JP2018518003A - チップ部品用の電極用ペースト組成物 - Google Patents

チップ部品用の電極用ペースト組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP2018518003A
JP2018518003A JP2016525101A JP2016525101A JP2018518003A JP 2018518003 A JP2018518003 A JP 2018518003A JP 2016525101 A JP2016525101 A JP 2016525101A JP 2016525101 A JP2016525101 A JP 2016525101A JP 2018518003 A JP2018518003 A JP 2018518003A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
core
paste composition
glass frit
ceramic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016525101A
Other languages
English (en)
Inventor
パク、ソン−ヨン
リー、ビョン−ユン
リー、ジュン−ウン
リー、ジェ−ウク
パク、キ−ブン
ユー、ジェ−リム
キム、カ−ウン
ジュン、ヤ−ホ
イ、ジャン−フイ
Original Assignee
チャン スン カンパニー、リミテッド
チャン スン カンパニー、リミテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by チャン スン カンパニー、リミテッド, チャン スン カンパニー、リミテッド filed Critical チャン スン カンパニー、リミテッド
Publication of JP2018518003A publication Critical patent/JP2018518003A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C12/00Powdered glass; Bead compositions
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/14Conductive material dispersed in non-conductive inorganic material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Coils Or Transformers For Communication (AREA)

Abstract

本発明は、導電性フィラーを、金属粉末であるコアと、コアの外面にコートされるセラミック粉末であるコート層と、で構成することにより、焼成時、シート及びコート層の焼結がほぼ同時に進行し、これにより、シート及びコート層の収縮開始時点及び終了時点がほぼ同時に進行し、シート及びセラミックコート粉末の収縮挙動がほぼ同時に進行することにより、収縮マッチング性が増加し、シート及び電極のデラミネーションを最小化させ、噴霧熱分解工程により、導電性フィラーのコア(金属粉末)の外面にコート層(セラミック)をコートすることにより、噴霧溶液の組成制御、有機物の比重、反応炉の温度制御を通じて、導電性フィラーのコア及びコート層の微細な制御が可能であるとともに、工程が多段階に分離して行われず、一回の工程で行われ、簡単な工程で製造され、ガラスフリットを含むが、ガラスフリットの含有成分及び軟化点(Ts)の調節を通じて、セラミックの焼結を促進させ、コア及びコート層の収縮開始時点及び収縮終了時点がほぼ同時に進行することにより、収縮マッチング性が増加し、焼結効率を顕著に高めることができる、チップ部品用の電極用ペースト組成物に関する。

