、上記のスラリーDを水熱反応に付して、上記有機質繊維がベーマイト(AlOOH)で被覆された複合物(以下、「ベーマイト被覆複合物」と称する場合がある。)を得る。かかる水熱反応の温度は100℃以上であることが好ましく、100℃〜200℃がより好ましい。水熱反応は耐圧容器中で行うのが好ましく、100℃以上で反応を行う場合、この時の圧力は0.3MPa以上であるのが好ましく、100℃〜200℃で反応を行う場合の圧力は0.3MPa〜1.4MPaであるのが好ましい。水熱反応時間は、0.1時間〜12時間が好ましく、0.2時間〜6時間がより好ましい。水熱反応の温度が100℃未満で、水熱反応の時間が0.1時間未満の場合、Al23前駆体の結晶成長が十分に生じず、Al23の中空担体(X)の機械的強度が劣ってしまう場合がある。また、水熱反応の温度が200℃を超え、水熱反応の時間が12時間を超える場合、有機質繊維が溶解し、ベーマイト被覆複合物を得ることができなくなるおそれが生じる。
なお、有機質繊維を被覆するベーマイトの被覆厚さを厚くする場合、すなわち肉厚のAl23の中空担体(X)を得る場合は、上記スラリーDにおける、セラミックス原料化合物/有機質繊維の質量比を大きく設定する。具体的には、セラミックス原料化合物/有機質繊維の質量比を0.5よりも大きくする。そして、水熱反応においては、ベーマイトの個々の結晶の結晶成長が促進するように、低目の温度・圧力環境を長時間継続させる。具体的には、例えば、130℃、0.3MPaで12時間の水熱反応を行うとよい。
上記水熱反応後には、上記有機質繊維の表面がベーマイトで被覆されており、これをろ過等により分散媒より分取した後、好ましくは水等で洗浄し、乾燥すること等により、後述する工程(III)の焼成反応に付するためのベーマイト被覆複合物を単離することができる。かかるベーマイト被覆複合物を水で洗浄する際には、副生成物を除去する観点から、ベーマイト被覆複合物の1質量部に対し、水を5質量部〜50質量部用いるのが好ましい。また、乾燥手段としては、凍結乾燥、真空乾燥、温風乾燥等が用いられ、凍結乾燥又は温風乾燥が好ましい。
工程(III)では、上記のようにして得られたベーマイト被覆複合物を、更に焼成反応に付する。これにより、上記工程(II)において得られたベーマイト被覆複合物に含まれる有機質繊維を焼失させると同時に、筒状のベーマイトを焼成反応に付して、Al23の中空担体(X)を得ることができる。ここで、得られるAl23を緻密にする観点からは、焼成温度は、酸素雰囲気下で、600℃〜1200℃であることが好ましく、700℃〜1200℃であることがより好ましい。また、焼成時間は、10分間〜10時間であることが好ましく、30分間〜5時間であることがより好ましい。焼成温度が600℃未満又は焼成時間が10分未満の場合、Al23前駆体からの脱水を伴うAl23の生成及びAl23の結晶成長が不十分となり、Al23の中空担体(X)の機械的強度が劣ってしまう場合がある。また、焼成温度が1200℃を超え、焼成時間が10時間を超える場合、Al23のシンタリングが著しく生じ、中空の形態が得られないおそれが生じる。なお、焼成反応のための雰囲気酸素濃度は特別なものではなく、通常の大気を使用すればよい。
上記の通り、Al23の中空担体(X)の長さや内空部の太さは、用いる有機質繊維で任意に制御できるので、均一な大きさのAl23の中空担体(X)の集合体であっても、大きさが異なるAl23の中空担体(X)の集合体であってもよく、また化学組成が異なる2種以上のAl23の中空担体(X)の集合体であってもよい。
第二の製造方法において水熱反応に供する助触媒体(Y)の原料及び貴金属粒子(Z)の原料は、上記第一の製造方法と同様に、溶解性及び水熱反応の効率等などの観点から、金属の硝酸塩、硫酸塩、塩化物、有機酸塩、及びアルコキシドが好ましい。
また、スラリーCにおける上記水の使用量、水熱反応に付す際のスラリーCのpH、及び水熱反応条件も、上記第一の製造方法における水溶液Aのそれらと同じである。
スラリーCを水熱反応に付して得られる水熱反応生成物は、中空担体(X)の表面に、貴金属粒子(Z)が表面に担持された中空助触媒体(Y)が担持された複合物Eである。かかる複合物Eを、複合物Bにしたのと同様に水で洗浄した後、乾燥することによって、本発明の排ガス浄化用触媒を得ることができる。
なお、この第二の製造方法において、担体(X)を構成する酸化物(M1)をAl23以外とする場合には、工程(I)において用いられるセラミックス原料化合物の主成分を、酸化物(M1)の材料に応じて変更すればよい。
また、上記第二の製造方法では、工程(I)〜(III)を経て製造された中空担体(X)を含むスラリーCを水熱反応に付するものとして説明したが、担体(X)として、非中空形状を呈するものを用いることも可能であるし、一部に中空形状を呈する担体(X)を用いることも可能である。例えば、固相法やゾルゲル法で得られた担体(X)を用いることもできる。
(第三の製造方法)
第三の製造方法は、担体(X)、助触媒体(Y)、及び貴金属粒子(Z)の原料に、水とpH調整剤を混合して、得られたスラリーFを100℃以上の水熱反応に付して排ガス浄化用触媒を得る製造方法である。
