JP2019041005A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019041005A5 JP2019041005A5 JP2017162178A JP2017162178A JP2019041005A5 JP 2019041005 A5 JP2019041005 A5 JP 2019041005A5 JP 2017162178 A JP2017162178 A JP 2017162178A JP 2017162178 A JP2017162178 A JP 2017162178A JP 2019041005 A5 JP2019041005 A5 JP 2019041005A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holding surface
- contact
- lithographic apparatus
- polishing
- holding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 19
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 238000005296 abrasive Methods 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims 1
- 230000001070 adhesive Effects 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 1
Description
上記課題を解決する本発明の一側面としてのリソグラフィ装置は、基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、基板を保持面上で保持する保持部と、研磨部と前記保持面とを接触させて前記保持面をクリーニングするクリーニング部材と、を有し、前記クリーニング部材は、前記研磨部に配置され気体を供給するための供給口と、前記研磨部の周辺に配置され気体を吸引するための吸引口と、前記研磨部の周辺に設けられた平坦部と、を有し、前記平坦部は、前記研磨部と前記保持面とが接触している状態で、前記保持面に沿って平行で前記保持面に接触しない面を有する。
図15(d)に示すように、インプリント材3zを硬化させた後、型4zと基板1zを引き離すと、基板1z上にインプリント材3zの硬化物のパターンが形成される。この硬化物のパターンは、型の凹部が硬化物の凸部に、型の凸部が硬化物の凹部に対応した形状になっており、即ち、インプリント材3zに型4zの凹凸パターンが転写されたことになる。
Claims (12)
- 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
基板を保持面上で保持する保持部と、
研磨部と前記保持面とを接触させて前記保持面をクリーニングするクリーニング部材と、を有し、
前記クリーニング部材は、前記研磨部に配置され気体を供給するための供給口と、前記研磨部の周辺に配置され気体を吸引するための吸引口と、前記研磨部の周辺に設けられた平坦部と、を有し、
前記平坦部は、前記研磨部と前記保持面とが接触している状態で、前記保持面に沿って平行で前記保持面に接触しない面を有する
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記研磨部と前記保持面とが接触している状態で形成される、前記クリーニング部材と前記保持部の間の空間に前記供給口を介して気体を供給する供給部と、前記吸引口を介して前記空間から気体を吸引する吸引部を有することを特徴とする、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記研磨部と前記保持面とが接触している状態で形成される、前記平坦部と前記保持部の間の第1空間から前記吸引部に吸引される気体の流量より、前記研磨部と前記保持面とが接触している状態で形成される、前記研磨部と前記保持部の間の第2空間から前記吸引部に吸引される気体の流量の方が多くなることを特徴とする、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記クリーニング部材は、前記吸引口の周辺に第2吸引口を有し、
前記吸引部は、前記第2吸引口を介して前記気体を吸引することを特徴とする、請求項2又は請求項3に記載のリソグラフィ装置。 - 前記クリーニング部材は、前記第2吸引口の周辺に設けられた第2平坦部を有し、
前記第2平坦部は、前記研磨部と前記保持面とが接触している状態で、前記保持面に沿って平行で前記保持面に接触しない第2面を有することを特徴とする、請求項4に記載のリソグラフィ装置。 - 前記研磨部と前記保持面とが接触している状態で形成される、前記第2平坦部と前記保持部の間の第3空間から前記吸引部に吸引される気体の流量より、前記研磨部と前記保持面とが接触している状態で形成される、前記平坦部と前記保持部の間の第1空間から前記吸引部に吸引される気体の流量の方が多くなることを特徴とする、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記研磨部と前記保持面とが接触している状態で前記クリーニング部材、及び前記保持部のうち少なくとも1つを移動させて前記保持部をクリーニングすることを特徴とする、請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記クリーニング部材で前記保持面をクリーニングした後に、粘着部材で前記保持面をクリーニングすることを特徴とする、請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記クリーニング部材で前記保持面をクリーニングした後に、粘着部材で前記クリーニング部材をクリーニングすることを特徴とする、請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記研磨部と前記保持面とが接触している状態では前記研磨部と前記保持部に配置された複数の突起とが接触していることを特徴とする、請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記供給口は、前記研磨部の中央に配置されることを特徴とする、請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1乃至請求項11のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、を有し、
処理した前記基板を用いて物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017162178A JP6942562B2 (ja) | 2017-08-25 | 2017-08-25 | リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |
US16/107,864 US10444646B2 (en) | 2017-08-25 | 2018-08-21 | Lithography apparatus and method of manufacturing article |
KR1020180097810A KR102383372B1 (ko) | 2017-08-25 | 2018-08-22 | 리소그래피 장치 및 물품의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017162178A JP6942562B2 (ja) | 2017-08-25 | 2017-08-25 | リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019041005A JP2019041005A (ja) | 2019-03-14 |
JP2019041005A5 true JP2019041005A5 (ja) | 2020-08-27 |
JP6942562B2 JP6942562B2 (ja) | 2021-09-29 |
Family
ID=65435156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017162178A Active JP6942562B2 (ja) | 2017-08-25 | 2017-08-25 | リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10444646B2 (ja) |
