JP2018526389A5 - - Google Patents

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  1. 拌しながら、触媒の非存在下、水性溶媒中で、苛性剤と、式RCXYCZQTを有するハロフルオロアルカンを接触させ、式RCX=CZQを有するフルオロオレフィンを含む生成物を製造する工程を含み、式中、Rは過フッ素化アルキル基であり、X、ZおよびQは独立してHまたはハロゲンであり、YおよびTの一方はHであり、他方はCl、BrまたはIである、脱ハロゲン化水素プロセス。
  2. 温度が約20℃から約100℃の範囲である、請求項1に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  3. 約30℃から約90℃の範囲の温度で実施されるプロセスである、請求項2に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  4. 前記苛性剤がNaOH、KOH、LiOH、CsOH、Ca(OH)2、Zn(OH)2、Na2CO3、K2CO3、K3PO4、Na3PO4、KFまたはCsFである、請求項1に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  5. 前記ハロフルオロアルカンに対する前記苛性剤のモル比が約0.01から約5の範囲である、請求項1に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  6. 前記モル比が約0.02から約4である、請求項5に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  7. 前記モル比が約0.04から約2である、請求項5に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  8. 前記モル比が約0.05から約1.5である、請求項5に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  9. 前記水性溶媒が水である、請求項1に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  10. 前記ハロフルオロアルカンがCF3CHClCH2Clであり、前記フルオロアルケンがCF3CCl=CH2である、請求項1に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  11. 前記ハロフルオロアルカンがCF3CH2CHCl2であり、前記フルオロアルケンがCF3CH=CHClである、請求項1に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  12. 前記ハロフルオロアルカンがCF3CCl2CH3であり、前記フルオロアルケンがCF3CCl=CH2である、請求項1に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  13. 前記ハロフルオロアルカンがCF3CHFCH2Clであり、前記フルオロアルケンがCF3CF=CH2である、請求項1に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  14. 前記ハロフルオロアルカンがCF3CClFCH3であり、前記フルオロアルケンがCF3CF=CH2である、請求項1に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  15. 前記YおよびTの一方が水素であり、他方が塩素である、請求項1に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  16. アミンがさらに存在する、請求項1に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  17. 前記アミンは、式NR1R2R3(式中、R1、R2およびR3は、独立して水素、アルキル基、アリール、アリールアルキル基、ヘテロ環、ヘテロ環式アルキルである)または、式N(R4)(R5)N(R6)(R7)(式中、R4、R5、R6およびR7は、独立して水素、アルキル基、アリール、アリールアルキル基、ヘテロ環、またはヘテロ環式アルキルである)を有する、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  18. 約0℃から約100℃の範囲の温度で、水性溶媒中で実施される、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  19. 前記ハロフルオロアルカンに対する前記アミンのモル比が約0.02から約3の範囲である、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素反応。
  20. 前記苛性剤に対する前記アミンのモル比が約0.02から約3の範囲である、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素反応。
  21. 前記ハロフルオロアルカンに対する前記苛性剤のモル比が約0.01から約5の範囲である、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素反応。
  22. 前記ハロフルオロアルカンに対する前記アミンのモル比が約0.02から約3の範囲であり、前記苛性剤に対する前記アミンのモル比が約0.02から約3の範囲であり、および、前記ハロフルオロアルカンに対する前記苛性剤のモル比が約0.01から約5の範囲である、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素反応。
  23. 前記苛性剤がNaOH、KOH、LiOH、CsOH、Ca(OH)2、Zn(OH)2、Na2CO3、K2CO3、K3PO4、またはNa3PO4である、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  24. 前記アミンがトリエチルアミンである、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  25. 約−10psigから約150psigの圧力で実施される、請求項1または請求項16に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  26. 前記苛性剤のモル比が約0.01から約5の範囲である、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  27. 前記水性溶媒が水である、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  28. 前記ハロフルオロアルカンがCF3CHClCH2Clであり、前記フルオロオレフィンがCF3CCl=CH2である、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  29. 前記ハロフルオロアルカンがCF3CH2CHCl2であり、前記フルオロオレフィンがCF3CH=CHClである、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  30. 前記ハロフルオロアルカンがCF3CCl2CH3であり、前記フルオロオレフィンがCF3CCl=CH2である、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  31. 前記ハロフルオロアルカンがCF3CHFCH2Clであり、前記フルオロオレフィンがCF3CF=CH2である、請求項17に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  32. 前記ハロフルオロアルカンがCF3CClFCH3であり、前記フルオロオレフィンがCF3CF=CH2である、請求項16に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  33. 約0.1から約50馬力/1000ガロン液体の範囲の混合力で攪拌が行われる、請求項1または16に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  34. 約0.5から約40馬力/1000ガロン液体の範囲の混合力で攪拌が行われる、請求項33に記載の脱ハロゲン化水素プロセス。
  35. 約1から約35馬力/1000ガロン液体の範囲の混合力で攪拌が行われる、請求項34に記載の脱ハロゲン化水素反応。
  36. 約0psigから約100psigの範囲の圧力で実施される、請求項1または請求項16に記載の脱塩化水素反応。
  37. 約5psigから約100psigの範囲の圧力で実施される、請求項1または請求項16に記載の脱塩化水素反応。
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