Description

本発明は、チップ部品用の電極用ペースト組成物に関し、詳しくは、噴霧熱分解法を用いて、コア(金属粉末)の外面にコート層(セラミック)をコートし、導電性フィラーを構成するとともに、ガラスフリットの含有量及び軟化点調節の簡単な工程により、チップ特性及び電極効率を顕著に高めることができるチップ部品用の電極用ペースト組成物に関する。
スマートフォンのようなデジタル装置の技術が急速に発達するにつれて、小型化、高機能化、及び高性能のチップ部品への消費者のニーズが幾何級数的に増加する趨勢にあり、このようなチップ部品の小型化及び高機能化を満たすために薄層化及び高積層化が必須になってきている。
図1は、従来の積層型セラミックインダクタを示す側断面図である。これは、チップ部品の代表的な積層型セラミックインダクタ(MLCI)100であって、フェライト、酸化亜鉛(ZnO)のようなセラミック系シート層101と、銀(Ag)、パラジウム(Pd)のような貴金属系で形成され、シートの前後面に塗布される外部電極103と、シート層の内部に一定のパターンで積層される内部電極105と、からなる。
内部電極105は、高い伝導性を有する銀(Ag)、パラジウム(Pd)のような金属粉末を基盤とするペースト組成物が用いられる。このとき、セラミック誘電母材の焼結性及び結晶性が品質を左右するので、高温での焼成が行われる金属粉末が必須になっている。
しかしながら、従来の積層型セラミックインダクタ100は、伝導性を確保するための金属粉末が、シートとの収縮開始時点及び終了時点が異なり、収縮率が増加し、このような収縮率の増加により、電極の断面積が減少し、直流抵抗(Rdc)が増加し、電極特性が低下するという問題点が発生する。
しかも、従来の積層型セラミックインダクタ100は、シート及び金属粉末が相違した収縮挙動を有し、収縮マッチング性に劣るので、シート101及び内部電極105のデラミネーションが頻繁に発生するという問題点があった。
したがって、絶縁抵抗及び温度特性を確保するために、微粒であっても、優れた特性を有する母材の開発に伴い、添加剤の微粒化及び分散についての研究が多様に進行している。
本出願人の特許発明に係る特許文献1では、金属粉末の外面にコート粉末をコートさせた導電性フィラーで構成される導電性フィラーを含むペースト組成物について研究し、前記ペースト組成物は、焼結時、コート粉末が金属粉末の酸化を抑制させ、抵抗特性を改善するとともに、電極効率を高めることができるようになった。
上記したペースト組成物は、太陽電池用として研究されたが、以下、前記ペースト組成物(以下、第1の従来技術という。)をチップ部品に適用するものとして、例えば、第1の従来技術の問題点について説明する。
第1の従来技術は、導電性フィラーを形成するコア(金属粉末)‐コート層(コート粉末)構造の粒子が、公知の液相工程による多段工程により行われるが、このような多段液相工程は、コア及びコート層間に視覚や熱処理で除去可能な支持体物質をコートする段階と、コート層を形成した後、コア及びコート層間の物質を除去する段階と、からなるので、工程が複雑かつ煩雑であるという問題点が発生する。
また、第1の従来技術に適用される液相工程は、コアを形成する金属粉末を合成するために、多量の有機物を用いるので、低温合成による残留有機物、金属粉末の結晶性に劣り、精密な制御が困難であるという問題点が発生する。
また、第1の従来技術は、セラミックシートとの焼成工程時、セラミックシート及びコート粉末の焼結開始時点が異なるので、収縮率が増加し、電極の断面積が減少し、これにより直流抵抗(Rdc)値が増加し、チップ特性が低下するとともに、収縮率の偏差により、収縮挙動が異なるので、デラミネーション現象が頻繁に発生するという短所があった。
このような問題点を解決するために、導電性フィラーのコート層を形成するコート粉末をセラミック粉末とするペースト組成物(以下、第2の従来技術という。)が研究され、第2の従来技術では、シート及びコート粉末の焼結がほぼ同時に進行することにより、シート及びコート粉末の収縮マッチング性を増加させ、シート及びコート粉末のデラミネーションを最小化することができるのみならず、収縮率を低め、抵抗特性を改善することができる長所を有する。
しかしながら、第2の従来技術では、シート及びコート粉末の収縮マッチング性は増加するのに対して、コート粉末及び金属粉末の焼結温度が異なり、焼結組織の緻密性が顕著に劣り、これにより、抵抗が増加し、チップ特性が劣るという問題点が発生する。
すなわち、1)金属粉末の外面にコート粉末(セラミック)を塗布させ、導電性フィラーを構成することにより、シートとの収縮マッチング性を高め、2)従来、導電性フィラーのコア‐コア層を形成するための液相工程時、精密制御が困難であるだけでなく、工程が複雑かつ煩雑であり、金属粉末の結晶性に劣るという問題点を解決し、3)金属粉末の外面にコート粉末がコートされることにより、金属粉末及びコート粉末の収縮組織の緻密性に劣るという問題点を解決することができる、チップ部品用の電極用ペースト組成物についての研究が至急であることが実情である。
韓国登録特許第10−1315105号公報
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、導電性フィラーを、金属粉末であるコアと、コアの外面にコートされるセラミック粉末であるコート層と、で構成することにより、焼成時、シート及びコート層を形成するコート粉末の焼結がほぼ同時に進行し、これにより、シート及びコート層を形成するセラミック粉末の収縮開始時点及び終了時点がほぼ同時に進行し、シート及びセラミックコート粉末の収縮挙動がほぼ同時に進行することにより、収縮マッチング性が増加し、シート及び電極のデラミネーションを最小化させることができる、チップ部品用の電極用ペースト組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、噴霧熱分解工程により、導電性フィラーのコア(金属粉末)の外面にコート層(セラミック)をコートすることにより、噴霧溶液の組成制御、有機物の比重、反応炉の温度制御を通じて、導電性フィラーのコア及びコート層の微細な制御が可能であるとともに、工程が多段階に分離して行われず、一回の工程で行われ、簡単な工程で製造され得る、チップ部品用の電極用ペースト組成物を提供することにある。
本発明のまた他の目的は、ガラスフリットを含むが、ガラスフリットの含有成分及び軟化点(Ts)の調節を通じて、セラミックの焼結を促進させ、コア及びコート層の収縮開始時点及び収縮終了時点がほぼ同時に進行することにより、収縮マッチング性が増加し、焼結効率を顕著に高め、これにより、焼結組織の緻密性が顕著に増加し、抵抗を低めることができる、チップ部品用の電極用ペースト組成物を提供することにある。
上述した目的を達成するために、本発明による解決手段は、チップ部品のセラミック系シートの内部に間隔を置いて積層される電極用ペースト組成物において、前記ペースト組成物は、金属粉末であるコアと、前記コアの外面にコートされるセラミック系コート層とを含む導電性フィラーと、バインダーを溶媒に溶解させたビヒクルと、を含み、前記コート層及び前記シートをセラミック系で形成することにより、焼成時、前記シートとの収縮マッチング性を増加させるものである。
また、本発明において、前記導電性フィラーは、噴霧熱分解工程により、前記コアを形成する段階、及び前記コアの外面に前記コート層を形成する段階が、一回の工程で行われることが好ましい。
また、本発明において、前記ペースト組成物は、焼成時、前記コート層の焼結を促進させるためのガラスフリットをさらに含み、前記ペースト組成物は、前記導電性フィラー50.0〜90.0重量%と、前記ビヒクル9.0〜49.0重量%と、前記ガラスフリット0.2〜5.0重量%と、を含むことが好ましい。
また、本発明において、前記ガラスフリットは、軟化点(Ts)が、前記焼成時、焼結温度よりも80〜120℃低く形成されることが好ましい。
また、本発明において、前記ガラスフリットは、SiО54〜56重量%、CaО14〜16重量%、AlО6〜8重量%、BО10〜11重量%、ZnО4〜5重量%、ZrО3〜4重量%、KО2〜3重量%、及びBiО1〜3重量%を含むことが好ましい。
また、本発明において、前記コアは、直径が30μm未満、前記コート層は、厚さが10〜20nmであることが好ましい。
本発明によれば、導電性フィラーを金属粉末であるコアと、コアの外面にコートされるセラミック粉末であるコート層と、で構成することにより、焼成時、シート及びコート層の焼結がほぼ同時に進行し、これにより、シート及びコート層の収縮開始時点及び終了時点がほぼ同時に進行し、シート及びセラミックコート粉末の収縮挙動がほぼ同時に進行することにより、収縮マッチング性が増加し、シート及び電極のデラミネーションを最小化させることができる。
また、噴霧熱分解工程により、導電性フィラーのコア(金属粉末)の外面にコート層(セラミック)をコートすることにより、噴霧溶液の組成制御、有機物の比重、反応炉の温度制御を通じて、導電性フィラーのコア及びコート層の微細な制御が可能であるとともに、工程が多段階に分離して行われず、一回の工程で行われ、簡単な工程で製造され得る。