スラリーFの調整方法、水熱反応条件、及び水熱反応生成物の処理方法は、上記第一の製造方法における水溶液A、及び上記第二の製造方法におけるスラリーCのそれらと同じである。
スラリーFを水熱反応に付した後、水熱反応生成物を水洗浄、乾燥して得られる排ガス浄化用触媒は、担体(X)の表面に、貴金属粒子(Z)が表面に担持された助触媒体(Y)が担持されたものである。なお、担体(X)として、第二の製造方法で上述した工程(I)〜(III)を経て製造された中空担体(X)を用いた場合には、前記排ガス浄化用触媒は、中空担体(X)の表面に、貴金属粒子(Z)が表面に担持された助触媒体(Y)が担持されたものである。
(まとめ)
上記第一〜第三の製造方法のいずれを採用しても、本発明の、耐熱性に優れる酸化物(M1)からなる担体(X)に、酸素吸蔵能を有する金属酸化物(M2)からなる助触媒体(Y)が担持されてなり、かつ助触媒体(Y)の表面に貴金属粒子(Z)が担持されてなる排ガス浄化用触媒を得ることができる。
これらの製造方法の中では、中空担体(X)、中空助触媒体(Y)、及び貴金属粒子(Z)を含む排ガス浄化用触媒を得られることから、第二の製造方法が特に好ましい。
なお、貴金属粒子(Z)の担持方法として、水熱反応を用いることで、貴金属粒子(Z)を助触媒体(Y)の表面に選択的に担持させることができる。しかし、その他の方法、例えば含浸法等を用いてもよい。例えば、第一及び第二の製造方法において、水熱反応を用いて担体(X)の表面に助触媒体(Y)を担持させた後、含浸法を用いて貴金属粒子(Z)を担持させるものとしてもよい(変形例)。ただし、水熱反応以外の方法を採用した場合、貴金属粒子(Z)の一部は担体(X)にも担持される。
また、上述した方法で製造された中空担体(X)に、含浸法によって助触媒体(Y)を担持させた後、更に含浸法によってこの助触媒体(Y)に貴金属粒子(Z)を担持させても構わない。この場合、中空ナノロッド形状を呈する担体(X)に、粒子状の助触媒体(Y)が担持され、この助触媒体(Y)の表面と、中空担体(X)の一部表面とに貴金属粒子(Z)が担持される。
以下、本発明について、実施例に基づき具体的に説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものではない。
[製造例1]<中空ナノロッド形状のAl23からなる担体(X)の製造:水熱法>
Al2(SO4)3・16H2O 0.79g、セルロースナノファイバー 2.31g(ダイセルファインケム社製 PC110T、含水量65質量%)、及び水72.3mLを60分間混合してスラリーA1を作製した。得られたスラリーA1に、10質量%濃度のNaOH水溶液3.0mLを添加し、5分間混合してpH10のスラリーA2を作製した。
スラリーA2をオートクレーブに投入し、140℃、0.3MPaで1時間水熱反応を行った。得られた水熱反応生成物を放冷した後、ろ過して、水で洗浄し、4時間80℃で温風乾燥して、Al23の前駆体とセルロースナノファイバーからなる複合物A3を得た。得られた複合物A3を電気炉に入れて、空気雰囲気下で、昇温速度10℃/分で700℃まで昇温した後、700℃で1時間焼成して、中空ナノロッド形状のγ-Al23(一次粒子径:10nm、繊維長:300μm、BET比表面積:220m2/g)を得た。
[製造例2]<担体(X)の前駆体(ベーマイト(AlOOH))の製造:水熱法>
水30mLにNaOH 12gを混合して、水溶液B1を得た。また、水50mLにAl2(SO4)3・16H2O 31.51gを混合して水溶液B2を得た。次いで、得られた水溶液B2を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて撹拌し、水溶液B1を50mL/分で滴下してスラリーB3を得た。かかるスラリーB3のpHは9.5であり、Al 1モルに対して3モルのNaを含有していた。
得られたスラリーB3をオートクレーブに投入し、140℃、0.4MPaでの水熱反応を1時間行った。生成した固形分を吸引ろ過し、次いで得られた固形分を、固形分1質量部に対して10質量部の水で洗浄した。洗浄後の固形分を−50℃で12時間凍結乾燥してベーマイト(平均粒径:10nm)を得た。
[製造例3]<Al23の凝集体からなる担体(X)の製造:ゾルゲル法>
エタノール300mLにアルミニウムイソプロポキシド12gを混合し、溶液C1を得た。次いで、得られた溶液C1を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて撹拌し、28%アンモニア水を50mL/分で滴下してゲルC2を得た。ゲルC2を90℃で10時間養生した後、空気雰囲気下700℃で2時間の焼成により、γ-Al23(平均粒径:10nm、BET比表面積:190m2/g)を得た。
[実施例1]<担体(X):中空ナノロッド形状のAl23、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCeO2、貴金属粒子(Z):Pt+Rh、第二の製造方法(2回の水熱反応)>
