JP2017507247A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 一以上の堆積ユニット（６８０）を含む、フレキシブル基板（１４０）を処理するための真空処理チャンバ（６０）、及び
   前記一以上の堆積ユニットのすぐ下流に配置された洗浄ユニット（１５０）
   を備える、フレキシブル基板被覆装置（１００）。
2. 前記洗浄ユニット（１５０）が粒子変位ユニット（１８）及び粒子消散ユニット（１９）を含む、請求項１に記載のフレキシブル基板被覆装置。
3. 前記一以上の堆積ユニット（６８０）の下流に配置された一以上の偏向ロール（１４、１０４）を更に含み、被覆された側で前記フレキシブル基板に接触する、前記一以上の堆積ユニットの下流に配置された前記一以上の偏向ロールのすべてが、前記洗浄ユニット（１５０）の下流に配置されている、請求項１又は２に記載のフレキシブル基板被覆装置。
4. 前記洗浄ユニットが、第１の接着性ロール（１８）及び第２の接着性ロールを含む、請求項１から３の何れか一項に記載のフレキシブル基板被覆装置。
5. 前記第１の接着性ロール（１８）が、前記フレキシブル基板堆積装置の作動時、前記フレキシブル基板（１４０）に接触するように配置されており、前記第２の接着性ロール（１９）が、前記第２の接着性ロールの表面が前記第１の接着性ロール（１８）の表面に接触するように配置されている、請求項４に記載のフレキシブル基板堆積装置。
6. 前記真空処理チャンバが、回転軸（５１１）を有する被覆ドラム（５１０）を更に含み、前記洗浄ユニットが、前記フレキシブル基板が前記被覆ドラムに接触する位置で前記フレキシブル基板（１４０）に接触するように配置されている、請求項１から５の何れか一項に記載のフレキシブル基板被覆装置。
7. 前記一以上の堆積ユニット（６８０）のすべて又は前記一以上の堆積ユニットの少なくとも半分が、前記被覆ドラム（５１０）の前記回転軸（５１１）の下に配置されている、請求項６に記載のフレキシブル基板被覆装置。
8. 被覆ドラムを冷却するための冷却ユニット、前記洗浄ユニットを冷却するための冷却ユニット、及び前記被覆ドラムを加熱するための加熱ユニットのうちの一以上を更に備える、請求項１から７の何れか一項に記載のフレキシブル基板被覆装置。
9. フレキシブル基板スプールを受容する一以上のスプールチャンバ（７０、８０）を更に含み、前記一以上のスプールチャンバ内の圧力が、前記真空処理チャンバ（６０）内よりも高い、請求項１から８の何れか一項に記載のフレキシブル基板被覆装置。
10. 前記洗浄ユニットがレーザ及び／又は吸引ユニットを含む、請求項１から９の何れか一項に記載のフレキシブル基板被覆装置。
11. ウェブ貯蔵スプール（１１０）の下流且つ前記一以上の堆積ユニット（６８０）の上流に配置された、第２の洗浄ユニット（１６０）を更に含む、請求項１から１０の何れか一項に記載のフレキシブル基板被覆装置。
12. フレキシブル基板（１４０）上に薄膜を堆積する方法であって、
    前記フレキシブル基板を真空被覆し、それにより前記フレキシブル基板上に一以上の層を堆積すること、及び
    前記フレキシブル基板を、前記被覆のすぐ下流で洗浄すること
    を含む、方法。
13. 前記洗浄することが、粒子を前記フレキシブル基板から分離すること、及び前記粒子を貯蔵ユニットなどに溜めることを含む、請求項１２に記載の方法。
14. 前記被覆後に、前記フレキシブル基板の被覆された側で前記フレキシブル基板に接触することを更に含み、接触することが、前記真空被覆の上流及び／又は前記洗浄の下流のみで行われる、請求項１２又は１３に記載の方法。
15. 前記洗浄することが、前記フレキシブル基板を第１の接着性ロール（１８）に接触させること、及び前記第１の接着性ロールを第２の接着性ロール（１９）に接触させることを含み、前記第２の接着性ロールの粘着性が、前記第１の接着性ロールの粘着性よりも高い、請求項１２から１４の何れか一項に記載の方法。