また、ガラスフリットを含むが、ガラスフリットの含有成分及び軟化点(Ts)の調節を通じて、セラミックの焼結を促進させ、コア及びコート層の収縮開始時点及び収縮終了時点がほぼ同時に進行することにより、収縮マッチング性が増加し、焼結効率を顕著に高めることにより、抵抗特性を改善することができる。
従来の積層型セラミックインダクタを示す側断面図である。 本発明の一実施例であるチップ部品用の電極用ペースト組成物を説明するための構成図である。 図2の導電性フィラーを説明するための構成図である。 図3の導電性フィラーを製造するための導電性フィラーの製造方法を示す工程図である。 本発明の一実施例である電極用ペースト組成物に適用されるガラスフリットを製造するためのガラスフリットの製造方法を示す工程順序図である。 本発明の一実施例である図2の電極用ペースト組成物を製造するための工程順序図である。 (a)は、900℃の焼成後、比較例4のように、ガラスフリットが添加されなかった電極用ペースト組成物の焼結組織を示す写真であり、(b)は、実施例1の焼結組織を示す写真である。 900℃の焼成温度であるとき、軟化点による本発明のガラスフリットの流動性を示す実験写真である。
以下、添付した図面を参照して、本発明の好適な一実施例について説明する。
図2は、本発明の一実施例であるチップ部品用の電極用ペースト組成物を説明するための構成図である。
図2のチップ部品用の電極用ペースト組成物1は、コア及びコート層からなる導電性フィラー3と、組成物の粘性を増加させるためのバインダーを溶剤に溶解したビヒクル5と、導電性フィラー3のコート層であるセラミックの焼結を促進させるためのガラスフリット7と、からなり、詳しくは、導電性フィラー50〜90重量%と、ビヒクル9〜49重量%と、ガラスフリット0.2〜5.0重量%とを含む。このとき、電極用ペースト組成物1は、フィラー3の焼結を抑制させるための公知の添加剤をさらに含んでもよく、添加剤は、0.01〜0.10重量%で添加されることが好ましい。
図3は、図2の導電性フィラーを説明するための構成図である。
導電性フィラー3は、チップ部品用の電極用ペースト組成物に適用され、チップ部品の電極の伝導性を確保するための構成物である。
また、導電性フィラー3は、図3に示すように、伝導性材質の金属粉末(以下コアという。)31と、コア31の外面に既設定された厚さで被覆されるコート粉末(以下、コート層という。)33と、からなる。このとき、コート層33は、後述する図4の噴霧熱分解工程により、コア31の外面にコートされ、このようなコート層のコート方法は、後述する図4において詳述する。
また、コア31は、伝導性材質からなり、詳しくは、銀(Ag)、ニッケル(Ni)、錫(Sn)、銅(Cu)、鉄(Fe)、パラジウム(Pd)、アルミニウム(Al)、金(Au)、亜鉛(Zn)、及び白金(Pt)粉末等の群から選ばれた1種以上であることが好ましい。
また、コアは、0.1〜30μm直径の無晶形、板状形、角形のような様々な形状に形成されてもよく、詳しくは、球形であることが好ましい。このとき、コアの直径が0.1μm未満であると、分散性が節減され、直径が30μmを超えると、電極の抵抗値が増幅するようになる。
コート層33は、コア31の外面にコートされ、10〜20nmの厚さで形成されることが好ましい。このとき、コート層33の厚さが、10nm未満であれば、コート層33の含有量があまりに減少し、焼結時、シートとの収縮マッチング性に劣り、20nmを超えると、コート層33の厚さがあまりに増加し、伝導性に劣り、所望の電極特性を発揮しないという問題点が発生する。
また、コート層33としては、シリカ、アルミナ、チタニア、イットリア、ジルコニア、セリア、酸化ガリウム、酸化ラタンリウム、酸化鉄、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化銅、または酸化亜鉛等の金属酸化物が用いられる。
図2のビヒクル5は、組成物の粘性を増加させるための有機バインダーを溶媒に溶解させて製造される。このとき、ビヒクル5は、有機バインダー15〜33重量%と、溶媒67〜85重量%とで構成される。
また、有機バインダーは、導電性フィラー3及びガラスフリット7を機械的に混合させ、ペースト組成物の粘度、及び組成物の変形と流れに関する特性である流動学的特性を決定する。
また、有機バインダーは、熱可塑性バインダーまたは熱硬化性バインダーのいずれかであってもよいが、熱処理時、コート粉末に有機バインダー成分またはその分解生成物の量を少なく発生させる熱可塑性樹脂であることが好ましい。このとき、熱可塑性バインダーは、アクリル、エチルセルロース、ポリエステル、ポリスルホン、フェノキシ、ポリアミド系のいずれか一つ、または少なくとも2つ以上の混合物で構成されてもよく、熱硬化性バインダーは、アミノ、エポキシ、フェノールのいずれか一つであり、または少なくとも2つ以上の混合物で構成されてもよい。
また、バインダーは、15〜33重量%で構成されることが好ましく、バインダーが15重量%未満であると、粘度が低くなり、乾燥後、接着力に劣るという問題点が発生し、バインダーが33重量%を超えると、バインダーの量があまりに増加し、バインダーの分解が容易に行われず、抵抗が増加するだけでなく、焼成時、バインダーが完全に除去されず、電極にキサンタンが残ってしまうという問題点が発生する。
有機溶媒は、有機バインダーが溶解され、電極用ペースト組成物の粘性を調節する機能を行い、通常、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、ラクトン類、エーテルアルコール類、エステル類、及びジエステル類のいずれか一つであり、または少なくとも2つ以上の混合物からなる。
また、有機溶媒は、ビヒクル5の67〜85重量%で構成されることが好ましく、粘度の調節により、多様な重量で構成されてもよい。
ガラスフリット7は、導電性フィラー3のコート層33を形成するセラミックと、コア31を形成する金属粉末とが、融点が異なり、コート層33を形成するセラミックの焼結の進行が遅く、焼結がうまく行われないという問題点を解決するために加えられたものであって、詳しくは、コート層33を形成するセラミックの焼結を促進させ、コート層33及びコア31の収縮開始時点及び終了時点がほぼ同時に行われるようにし、デラミネーション現象を抑制するとともに、焼結が効率的に行われるようになる。
また、ガラスフリット7は、ビスマス(Bi)、珪素(Si)、アルミニウム(Al)、ナトリウム(Na)、亜鉛(Zn)、バリウム(Ba)、マグネシウム(Mg)、鉛(Pb)、タリウム(Tl)、銅(Cu)、クロム(Cr)、コバルト(Co)、ホウ素(B)、セリウム(Ce)、及びカルシウム(Ca)酸化物のいずれか一つの酸化物であり、または少なくとも2つ以上の酸化物で混合される混合物で形成され、詳しくは、SiО54〜56重量%、CaО14〜16重量%、AlО6〜8重量%、BО10〜11重量%、ZnО4〜5重量%、ZrО3〜4重量%、KО2〜3重量%、及びBiО1〜3重量%で混合され、焼結温度900℃に対して780〜820℃の軟化点(Ts)を有することが好ましい。
また、ガラスフリット7は、平均1〜30μmの直径を有する。
また、ガラスフリット7は、電極用ペースト組成物の0.2〜0.5重量%からなる。このとき、ガラスフリット7の含有量が0.2重量%未満であると、含有量があまりに減少し、コート層(セラミック)33の焼結を促進させるための本来の機能を果たせず、コート粉末が金属粉末に比べて、焼結が遅く行われることにより、焼結組織の緻密度が顕著に劣るという問題点が発生し、ガラスフリット7の含有量が5.0重量%を超えると、伝導性に劣るガラスフリットの含有量が増加し、電極効率に劣るとともに、浮遊性の高い特性を有するガラスが浮遊し、電極の表面を覆って、抵抗が増加してしまうという問題点が発生する。
また、ガラスフリット7は、焼結温度よりも80〜120℃低い軟化点(Ts)を有するように製造される。例えば、焼結温度が900℃であるとき、ガラスフリット7の軟化点(Ts)は、780〜820℃であることが好ましい。
このとき、ガラスフリット7の軟化点が焼結温度よりも−120℃以下であれば、焼成時、ガラスの溶融時点がコート粉末に比べて早過ぎ、金属粉末が収縮することにより、コート粉末及び金属粉末の焼結組織の緻密性が低下し、かえって抵抗が増加してしまうという問題点が発生し、ガラスフリット7の軟化点が焼結温度よりも−80℃を超えると、ガラスの溶融時点が遅滞し、コート粉末の焼結を促進させるための本来の機能を果たせず、コート粉末及び金属粉末の焼結組織の緻密性が低下するという問題点が発生する。
このように、本発明では、ガラスフリット7の含有量及び軟化点の調節により、コア‐コート層(core‐shell)構造を有するフィラー3の焼結が容易に行われるように、最適の条件を提供可能になる。
言い換えると、本発明の一実施例であるチップ部品用の電極用ペースト組成物1は、コア31の外面にコート層33を形成して導電性フィラー3を構成することにより、セラミック系シートとの収縮マッチング性を高め、デラミネーションの発生を最小化するとともに、焼結時、収縮率を節減させ、電極のショートを防止し、また、コア31の外面にセラミック系のコート層33がコートされることにより、伝導性に劣るだけでなく、焼結が容易に行われないという問題点を解決するために、ガラスフリット7を加えるとともに、ガラスフリットの含有量及び軟化点の調節により、コート粉末及び金属粉末の焼結効率及びチップ特性を極大化させることができる。