Ce(NO3)3・6H2O 1.11g、製造例1で得られた中空ナノロッド形状のAl23 1.28g、及び水55mLを60分間混合してスラリーD1を作製した。得られたスラリーD1に、10質量%濃度のNaOH水溶液9mLを添加し、5分間混合してスラリーD2を作製した。
スラリーD2をオートクレーブに投入し、140℃で3時間水熱反応を行った(1回目の水熱反応)。得られた中空ナノロッド形状のCeO2/中空ナノロッド形状のAl23複合物のスラリーに、1%RhCl3水溶液2.19g及び1%ヘキサクロリド白金酸(H2PtCl6)水溶液9.14gを混合して、スラリーD3を得た。
得られたスラリーD3をオートクレーブに投入し、140℃で1時間水熱反応を行った(2回目の水熱反応)。水熱反応生成物を放冷した後、ろ過して、水で洗浄し、水50mLを混合してリパルプすることにより、Pt−Rh/中空ナノロッド形状のCeO2/中空ナノロッド形状のAl23複合物のスラリーD4を得た。
得られたスラリーD4を−50℃で12時間凍結乾燥し、得られた固形分を空気雰囲気下500℃で3時間焼成して排ガス浄化用触媒P1を得た。得られた排ガス浄化用触媒P1のBET比表面積は230m2/gであった。また、得られた排ガス浄化用触媒P1は、RhもPtも担持していない中空ナノロッド形状のγ-Al23と、Rh及びPtを担持した中空ナノロッド形状のCeO2の混相(Al:Ce:Rh:Pt(モル比)=1:0.03:0.001:0.002)であった。
[実施例2]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCeO2、貴金属粒子(Z):Pt+Rh、第二の製造方法(2回の水熱反応)>
水30mLに製造例2で得られたベーマイト1.5g及びCe(NO3)3・6H2O 0.33gを混合して、スラリーE1を得た。また、水10mLにNaOH 0.3gを混合して、水溶液E2を得た。次いで、得られたスラリーE1を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて撹拌し、水溶液E2を50mL/分で滴下してスラリーE3を得た。かかるスラリーE3のpHは13.5であり、Al 1モルに対して0.03モルのCeを含有していた。
得られたスラリーE3をオートクレーブに投入し、140℃、0.4MPaでの水熱反応を1時間行った(1回目の水熱反応)。生成したスラリーE4に1%RhCl3水溶液0.65g及び1%H2PtCl6水溶液2.72gを混合してスラリーE5を得た。かかるスラリーE5のpHは13.0であり、Al 1モルに対して0.001モルのRh及び0.002モルのPtを含有していた。
得られたスラリーE5をオートクレーブに投入し、140℃、0.4MPaでの水熱反応を1時間行った(2回目の水熱反応)。生成した固形分を吸引ろ過で回収し、次いで得られた固形分を、固形分1質量部に対して10質量部の水で洗浄した。洗浄後の固形分を−50℃で12時間凍結乾燥して排ガス浄化用触媒の前駆体E6を得た。
得られた排ガス浄化用触媒の前駆体E6を、空気雰囲気下500℃で6時間焼成して排ガス浄化用触媒P2を得た。得られた排ガス浄化用触媒P2のBET比表面積は170m2/gであった。また、得られた排ガス浄化用触媒P2は、RhもPtも担持していないγ-Al23の凝集体と、Rh及びPtを担持したナノロッド形状のCeO2の混相(Al:Ce:Rh:Pt(モル比)=1:0.03:0.001:0.002)であった。
[実施例3]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCe0.5Zr0.52、貴金属粒子(Z):Pt+Rh、第二の製造方法(2回の水熱反応)>
実施例2において、Ce(NO3)3・6H2O 0.33gを、Ce(NO3)3・6H2O 0.17g及びZrO(NO3)2・2H2O 0.14gに変更した以外(本実施例3で得られたスラリーE3のpHは13.5)、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P3を得た。得られた排ガス浄化用触媒P3のBET比表面積は170m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒P3は、RhもPtも担持していないγ-Al23の凝集体と、Rh及びPtを担持した中空ナノロッド形状のCe0.5Zr0.52の混相(Al:Ce:Zr:Rh:Pt(モル比)=1:0.015:0.015:0.001:0.002)であった。
[実施例4]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCe0.9La0.132、貴金属粒子(Z):Pt+Rh、第二の製造方法(2回の水熱反応)>
実施例2において、Ce(NO3)3・6H2O 0.33gを、Ce(NO3)3・6H2O 0.3g及びLa(NO3)3・6H2O 0.02gに変更した以外(本実施例4で得られたスラリーE3のpHは13.5)、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P4を得た。得られた排ガス浄化用触媒P4のBET比表面積は170m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒P4は、RhもPtも担持していないγ-Al23の凝集体と、Rh及びPtを担持した中空ナノロッド形状のCe0.9La0.132の混相(Al:Ce:La:Rh:Pt(モル比)=1:0.027:0.003:0.001:0.002)であった。