JP (1) | JP6942562B2 (ja) |
KR (1) | KR102383372B1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7320360B2 (ja) | 2019-03-06 | 2023-08-03 | 日東電工株式会社 | 粘着シート |
EP3919978A1 (en) * | 2020-06-05 | 2021-12-08 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Apparatus and a method of forming a particle shield |
JP2022152042A (ja) * | 2021-03-29 | 2022-10-12 | 株式会社ディスコ | 研磨装置 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5559582A (en) * | 1992-08-28 | 1996-09-24 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
JP3613288B2 (ja) | 1994-10-18 | 2005-01-26 | 株式会社ニコン | 露光装置用のクリーニング装置 |
US5825470A (en) * | 1995-03-14 | 1998-10-20 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
JP3450584B2 (ja) | 1996-04-09 | 2003-09-29 | キヤノン株式会社 | 半導体露光装置 |
JP3441956B2 (ja) * | 1998-02-16 | 2003-09-02 | キヤノン株式会社 | 露光装置、クリーニング用砥石およびデバイス製造方法 |
JP2000077368A (ja) * | 1998-08-31 | 2000-03-14 | Okamoto Machine Tool Works Ltd | チャック機構よりウエハを取り外す方法 |
US6249932B1 (en) * | 1999-01-29 | 2001-06-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Apparatus and method for removing fine particles |
US6176770B1 (en) * | 2000-01-31 | 2001-01-23 | United Microelectronics Corp. | Grindstone having a vacuum system in a pin chuck stepper |
EP1329770A1 (en) * | 2002-01-18 | 2003-07-23 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
DE60323927D1 (de) * | 2002-12-13 | 2008-11-20 | Asml Netherlands Bv | Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung |
US7986395B2 (en) * | 2005-10-24 | 2011-07-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Immersion lithography apparatus and methods |
JP2010501999A (ja) * | 2006-12-08 | 2010-01-21 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
KR101423611B1 (ko) * | 2008-01-16 | 2014-07-30 | 삼성전자주식회사 | 기판 처리 장치, 노광 장치 및 클리닝 툴의 세정 방법 |
JP2010093245A (ja) * | 2008-10-07 | 2010-04-22 | Nikon Corp | 露光装置、メンテナンス方法、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP2010153407A (ja) * | 2008-12-23 | 2010-07-08 | Nikon Corp | 清掃方法及び装置、並びに露光方法及び装置 |
NL2004153A (en) * | 2009-02-24 | 2010-08-25 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, a method for removing material of one or more protrusions on a support surface, and an article support system. |
JP5769451B2 (ja) * | 2011-03-07 | 2015-08-26 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品の製造方法 |
JP2012243805A (ja) * | 2011-05-16 | 2012-12-10 | Toshiba Corp | パターン形成方法 |
JP2016031952A (ja) * | 2014-07-25 | 2016-03-07 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
-
2017
- 2017-08-25 JP JP2017162178A patent/JP6942562B2/ja active Active
-
2018
- 2018-08-21 US US16/107,864 patent/US10444646B2/en active Active
- 2018-08-22 KR KR1020180097810A patent/KR102383372B1/ko active IP Right Grant
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2019041005A5 (ja) | ||
JP2015122373A5 (ja) | ||
JP2011114309A5 (ja) | ||
CN105531796B (zh) | 为使沉积留存增加而用于表面纹理化的几何形状和图案 | |
JP2019502056A5 (ja) | ||
JP2011507712A5 (ja) | ||
JP2017500217A5 (ja) | ||
JP2016538139A5 (ja) | ||
SE0802294L (sv) | Förfarande för tillverkning av en kiselkarbid-halvledarkrets | |
JP2016201485A5 (ja) | ||
USD785578S1 (en) | Substrate supporting arm for semiconductor manufacturing apparatus | |
RU2017102177A (ru) | Тисненый лист из термопластичной смолы, гравированный валок, способ изготовления гравированного валка, межлистовой слой ламинированного стекла и ламинированное стекло | |
JP2015231036A5 (ja) | ||
JP2017092396A5 (ja) | 基板を処理する装置、及び物品の製造方法 | |
JP2015201556A5 (ja) | ||
JP2016042501A5 (ja) | ||
JP2017507247A5 (ja) | ||
JP2016527720A5 (ja) | ||
JP2004221244A5 (ja) | ||
JP2016004837A5 (ja) | インプリント装置、インプリント方法、物品の製造方法及び供給装置 | |
JP2018163954A5 (ja) | ||
JP2015193246A5 (ja) | ||
JP2010283108A5 (ja) | ||
JP2010534610A5 (ja) | ||
JP2018078258A5 (ja) | 装置、方法、及び物品製造方法 |