図4は、図3の導電性フィラーを製造するための導電性フィラーの製造方法を示す工程図である。
図4の導電性フィラーの製造方法(S100)は、噴霧溶液製造段階(S110)と、液滴活性化段階(S120)と、熱分解及び粒子成長段階(S130)と、コア及びコート層形成段階(S140)と、からなる。
噴霧溶液製造段階(S110)は、コア31を構成するコア形成物質の前駆体と、コート層33を構成するコート層形成物質の前駆体とを用いて、噴霧溶液を製造する工程段階である。
また、コア形成物質は、銀(Ag)、ニッケル(Ni)、錫(Sn)、銅(Cu)、鉄(Fe)、パラジウム(Pd)、アルミニウム(Al)、金(Au)、亜鉛(Zn)、及び白金(Pt)等の1種以上を含む塩を用いてもよく、コート層形成物質は、シリカ、アルミナ、チタニア、イットリア、ジルコニア、セリア、酸化ガリウム、 酸化ラタンリウム、酸化鉄、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化銅、または酸化亜鉛等の1種以上を含む塩を用いてもよい。
また、噴霧溶液製造段階(S110)は、このような構成のコア形成物質及びコート層形成物質を溶媒に混合して溶解させる。このとき、溶媒は、蒸留水、アルコールのような公知の様々な溶媒が適用されてもよい。
また、噴霧溶液製造段階(S110)は、分解過程において、炭素の酸化を誘発するための有機物添加剤を加え、有機物添加剤は、スクロース、石油ピッチ、石炭ピッチ、メソフェーズピッチ、コールタールピッチ、熱処理されたピッチ、塩化ビニル樹脂、ビニル系高分子、芳香族炭化水素、窒素環化合物、硫黄環化合物、石炭液化油、アスファルテン、原油、ナフサ、石油系重質油、及び分解系重質油等の群から選ばれた1種以上が選ばれてもよい。このとき、有機物は、コア形成物質及びコート層形成物質により合成される濃度の80〜200%の濃度を有するように加えられる。
液滴活性化段階(S120)は、噴霧溶液製造段階(S110)で製造された噴霧溶液を液滴状態で活性化させる工程段階である。
また、液滴活性化段階(S120)は、公知の超音波噴霧装置、空気ノズル噴霧装置、液滴発生装置等の噴霧手段で、噴霧溶液を供給して液滴を生成する。このとき、生成する液滴は、0.1〜300μmの直径で形成されることが好ましい。
熱分解及び粒子成長段階(S130)は、公知の噴霧熱分解装置を用い、液滴活性化段階(S120)により生成した液滴の熱分解及び粒子成長過程を誘発し、コア及びコート層を形成する工程段階である。
コア及びコート層形成段階(S140)は、乾燥段階、熱分解段階、及び結晶化段階を含み、熱分解及び粒子成長段階(S130)により熱分解及び粒子成長過程を経た液滴を瞬間的に高温の反応部に投入すると、液滴は、乾燥段階、熱分解段階、及び結晶化段階を経て、上述した図2のコア及びコート層を有する導電性フィラー3を形成するようになる。
乾燥段階は、液滴を高温で瞬間的に乾燥させることにより、瞬間的な乾燥により、液滴を炭素が含有された複合体塩で乾燥させる工程段階である。
また、乾燥段階から熱分解段階までの経過時間は、有機物分解率を決定するので、最適の経過時間である0.1〜0.3秒で行われることが好ましい。このとき、経過時間が0.1秒未満であれば、爆発的な有機物分解により、中空薄殻からなる中空構造が形成され、経過時間が0.3秒を超えると、有機物分解の進行が遅く、コート層の厚さが厚い中空構造の粒子を形成するようになる。
熱分解段階は、乾燥段階を経た液滴の表面の有機物が燃焼し、燃焼ガスが発生しながら、1次コア‐コート層の粒子構造を形成した後、連鎖的にコア部分において残留有機物反応が発生し、幾重のシェルで取り囲まれた多重ヨーク‐シェル構造を合成することができる。
結晶化段階は、熱分解段階を行った粒子を3〜5秒間結晶化させることにより、コア‐コート層構造の粉末を製造するようになる。
図5は、本発明の一実施例である電極用ペースト組成物に適用されるガラスフリットを製造するためのガラスフリットの製造方法を示す工程順序図である。
図5のガラスフリットの製造方法(S200)は、ガラス試片の製造段階(S210)と、第1ガラス粉末の製造段階(S220)と、第1ガラス粉末スラリの製造段階(S230)と、第2ガラス粉末の製造段階(S240)、第2ガラス粉末スラリの製造段階(S250)と、最終ガラス粉末の製造段階(S260)と、からなる。
ガラス試片の製造段階(S210)は、酸化物粉末を1200〜1500℃の温度で1時間溶融させた後、急冷させ、ガラス試片を製造する工程段階である。
また、本発明では、焼結温度が900℃であることを勘案して、軟化点(Ts)が780〜820℃になるように、ガラス試片の製造段階(S210)に適用される酸化物粉末を、SiО54〜56重量%、CaО14〜16重量%、AlО6〜8重量%、BО10〜11重量%、ZnО4〜5重量%、ZrО3〜4重量%、KО2〜3重量%、及びBiО1〜3重量%を混合して構成した。このとき、SiО、CaО、及びBОは、ガラスの骨格を形成するので、含有量に比例して軟化点が増加し、BО及びKОは、軟化点を低くする性質を有するので、含有量に比例して軟化点が低くなる。
すなわち、本発明では、ガラス試片の製造段階(S210)の際に、酸化物粉末のそれぞれの含有量の調節により、ガラスフリットの軟化点を780〜820℃とすることにより、最適の条件でコート粉末の焼結を効率的に促進させるようになる。
第1ガラス粉末の製造段階(S220)は、ガラス試片の製造段階(S210)で製造されたガラス試片を、ディスクミル装備を用いて、7000rpm以上で30分間乾式粉砕することにより、平均粒径200μmの第1ガラス粉末を製造する工程段階である。
第1ガラス粉末スラリの製造段階(S230)は、第1ガラス粉末の製造段階(S220)で製造された第1ガラス粉末100gと、直径2mmのジルコニアボール600gと、純粋100gとを混合した後、混合物をモノミル装備を用いて、300rpmで30分間湿式粉砕することにより、第1ガラス粉末スラリを製造する工程段階である。
第2ガラス粉末の製造段階(S240)は、第1ガラス粉末スラリの製造段階(S230)で製造された第1ガラス粉末スラリを、100℃で12時間乾燥し、10μm以下の直径を有する第2ガラス粉末を製造する工程段階である。
第2ガラス粉末スラリの製造段階(S250)は、第2ガラス粉末の製造段階(S240)で製造された10μm直径を有する第2ガラス粉末100gと、直径0.5mmのジルコニアボール600gと、純粋160gとを混合し、モノミル装備で、300rpmで30分間湿式粉砕することにより、第2ガラス粉末スラリを製造する工程段階である。
最終ガラス粉末の製造段階(S260)は、第2ガラス粉末スラリの製造段階(S250)で製造された第2ガラス粉末スラリを、200℃以下で、12時間乾燥し、平均直径1μmのガラス粉末を製造し、上述した図2のガラスフリットを製造する工程段階である。
図6は、本発明の一実施例である図2の電極用ペースト組成物を製造するための工程順序図である。
電極用ペースト組成物の製造方法(S1)は、図6に示すように、導電性フィラー製造段階(S100)と、ガラスフリット製造段階(S200)と、ビヒクル製造段階(S30)と、混合段階(S40)と、フィルタリング段階(S50)と、気泡除去段階(S60)と、からなる。
導電性フィラー製造段階(S100)は、噴霧熱分解工程により、コア31の外面にコート層33が形成される図3に示した導電性フィラー3を製造する工程段階であり、このような噴霧熱分解工程により、コア31の外面にコート層を形成させる方法は、図4において既述したので、詳細な説明を省略する。
また、導電性フィラー製造段階(S100)は、0.1〜30μmの直径を有するように、コア31を形成し、噴霧熱分解工程により、コア31の外面に0.1〜30μmの厚さのコート層33を形成することにより、1)コア31の外面にコート層(セラミック)が形成され、焼成時、シートとの収縮開始時点及び収縮終了時点がほぼ同時に進行し、シート及びセラミックコート層33の収縮挙動がほぼ同時に進行することにより、収縮マッチング性が増加し、シートとのデラミネーションを最小化し、2)噴霧熱分解工程により、コート層を形成することにより、コート層の微細な制御が可能であるのみならず、工程が簡単に行われる効果が得られる。
ガラスフリット製造段階(S200)は、軟化点(Ts)が既設定の焼成温度よりも80〜120℃低いガラスフリット7を製造するための工程段階であり、このようなガラスフリット7の製造方法は、図5において詳述したので、詳細な説明を省略する。
ビヒクル製造段階(S30)は、有機バインダー10〜33重量%を、有機溶媒67〜90重量%に溶解させることにより、ビヒクルを製造する工程段階である。このとき、有機バインダーは、ペースト組成物の粘度、及び組成物の変形と流れに関する特性である流動学的特性を決定し、有機溶媒は、バインダーが溶解され、電極用ペースト組成物の粘性を調節する機能を行う。
また、有機バインダーは、可塑性バインダーまたは熱硬化性バインダーのいずれかであってもよいが、熱処理時、コート粉末に有機バインダー成分またはその分解生成物の量を少なく発生させる熱可塑性樹脂であることが好ましい。このとき、熱可塑性バインダーは、アクリル、エチルセルロース、ポリエステル、ポリスルホン、フェノキシ、ポリアミド系のいずれか一つであり、または少なくとも2つ以上の混合物で構成されてもよく、熱硬化性バインダーは、アミノ、エポキシ、フェノールのいずれか一つであり、または少なくとも2つ以上の混合物で構成されてもよい。