[実施例5]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCe0.5Zr0.4La0.132、貴金属粒子(Z):Pt+Rh、第二の製造方法(2回の水熱反応)>
実施例2において、Ce(NO3)3・6H2O 0.33gを、Ce(NO3)3・6H2O 0.17g、ZrO(NO3)2・2H2O 0.11g、及びLa(NO3)3・6H2O 0.02gに変更した以外(本実施例5で得られたスラリーE3のpHは13.5)、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P5を得た。得られた排ガス浄化用触媒P5のBET比表面積は170m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒P5は、RhもPtも担持していないγ-Al23の凝集体と、Rh及びPtを担持した中空ナノロッド形状のCe0.5Zr0.4La0.132の混相(Al:Ce:Zr:La:Rh:Pt(モル比)=1:0.015:0.012:0.003:0.001:0.002)であった。
[実施例6]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCeO2、貴金属粒子(Z):Pt+Rh+Pd、第二の製造方法(2回の水熱反応)>
実施例2において、1%RhCl3水溶液2.72gを、1%RhCl3水溶液1.36g及び1%PdCl3水溶液0.85gに変更した以外(本実施例6で得られたスラリーE3のpHは13.0)、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P6を得た。得られた排ガス浄化用触媒P6のBET比表面積は170m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒P6は、RhもPtもPdも担持していないγ-Alの凝集体と、Rh、Pt及びPdを担持した中空ナノロッド形状のCeO2の混相(Al:Ce:Rh:Pt:Pd(モル比)=1:0.03:0.001:0.001:0.001)であった。
[実施例7]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCeO2、貴金属粒子(Z):Rh、第二の製造方法(2回の水熱反応)>
実施例2において、1%RhCl3水溶液0.65g及び1%H2PtCl6水溶液2.72gを、1%RhCl3水溶液3.25gに変更した以外(本実施例7で得られたスラリーE3のpHは13.0)、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P7を得た。得られた排ガス浄化用触媒GのBET比表面積は170m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒P7は、Rhを担持していないγ-Alの凝集体と、Rhを担持した中空ナノロッド形状のCeO2の混相(Al:Ce:Rh(モル比)=1:0.03:0.005)であった。
[実施例8]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCeO2、貴金属粒子(Z):Pt+Rh、第一の製造方法(1回の水熱反応)>
水50mLにAl2(SO4)3・16H2O 7.88g、Ce(NO3)3・6H2O 0.33g、1%RhCl3水溶液0.65g及び1%H2PtCl6水溶液 2.72gを混合して、水溶液F1を得た。また、水40mLにNaOH 3.30gを混合して、水溶液F2を得た。次いで、得られた水溶液F1を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて撹拌し、水溶液F2を50mL/分で滴下してスラリーF3を得た。かかるスラリーF3のpHは13.0であり、Al 1モルに対して0.03モルのCe、0.001モルのRh、及び0.002モルのPtを含有していた。
得られたスラリーF3をオートクレーブに投入し、140℃、0.4MPaでの水熱反応を1時間行った。生成した固形分を吸引ろ過し、次いで得られた固形分を、固形分1質量部に対して10質量部の水で洗浄した。洗浄後の固形分を−50℃で12時間凍結乾燥して排ガス浄化用触媒の前駆体F4を得た。得られた前駆体F4を、空気雰囲気下500℃で6時間焼成して排ガス浄化用触媒P8を得た。得られた排ガス浄化用触媒P8のBET比表面積は170m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒P8は、RhもPtも担持していないγ-Alの凝集体と、Rh及びPtを担持した中空ナノロッド形状のCeO2の混相(Al:Ce:Rh:Pt(モル比)=1:0.03:0.001:0.002)であった。