また、有機溶媒は、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、ラクトン類、エーテルアルコール類、エステル類、及びジエステル類のいずれか一つであり、または少なくとも2つ以上の混合物からなる。
混合段階(S40)は、導電性フィラー製造段階(S100)による導電性フィラーと、ガラスフリット製造段階(S200)によるガラスフリットと、ビヒクル製造段階(S30)によるビヒクルとを混合攪拌する工程段階である。このとき、混合段階(S40)には、焼結が抑制されるように、公知の添加剤0.01〜0.10重量%を含んで攪拌させることが好ましい。
また、混合段階(S40)は、導電性フィラー50〜90重量%と、ビヒクル9〜49重量%と、ガラスフリット0.2〜5.0重量%とを混合して攪拌する。
また、混合段階(S40)は、3本ロールミルを用いて、混合攪拌された導電性フィラー、ビヒクル、ガラスフリットを機械的に混合する。
フィルタリング段階(S50)は、混合段階(S40)で混合攪拌された中間体をフィルタリングし、中間体の不純物及び大粒径の粒子を除去する工程段階である。
気泡除去段階(S60)は、フィルタリング段階(S50)により不純物が除去されたペースト組成物を脱泡装置で脱泡し、組成物中の気泡を除去することにより、本発明の一実施例である電極用ペースト組成物1を製造するための工程段階である。
以下、本発明の一実施例である電極用ペースト組成物について、実施例を挙げてさらに詳述する。また、下記の実施例は、説明のためのものであって、本発明の範囲を制限するものではない。
表1は、本発明の実施例及び比較例の含有成分を示す。
Figure 2018518003
[実施例1]
噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックコート層がコートされた導電性フィラー:70.0重量%、バインダー25重量%を溶媒75重量%に溶解させたビヒクル:27.0重量%、800℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット:3.0重量%を含む電極用ペースト組成物。
[実施例2]
噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックコート層がコートされた導電性フィラー:70.0重量%、バインダー25重量%を溶媒75重量%に溶解させたビヒクル:29.5重量%、800℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット:0.5重量%を含む電極用ペースト組成物。
[実施例3]
噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックコート層がコートされた導電性フィラー:70.0重量%、バインダー25重量%を溶媒75重量%に溶解させたビヒクル:25.0重量%、800℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット:5.0重量%を含む電極用ペースト組成物。
[比較例1]
噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックコート層がコートされた導電性フィラー:70.0重量%、バインダー25重量%を溶媒75重量%に溶解させたビヒクル:29.7重量%、800℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット:0.3重量%を含む電極用ペースト組成物。
[比較例2]
噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックコート層がコートされた導電性フィラー:70.0重量%、バインダー25重量%を溶媒75重量%に溶解させたビヒクル:29.95重量%、800℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット:0.05重量%を含む電極用ペースト組成物。
[比較例3]
噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックコート層がコートされた導電性フィラー:70.0重量%、バインダー25重量%を溶媒75重量%に溶解させたビヒクル:23.0重量%、800℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット:7.0重量%を含む電極用ペースト組成物。
[比較例4]
噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックコート層がコートされた導電性フィラー:70.0重量%、バインダー25重量%を溶媒75重量%に溶解させたビヒクル:30.0重量%を含む電極用ペースト組成物。
[実験例1]
体積抵抗テストは、アルミナ基板に20mm×20mmのサイズで、試片(電極用ペースト組成物)を印刷した後、900℃の高温で、10分間熱処理を行うことにより、体積抵抗試片を製造した。
このような状態で、三菱社の低抵抗測定器を用いて、製造された体積抵抗試片の体積抵抗を測定した。
表2は、表1の実施例1〜3及び比較例1〜4についての実験例1の測定値を示す。
Figure 2018518003
表2を参照して、実施例1〜3及び比較例1〜4の体積抵抗測定値を検討する。
実施例1は、3.0重量%のガラスフリットを含む電極用ペースト組成物であり、体積抵抗値が「2.21」(μΩ・cm)と測定された。このとき、実施例1は、ガラスフリットが導電性フィラーのコート層であるセラミックの焼結を促進させることにより、焼成時、セラミックコート層及び金属粉末のコアの焼結開始時点が同時に行われるようにし、焼結効率を増加させ、抵抗が低く測定されたことがわかる。
実施例2は、0.5重量%のガラスフリットを含む電極用ペースト組成物であり、体積抵抗値が「2.38」(μΩ・cm)と測定された。このとき、実施例2は、実施例1と比較して、ガラスフリットの含有量が減少し、体積抵抗値が少し増加したが、ガラスフリットがセラミックコート層の焼結を促進させ、抵抗が低く測定されたことがわかる。
実施例3は、5.0重量%のガラスフリットを含む電極用ペースト組成物であり、体積抵抗値が「2.40」(μΩ・cm)と測定された。このとき、実施例3は、実施例1と比較して、ガラスフリットの含有量が増加したが、高い浮遊性を有するガラスが、焼成時に浮遊して電極の表面を覆ってしまい、体積抵抗値がかえって増加することがわかる。しかし、実施例3は、ガラスの浮遊による抵抗値の増加率よりも、ガラスによるセラミックコート層の焼結促進による抵抗値の減少率が高く、体積抵抗値が低く測定されたことがわかる。
すなわち、実施例1〜3は、「2.40」(μΩ・cm)未満の低い体積抵抗値を有することがわかり、言い換えると、金属粉末の外面にセラミックがコートされることにより、伝導性に劣るという問題点が、ガラスフリットの追加により解決可能になる。
比較例1は、0.3重量%のガラスフリットを含む電極用ペースト組成物であり、体積抵抗値が「2.98」(μΩ・cm)と測定された。このとき、比較例1は、ガラスフリットの含有量が低くなり過ぎ、セラミックコート層の焼結を促進させず、これにより、体積抵抗値が実施例1〜3に比べて顕著に増加することがわかる。
比較例2は、0.05重量%のガラスフリットを含む電極用ペースト組成物であり、体積抵抗値が「3.87」(μΩ・cm)と測定された。このとき、比較例2は、比較例1に比べて、ガラスフリットの含有量が顕著に低く、セラミックコート層の焼結促進に影響せず、体積抵抗値が極めて増加することがわかる。
比較例3は、7.0重量%のガラスフリットを含む電極用ペースト組成物であり、体積抵抗値が「4.80」(μΩ・cm)と測定された。このとき、比較例3は、実験例1〜3及び比較例1〜2に比べて、ガラスフリットの含有量が高く、ガラスフリットの浮遊現象により、体積抵抗値が最も大きく測定されたことがわかる。
比較例4は、ガラスフリットを含まない電極用ペースト組成物であり、体積抵抗値が「3.99」(μΩ・cm)と測定された。すなわち、噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックをコートする場合、セラミックコート層及びシートとの収縮マッチング性に優れ、シートとのデラミネーションを抑制することができるが、コート層(セラミック)がコア(金属粉末)よりも遅く焼結され、焼結効率に劣ることにより、体積抵抗値が増加することがわかる。
この導電性フィラーのコート層であるセラミックの焼結を促進させることにより、焼成時、セラミックコート層及び金属粉末のコアの焼結開始時点が同時に行われるようにし、焼結効率を増加させ、抵抗が低く測定されたことがわかる。
図7の(a)は、900℃の焼成後、比較例4のように、ガラスフリットが添加されなかった電極用ペースト組成物の焼結組織を示す写真であり、(b)は、実施例1の焼結組織を示す写真である。
比較例4は、図7の(a)に示すように、ガラスフリットが添加されず、焼成時、コート層(セラミック)を形成するコート粉末が、コアを形成する金属粉末よりも遅く焼結され、これにより、コート粉末の焼結組織に劣り、コート層33の外面に気孔331が発生することがわかる。
実施例1は、図7の(b)に示すように、ガラスフリットを3.0重量%含み、ガラスフリットが、コート層(セラミック)を形成するコート粉末の焼結を促進させ、金属粉末及びコート粉末の焼結開始時点がほぼ同時に行われることにより、焼結組織に優れたことがわかる。
表3は、実施例4、5及び比較例5〜7の含有成分を示す。
Figure 2018518003
[実施例1]
噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックコート層がコートされた導電性フィラー:70.0重量%、バインダー25重量%を溶媒75重量%に溶解させたビヒクル:27.0重量%、800℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット:3.0重量%を含む電極用ペースト組成物。
[実施例4]
噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックコート層がコートされた導電性フィラー:70.0重量%、バインダー25重量%を溶媒75重量%に溶解させたビヒクル:27.0重量%、780℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット:3.0重量%を含む電極用ペースト組成物。
[実施例5]
噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックコート層がコートされた導電性フィラー:70.0重量%、バインダー25重量%を溶媒75重量%に溶解させたビヒクル:27.0重量%、820℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット:3.0重量%を含む電極用ペースト組成物。
[比較例5]
噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックコート層がコートされた導電性フィラー:70.0重量%、バインダー25重量%を溶媒75重量%に溶解させたビヒクル:27.0重量%、700℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット:3.0重量%を含む電極用ペースト組成物。
[比較例6]
噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックコート層がコートされた導電性フィラー:70.0重量%、バインダー25重量%を溶媒75重量%に溶解させたビヒクル:27.0重量%、850℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット:3.0重量%を含む電極用ペースト組成物。
[比較例7]
噴霧熱分解工程により、金属粉末の外面にセラミックコート層がコートされた導電性フィラー:70.0重量%、バインダー25重量%を溶媒75重量%に溶解させたビヒクル:27.0重量%、900℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット:3.0重量%を含む電極用ペースト組成物。
また、本発明では、ガラスフリットの酸化物粉末を、SiО54〜56重量%、CaО14〜16重量%、AlО6〜8重量%、BО10〜11重量%、ZnО4〜5重量%、ZrО3〜4重量%、KО2〜3重量%、及びBiО1〜3重量%で混合することにより、ガラスフリットが780〜820℃の軟化点(Ts)を有するようにした。
実施例1は、ガラスフリットを、SiО55重量%、CaО15重量%、AlО8重量%、BО11重量%、ZnО5重量%、ZrО3重量%、KО2重量%、及びBiО1重量%の酸化物粉末で構成することにより、軟化点が800℃を有するようにした。
実施例4は、ガラスフリットを、SiО54重量%、CaО15重量%、AlО6重量%、BО11重量%、ZnО5重量%、ZrО3重量%、KО3重量%、及びBiО3重量%の酸化物粉末で構成することにより、軟化点が780℃を有するようにした。このとき、実施例4は、実施例1に比べて、軟化点を低くする性質を有するKО及びBiОの含有量を増加させることにより、軟化点が下がることがわかる。
実施例5は、ガラスフリットを、SiО56重量%、CaО15重量%、AlО8重量%、BО11重量%、ZnО5重量%、ZrО3重量%、KО1重量%、及びBiО1重量%の酸化物粉末で構成することにより、軟化点が820℃を有するようにした。このとき、実施例5は、実施例1に比べて、軟化点を低くする性質を有するKО及びBiОの含有量を低くするとともに、ガラス骨格を形成するSiОの含有量を増加させることにより、軟化点が増加することがわかる。
比較例5は、SiО50重量%、CaО15重量%、AlО5重量%、BО10重量%、ZnО5重量%、ZrО3重量%、KО2重量%、及びBiО10重量%の酸化物粉末で構成することにより、軟化点が700℃を有するようにした。このとき、比較例5は、実施例1、4、5に比べて、ガラス骨格を形成するSiОの含有量が減少するとともに、軟化点を低くするBiОの含有量が増加することにより、軟化点が700℃まで下がることがわかる。
比較例6は、SiО56重量%、CaО15重量%、AlО10重量%、BО11重量%、ZnО5重量%、ZrО3重量%、KО0重量%、及びBiО0重量%の酸化物粉末で構成することにより、軟化点が850℃を有するようにした。このとき、比較例6は、実施例1、4、5に比べて、ガラス骨格を形成するAlОの含有量が増加するとともに、軟化点を低くするKО及びBiОの含有量が含まれず、軟化点が850℃まで上がることがわかる。
比較例7は、SiО55重量%、CaО13重量%、AlО13重量%、BО14重量%、ZnО2重量%、ZrО3重量%、KО0重量%、及びBiО0重量%の酸化物粉末で構成することにより、軟化点が900℃を有するようにした。このとき、比較例7は、実施例1、4、5に比べて、ガラス骨格を形成するAlО及びBОの含有量が増加するとともに、軟化点を低くするKО及びBiОの含有量が含まれず、軟化点が900℃まで上がることがわかる。
表4は、表3の実施例1、4、5及び比較例5〜7についての実験例1の測定値を示す。
Figure 2018518003
表4を参照して、実施例1、4、5と、比較例5〜7の体積抵抗測定値を検討する。
実施例1は、焼成温度(900℃)よりも100℃低い800℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット3.0重量%を含む電極用ペースト組成物であり、体積抵抗値が「2.21」(μΩ・cm)と測定された。このとき、実施例1は、ガラスフリットが焼成温度よりも100℃低い軟化点(Ts)を有するので、焼結効率を高め、抵抗が低く測定されたことがわかる。
実施例2、3は、焼成温度(900℃)よりも120℃、80℃低い、780℃、820℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット3.0重量%を含む電極用ペースト組成物であり、体積抵抗値が「2.30」、「2.31」(μΩ・cm)と測定され、焼結効率が高く、抵抗が低く測定された。
比較例5、6、7は、焼成温度(900℃)よりも200℃、50℃、0℃低い、700℃、850℃、900℃の軟化点(Ts)を有するガラスフリット3.0重量%を含む電極用ペースト組成物であり、体積抵抗値が「2.94」、「3.11」、「3.70」(μΩ・cm)と高く測定されることがわかる。
図8は、900℃の焼成温度であるとき、軟化点による本発明のガラスフリットの流動性を示す実験写真である。
図8に示すように、900℃の焼成温度において、若し、ガラスフリット40の軟化点(Ts)が700℃である場合、ガラスフリット40は、溶融時点が早く、焼結温度である900℃となるとき、溶融が多く進行し、流動性が高くなり過ぎることがわかり、このように、ガラスフリット40の溶融が速く進行することにより、コート粉末及び金属粉末の焼結組織の緻密性が低下し、かえって、抵抗が増加するという問題点が発生する。
ガラスフリット40は、若し、軟化点(Ts)が900℃である場合、溶融時点が遅れ、焼結温度である900℃となるとき、溶融がまだ行われず、流動性が低過ぎることがわかり、このように、ガラスフリットの溶融時点が遅滞することにより、ガラスフリットがコート粉末の焼結を促進させるための本来の機能を果たせず、コート粉末及び金属粉末の焼結組織の緻密性が低下するという問題点が発生する。
すなわち、本発明の電極用ペースト組成物は、ガラスフリットが焼成温度よりも80〜120℃低い軟化点を有するように形成することにより、簡単なガラスフリットの軟化点調節により、コート層(セラミック)の焼結促進を極大化することができる。
1 電極用ペースト組成物
3 導電性フィラー
5 ビヒクル
7 ガラスフリット
31 コア
33 コート層
100 積層型セラミックインダクタ(従来技術)
101 シート層
103 外部電極
105 内部電極