[実施例9]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCeO2、貴金属粒子(Z):Pt+Rh、第一の製造方法(2回の水熱反応)>
水50mLにAl2(SO4)3・16H2O 7.88g、及びCe(NO3)3・6H2O 0.33gを混合して、水溶液G1を得た。また、水20mLにNaOH 3.3gを混合して、水溶液G2を得た。次いで、得られた水溶液G1を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて撹拌し、水溶液G2を50mL/分で滴下してスラリーG3を得た。かかるスラリーG3のpHは13.5であり、Al 1モルに対して0.03モルのCeを含有していた。
得られたスラリーG3をオートクレーブに投入し、140℃、0.4MPaでの水熱反応を1時間行った(1回目の水熱反応)。水熱反応で得られたスラリーG4に、1%RhCl3水溶液0.65g及び1%H2PtCl6水溶液2.72gを混合して、スラリーG5を得た。かかるスラリーG5のpHは13.0であり、Al 1モルに対して0.001モルのRh、及び0.002モルのPtを含有していた。
得られたスラリーG5をオートクレーブに投入し、140℃、0.4MPaでの水熱反応を1時間行った(2回目の水熱反応)。生成した固形分を吸引ろ過し、次いで得られた固形分を、固形分1質量部に対して10質量部の水で洗浄した。洗浄後の固形分を−50℃で12時間凍結乾燥して排ガス浄化用触媒の前駆体G6を得た。得られた前駆体G6を、空気雰囲気下500℃で6時間焼成して排ガス浄化用触媒P9を得た。得られた排ガス浄化用触媒P9のBET比表面積は170m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒P9は、RhもPtも担持していないγ-Alの凝集体と、Rh及びPtを担持した中空ナノロッド形状のCeO2の混相(Al:Ce:Rh:Pt(モル比)=1:0.03:0.001:0.002)であった。
[実施例10]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCeO2、貴金属粒子(Z):Pt+Rh、第二の製造方法(1回の水熱反応)>
水30mLに、製造例2で得られたベーマイト1.50g、Ce(NO3)3・6H2O 0.33g、1%RhCl3水溶液0.65g及び1%H2PtCl6水溶液2.72gを混合して、スラリーH1を得た。また、水10mLにNaOH 0.3gを混合して、水溶液H2を得た。次いで、得られたスラリーH1を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて撹拌し、水溶液H2を50mL/分で滴下してスラリーH3を得た。かかるスラリーH3のpHは13.0であり、Al 1モルに対して0.03モルのCe、0.001モルのRh及び0.002モルのPtを含有していた。
得られたスラリーH3をオートクレーブに投入し、140℃、0.4MPaでの水熱反応を1時間行った。生成した固形分を吸引ろ過し、次いで得られた固形分を、固形分1質量部に対して10質量部の水で洗浄した。洗浄後の固形分を−50℃で12時間凍結乾燥して排ガス浄化用触媒の前駆体H4を得た。得られた前駆体H4を、空気雰囲気下500℃で6時間焼成して排ガス浄化用触媒P10を得た。得られた排ガス浄化用触媒P10のBET比表面積は170m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒P10は、RhもPtも担持していないγ-Al23の凝集体と、Rh及びPtを担持した中空ナノロッド形状のCeO2の混相(Al:Ce:Rh:Pt(モル比)=1:0.03:0.001:0.002)であった。
[実施例11]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCeO2、貴金属粒子(Z):Pt+Rh、第二の製造方法(1回の水熱反応)>
製造例2で得られたベーマイト1.50gの代わりに、製造例3(ゾルゲル法)で得られたγ-Al23 1.27gを用いた以外、実施例10と同様にして排ガス浄化用触媒P11を得た。得られた排ガス浄化用触媒P11のBET比表面積は165m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒P11は、Rh及びPtを担持していないγ-Al23の凝集体と、Rh及びPtを担持した中空ナノロッド形状のCeO2の混相(Al:Ce:Rh:Pt(モル比)=1:0.03:0.001:0.002)であった。
[実施例12]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCeO2、貴金属粒子(Z):Pt+Rh、第二の製造方法(2回の水熱反応)>
実施例2において、NaOHの添加量0.30gを0.15gとした以外、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P12を得た。本実施例12において、スラリーE3のpHは11.5であり、スラリーE5のpHは10.5であった。得られた排ガス浄化用触媒P12のBET比表面積は170m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒P12は、RhもPtも担持していないγ-Al23の凝集体と、Rh及びPtを担持した中空ナノロッド形状のCeO2の混相(Al:Ce:Rh:Pt(モル比)=1:0.03:0.001:0.002)であった。
[実施例13]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCeO2、貴金属粒子(Z):Pt+Rh、第二の製造方法(2回の水熱反応)>
実施例2において、NaOH 0.30gを、28%アンモニア水0.94gとした以外、実施例2と同様にして排ガス浄化用触媒P13を得た。本実施例13において、スラリーE3のpHは13.5であり、スラリーE5のpHは13.0であった。得られた排ガス浄化用触媒P13のBET比表面積は170m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒13は、RhもPtも担持していないγ-Al23の凝集体と、Rh及びPtを担持した中空ナノロッド形状のCeO2の混相(Al:Ce:Rh:Pt(モル比)=1:0.03:0.001:0.002)であった。
[実施例14]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCeO2、貴金属粒子(Z):Pt+Rh、第二の製造方法(2回の水熱反応、変形例)>
実施例2で得られたスラリーE4を吸引ろ過し、次いで得られた固形分を、固形分1質量部に対して10質量部の水で洗浄した。洗浄後の固形分を−50℃で12時間凍結乾燥して、空気雰囲気下500℃で6時間焼成することにより粉末I1を得た。水20mLに得られた粉末I1 1.65g、1%RhCl3水溶液0.65g及び1%H2PtCl6水溶液2.72gを混合してスラリーI2を得た。
次いで、得られたスラリーI2を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて3時間撹拌し、エバポレータを用いて水を除去し、粉末I3を得た。得られた粉末I3を、空気雰囲気下500℃で3時間焼成し、排ガス浄化用触媒P14を得た。得られた排ガス浄化用触媒P14のBET比表面積は165m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒P14は、Rh及びPtを担持したγ-Al23の凝集体と、Rh及びPtを担持した中空ナノロッド形状のCeO2の混相(Al:Ce:Rh:Pt(モル比)=1:0.03:0.001:0.002)であった。
[実施例15]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCe0.5Zr0.52、貴金属粒子(Z):Pt+Rh、第二の製造方法(2回の水熱反応、変形例)>
実施例14のCe(NO3)3・6H2O 0.33gを、Ce(NO3)3・6H2O 0.17g及びZrO(NO3)2・2H2O 0.14gに変更した以外、実施例14と同様にして排ガス浄化用触媒P15を得た。得られた排ガス浄化用触媒P15のBET比表面積は165m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒P15は、Rh及びPtを担持したγ-Al23の凝集体と、Rh及びPtを担持した中空ナノロッド形状のCe0.5Zr0.52の混相(Al:Ce:Zr:Rh:Pt(モル比)=1:0.015:0.015:0.001:0.002)であった。
[実施例16]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y):中空ナノロッド形状のCeO2、貴金属粒子(Z):Pt+Rh+Pd、第二の製造方法(2回の水熱反応、変形例)>
実施例14の1%H2PtCl6水溶液2.72gを、1%H2PtCl6水溶液1.36g及び1%PdCl3水溶液0.85gに変更した以外、実施例14と同様にして排ガス浄化用触媒P16を得た。得られた排ガス浄化用触媒P16のBET比表面積は165m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒P16は、Rh、Pt及びPdを担持したγ-Al23の凝集体と、Rh、Pt及びPdを担持した中空ナノロッド形状のCeO2の混相(Al:Ce:Rh:Pt:Pd(モル比)=1:0.03:0.001:0.001:0.001)であった。
[比較例1]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y’):CeO2粒子、貴金属粒子(Z):Pt+Rh>
水20mLに、Ce(NO3)3・6H2O 0.33g、及び製造例2で得られたベーマイト1.5gを混合して、スラリーJ1を得た。かかるスラリーJ1は、Al 1モルに対して0.03モルのCeを含有していた。次いで、得られたスラリーJ1を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて3時間撹拌し、エバポレータを用いて水を除去し、粉末J2を得た。得られた粉末J2を、空気雰囲気下500℃で3時間焼成し、粉末J3を得た。