Claims (6)

  1. チップ部品のセラミック系シートの内部に間隔を置いて積層される電極用ペースト組成物において、
    前記ペースト組成物が、
    金属粉末であるコアと、前記コアの外面にコートされるセラミック系コート層とを含む導電性フィラーと、
    バインダーを溶媒に溶解させたビヒクルと、を含み、
    前記コート層及び前記シートをセラミック系で形成することにより、焼成時、前記シートとの収縮マッチング性を増加させるペースト組成物。
  2. 前記導電性フィラーが、噴霧熱分解工程により、前記コアを形成する段階、及び前記コアの外面に前記コート層を形成する段階が、一回の工程で行われる請求項1に記載のペースト組成物。
  3. 前記ペースト組成物が、焼成時、前記コート層の焼結を促進させるためのガラスフリットをさらに含み、
    前記ペースト組成物が、前記導電性フィラー50.0〜90.0重量%と、前記ビヒクル9.0〜49.0重量%と、前記ガラスフリット0.2〜5.0重量%と、を含む請求項1または2に記載のペースト組成物。
  4. 前記ガラスフリットが、前記焼成時、焼結温度よりも80〜120℃低い軟化点(Ts)を有する請求項3に記載のペースト組成物。
  5. 前記ガラスフリットが、SiО54〜56重量%、CaО14〜16重量%、AlО6〜8重量%、BО10〜11重量%、ZnО4〜5重量%、ZrО3〜4重量%、KО2〜3重量%、及びBiО1〜3重量%を含む請求項4に記載のペースト組成物。
  6. 前記コアが、直径30μm未満、前記コート層が、厚さ10〜20nmである請求項5に記載のペースト組成物。
JP2016525101A 2015-04-24 2015-07-06 チップ部品用の電極用ペースト組成物 Pending JP2018518003A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2015-0057822 2015-04-24
KR1020150057822A KR101684251B1 (ko) 2015-04-24 2015-04-24 칩 부품용 전극 페이스트 조성물
PCT/KR2015/006948 WO2016171323A1 (ko) 2015-04-24 2015-07-06 칩 부품용 전극 페이스트 조성물