水20mLに得られた粉末J3 1.65g、1%RhCl3水溶液0.65g及び1%H2PtCl6水溶液2.72gを混合してスラリーJ4を得た。次いで、得られたスラリーJ4を25℃の温度に保持しながら撹拌速度300rpmにて3時間撹拌し、エバポレータを用いて水を除去し、粉末J5を得た。得られた粉末J5を、空気雰囲気下500℃で3時間焼成することにより、排ガス浄化用触媒Q1を得た。得られた排ガス浄化用触媒Q1のBET比表面積は155m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒Q1は、Rh及びPtを担持したγ-Al23の凝集体と、Rh及びPtを担持したCeO2粒子の混相(Al:Ce:Rh:Pt:Pd(モル比)=1:0.03:0.001:0.001:0.001)であった。
[比較例2]<担体(X):Al23凝集体、助触媒体(Y’):Ce0.5Zr0.52粒子、貴金属粒子(Z):Pt+Rh>
比較例1のCe(NO3)3・6H2O 0.33gを、Ce(NO3)3・6H2O 0.17g及びZrO(NO3)2・2H2O 0.14gに変更した以外、比較例1と同様にして排ガス浄化用触媒Q2を得た。得られた排ガス浄化用触媒Q2のBET比表面積は155m2/gであった。
また、得られた排ガス浄化用触媒Q2は、Rh及びPtを担持したγ-Al23の凝集体と、Rh及びPtを担持したCe0.5Zr0.52粒子の混相(Al:Ce:Zr:Rh:Pt(モル比)=1:0.015:0.015:0.001:0.002)であった。
<STEM(走査型透過電子顕微鏡)像>
実施例2、3、及び14、並びに比較例1及び2で得られた排ガス浄化用触媒について、Pt、Rh及びCeO2(Ce0.5Zr0.52)の粒径及び粒子形状を確認するため、STEM(ARM-200F、日本電子社製)観察を行った。STEM写真を図3A〜図3Eに示す。
更に、実施例2及び14、並びに比較例1で得られた排ガス浄化用触媒について、Al、Ce、Pt、Rhの元素分布を確認するため、STEM−EDX分析((ARM-200F、日本電子社製)+(JEM−3200FS、日本電子社製))を行った。この各元素の観察像を図4A〜図4Cに示す。
図3A〜図3Cに示される各写真によれば、各実施例2、3、及び14の排ガス浄化用触媒では、アスペクト比が大きい中空のナノロッド形状に成長した助触媒体(Y)が確認できる。更に、図4A及び図4Bに示される写真によれば、実施例2及び実施例14の排ガス浄化用触媒において、この中空のナノロッド形状を示す助触媒体(Y)の表面に、Pt及びRhの貴金属粒子(Z)が担持されていることが確認できる。
これに対し、図3D、図3E及び図4Cに示される各写真によれば、比較例1及び2の排ガス浄化用触媒においては、助触媒体(Y’)が中空のナノロッド形状を呈していないことが分かる。なお、図3Cに示される写真によれば、比較例1の助触媒体(Y’)の表面に、Pt及びRhの貴金属粒子(Z)が多量に担持されていることが確認できる。
<触媒活性の評価>
全ての実施例及び全ての比較例で得られた排ガス浄化用触媒を用い、有害成分であるCO、C36及びNOの分解活性を評価した。
具体的には、ステンレス製の反応管に、実施例1〜16、及び比較例1〜2で得られた各排ガス浄化用触媒(P1〜P16、Q1〜Q2)を充填し、かかる排ガス浄化用触媒(P1〜P16、Q1〜Q2)の両側を石英ウールで充填することにより排ガス浄化用触媒(P1〜P16、Q1〜Q2)を反応管に固定した。当該反応管に自動車の排ガスを模擬した混合ガス(NO 500ppm、CO 5000ppm、C36 250ppm、O2 3300ppm、CO2 6000ppm、N2バランス)を400mL/分(空間速度:24L/時間)で流通させた。
次いで、反応管を電気炉で100℃〜400℃に加熱し、排ガス分析計(リエロ・ジャパン社製、Auto5.1)を用いて、CO、C36、及びNOの転化率が50%になる反応温度T50を評価した。また、加熱温度1000℃において、1時間後と48時間後の、CO、C36、及びNOの転化率を測定することにより、高温域での排ガス浄化用触媒の耐久性を評価した。
この結果を表1に示す。
表1のT50から、全ての実施例1〜16のCO、C36、NOの転化率が50%となる反応温度が、それぞれ比較例1又は2よりも低く、本発明の排ガス浄化用触媒は、低温での触媒活性が高いことが分かる。
更に、表1の1000℃での転化率の評価結果から、全ての実施例1〜16は48時間後の転化率について比較例1又は2と比較して高い値を示しており、本発明の排ガス浄化用触媒は、高温域における触媒活性の低下の抑制効果に優れることが分かる。
本発明の排ガス浄化用触媒における上記の触媒活性の優位性は、本発明の担体(X)及び/又は助触媒体(Y)が中空のナノロッドを形成して比表面積が大きいと共に、高温でのシンタリングが進みにくい形状であることによって、助触媒体(Y)の表面に強固に担持されている貴金属粒子(Z)が初期の分散状態を維持して貴金属粒子(Z)がシンタリングせずに大きな比表面積を維持できることによる。
なお、本発明の排ガス浄化用触媒は、少なくとも一部の貴金属粒子(Z)が、助触媒体(Y)の表面に担持されていればよく、一部の貴金属粒子(Z)が担体(X)の表面に担持されている構成を排除するものではない。
1 : 排ガス浄化用触媒(本発明)
2 : 排ガス浄化触媒(従来技術)
X : 担体
Y,y : 助触媒体
Z : 貴金属粒子

Claims (13)

  1. 酸化物(M1)からなる担体と、
    前記担体の表面に担持された、酸素吸蔵能を有する金属酸化物(M2)からなる助触媒体と、
    前記助触媒体の表面に担持された、Pt、Pd、及びRhからなる群より選ばれた1種又は2種以上からなる貴金属粒子と、を有し、
    前記担体及び前記助触媒体の少なくとも一つは、前記酸化物(M1)又は前記金属酸化物(M2)の一次粒子が集合して形成された、中空のナノロッド形状を呈することを特徴とする排ガス浄化用触媒。
  2. 前記助触媒体は、前記金属酸化物(M2)の一次粒子が集合して形成された、中空のナノロッド形状を呈し、
    前記金属酸化物(M2)は、CeO2、CeO2-ZrO2、CeO2-La23、及びCeO2-ZrO2-La23からなる群より選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする、請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。
  3. 前記助触媒体は、粒径が1nm〜20nmの、前記金属酸化物(M2)の一次粒子が集合して形成された、アスペクト比が2〜30、及び肉厚が1nm〜20nmの中空のナノロッド形状であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の排ガス浄化用触媒。
  4. 前記酸化物(M1)は、Al23、TiO2、ZrO2、及びSiO2からなる群より選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の排ガス浄化用触媒。
  5. 前記担体は、前記酸化物(M1)の一次粒子が集合して形成された、中空のナノロッド形状を呈することを特徴とする、請求項4に記載の排ガス浄化用触媒。
  6. 前記担体は、粒径が5nm〜5μmの前記酸化物(M1)の一次粒子が集合して形成された、長軸方向の長さが100nm〜1000μmの中空のナノロッド形状であることを特徴とする、請求項5に記載の排ガス浄化用触媒。
  7. 前記貴金属粒子は、粒径が0.1nm〜5nmであることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の排ガス浄化用触媒。
  8. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法であって、
    前記担体若しくは前記担体の原料、及び前記助触媒体の原料を、又は前記担体及び前記助触媒体を、100℃以上の水熱反応に付す工程を有することを特徴とする排ガス浄化用触媒の製造方法。
  9. 前記担体を構成する前記酸化物(M1)の原料、前記助触媒体を構成する前記金属酸化物(M2)の原料、前記貴金属粒子の原料、及びpH調整剤を含むスラリーを100℃以上の水熱反応に付す工程を有することを特徴とする、請求項8に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。
  10. 前記担体を構成する前記酸化物(M1)の原料、前記助触媒体を構成する前記金属酸化物(M2)の原料、及びpH調整剤を含むスラリーを100℃以上の水熱反応に付して混合物を得る工程と、
    前記混合物に前記貴金属粒子を担持させる工程と、を有することを特徴とする請求項9に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。
  11. 前記担体を得る工程と、
    前記担体、前記助触媒体を構成する前記金属酸化物(M2)の原料、前記貴金属粒子の原料、及びpH調整剤を含むスラリーを100℃以上の水熱反応に付す工程と、を有することを特徴とする請求項8に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。
  12. 前記担体を得る工程と、
    前記担体、前記助触媒体を構成する前記金属酸化物(M2)の原料、及びpH調整剤を含むスラリーを100℃以上の水熱反応に付して混合物を得る工程と、
    前記混合物に前記貴金属粒子を担持させる工程と、を有することを特徴とする請求項8に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。
  13. 前記貴金属粒子の原料を含むスラリーを水熱反応に付す工程の後に、焼成工程を有することを特徴とする請求項8〜12のいずれか1項に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。
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