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2018518003A true JP2018518003A (ja) 2018-07-05

Family

ID=57144028

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016525101A Pending JP2018518003A (ja) 2015-04-24 2015-07-06 チップ部品用の電極用ペースト組成物

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2018518003A (ja)
KR (1) KR101684251B1 (ja)
WO (1) WO2016171323A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113045206B (zh) * 2019-12-27 2022-05-27 有研工程技术研究院有限公司 一种具有核壳结构的高硅氧玻璃粉及其制备方法
CN113571230B (zh) * 2021-07-21 2023-08-29 深圳顺络电子股份有限公司 导电银浆、电极结构和叠层共模滤波器

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02251122A (ja) * 1989-03-24 1990-10-08 Taiyo Yuden Co Ltd 磁器コンデンサの電極用導電性ペースト
JP2000150294A (ja) * 1998-11-17 2000-05-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガラスセラミック積層部品の製造方法
JP2001122660A (ja) * 1999-10-22 2001-05-08 Taiyo Yuden Co Ltd 導電性ペースト、積層セラミック電子部品及びその製造方法
JP2002057060A (ja) * 2000-08-07 2002-02-22 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミックコンデンサおよびそれに用いる内部電極ペースト
JP2002060807A (ja) * 2000-08-21 2002-02-28 Murata Mfg Co Ltd Ni金属粉末の製造方法、並びに導電性ペーストおよびセラミック電子部品
JP2004079211A (ja) * 2002-08-09 2004-03-11 Dowa Mining Co Ltd 導電ペースト用銀粉及びその製造方法並びにその銀粉を用いた導電ペースト
JP2005166549A (ja) * 2003-12-04 2005-06-23 Asahi Kasei Chemicals Corp 導電性組成物
JP2008101276A (ja) * 2008-01-08 2008-05-01 Dowa Holdings Co Ltd 耐酸化性および焼結性に優れた外部電極用導電ペースト用銅粉
WO2013141425A1 (ko) * 2012-03-23 2013-09-26 (주)창성 태양전지용 전극 페이스트 조성물
US20130277622A1 (en) * 2012-04-19 2013-10-24 Samhwa Capacitor Co., Ltd. Metal paste manufacturing method for internal electrode of multi layer ceramic capacitor

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003077336A (ja) 2001-08-30 2003-03-14 Kyocera Corp 導電性ペースト及びこれを用いた積層セラミックコンデンサ
KR20080078396A (ko) * 2007-02-23 2008-08-27 엘지전자 주식회사 전극용 페이스트 조성물과 그 제조방법 및 이를 이용하는플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법
KR101730184B1 (ko) * 2010-11-08 2017-05-12 삼성전기주식회사 도전성 페이스트 조성물 및 이를 이용한 적층 세라믹 콘덴서의 제조방법
KR101323199B1 (ko) * 2013-06-04 2013-10-30 충남대학교산학협력단 태양전지용 전극 페이스트 및 이를 이용한 태양전지 제조방법

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02251122A (ja) * 1989-03-24 1990-10-08 Taiyo Yuden Co Ltd 磁器コンデンサの電極用導電性ペースト
JP2000150294A (ja) * 1998-11-17 2000-05-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガラスセラミック積層部品の製造方法
JP2001122660A (ja) * 1999-10-22 2001-05-08 Taiyo Yuden Co Ltd 導電性ペースト、積層セラミック電子部品及びその製造方法
JP2002057060A (ja) * 2000-08-07 2002-02-22 Murata Mfg Co Ltd 積層セラミックコンデンサおよびそれに用いる内部電極ペースト
JP2002060807A (ja) * 2000-08-21 2002-02-28 Murata Mfg Co Ltd Ni金属粉末の製造方法、並びに導電性ペーストおよびセラミック電子部品
JP2004079211A (ja) * 2002-08-09 2004-03-11 Dowa Mining Co Ltd 導電ペースト用銀粉及びその製造方法並びにその銀粉を用いた導電ペースト
JP2005166549A (ja) * 2003-12-04 2005-06-23 Asahi Kasei Chemicals Corp 導電性組成物
JP2008101276A (ja) * 2008-01-08 2008-05-01 Dowa Holdings Co Ltd 耐酸化性および焼結性に優れた外部電極用導電ペースト用銅粉
WO2013141425A1 (ko) * 2012-03-23 2013-09-26 (주)창성 태양전지용 전극 페이스트 조성물
US20130277622A1 (en) * 2012-04-19 2013-10-24 Samhwa Capacitor Co., Ltd. Metal paste manufacturing method for internal electrode of multi layer ceramic capacitor

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160126583A (ko) 2016-11-02
WO2016171323A1 (ko) 2016-10-27
KR101684251B1 (ko) 2016-12-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI269312B (en) Conductive paste for terminal electrode of multilayer ceramic electronic part
JP5569747B2 (ja) 積層セラミックコンデンサ内部電極に用いられるグラビア印刷用導電性ペースト
KR101172723B1 (ko) 동 도체 페이스트, 도체 회로판 및 전자부품
CN1913044A (zh) 用于ltcc电路和器件的厚膜导电组合物
TW201511036A (zh) 用於氮化鋁基板的厚膜印刷銅糊漿
CN1847183A (zh) 用于电介质的玻璃粉、多层陶瓷电容器及其制造方法
KR101264964B1 (ko) 내산화성 물질로 표면이 코팅된 도전성 구리 분말 및 그 제조방법
JP6804286B2 (ja) 銀合金粉末およびその製造方法
JP2010067418A (ja) 導体ペーストおよびその製造方法
JP5018154B2 (ja) 内部電極形成ペースト、積層型セラミック型電子部品、およびその製造方法
JP2018518003A (ja) チップ部品用の電極用ペースト組成物
TWI419980B (zh) 鎳-錸合金粉末及含有它之導電糊
JP2011129884A (ja) セラミック電子部品の製造方法、及びセラミック電子部品
WO2013003506A1 (en) Thick film paste and use thereof
JP2018152218A (ja) 導電性ペースト、チップ電子部品及びその製造方法
JP5633707B2 (ja) ガラスセラミック組成物、セラミックグリーンシートおよび多層セラミック基板
WO2014196348A1 (ja) セラミック基板用組成物およびセラミック回路部品
JP2018076594A (ja) 銅粉
JP2008081355A (ja) 誘電体原料粉末およびその製法、ならびに積層セラミックコンデンサ
JP4439968B2 (ja) 金属レジネート組成物
JP2004039355A (ja) 導電性組成物
KR101860745B1 (ko) 가소성수지를 적용한 내압착용 전극 페이스트 조성물 및 이를 이용한 칩부품 제조 방법
JP5056828B2 (ja) 導体ペースト
TWI418639B (zh) 鎳-錸合金粉末及含有它之導電糊
WO2017115462A1 (ja) 銀合金粉末およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20181010

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181204

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20190304

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190702