JP2018514788A - 空間選択的波長フィルタにより修正された光源を用いて試料を撮像するためのシステム及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (37)
- 波長の選択制御を用いる紫外線光源であって、
第1の波長セットを含む照射ビームを発生するように構成された光源と、
前記ビーム内に空間分散を導入するように配置された1以上の第1の分散素子を含む、1以上の光学素子の第1のセットと、
前記光源に共役な面に配置された空間フィルタ素子とを備え、当該空間フィルタ素子が、前記ビームの少なくとも一部を通過させるように構成され、前記空間フィルタ素子から方向付けられた前記ビームが第2の波長セットを含み、当該第2波長セットが前記第1波長セットのサブセットであり、前記紫外線光源が、さらに、
1以上の光学素子の第2のセットを備え、当該1以上の光学素子の第2セットが、前記ビームの少なくとも一部を収集するように配置され、当該1以上の光学素子の第2セットが、空間分散を前記ビームから除去するように配置された1以上の第2の分散素子を含む、紫外線光源。 - 前記空間フィルタ素子が、1以上の開口を有するアパーチャを含み、且つ、前記空間フィルタ素子が、前記第2波長セットが前記1以上の開口を通過するように配置されている、請求項1に記載の紫外線光源。
- 前記空間フィルタ素子が空間光変調器を含む、請求項1に記載の紫外線光源。
- 前記空間光変調器が変形可能なミラーを含む、請求項3に記載の紫外線光源。
- 前記光源がレーザ持続プラズマ光源を含む、請求項1に記載の紫外線光源。
- 前記光源が放射源を含む、請求項1に記載の紫外線光源。
- 前記第1の光学素子のセット又は前記第2の光学素子のセットの少なくとも一方がシリンドリカルミラーを含む、請求項1に記載の紫外線光源。
- 前記1以上の第1の分散素子又は前記1以上の第2の分散素子の少なくとも一方が1以上のプリズムを含む、請求項1に記載の紫外線光源。
- 前記1以上のプリズムが1以上のプリズムアレイを含む、請求項8に記載の紫外線光源。
- 前記1以上の第1の分散素子又は前記1以上の第2の分散素子の少なくとも一方が1以上の回折格子を含む、請求項1に記載の紫外線光源。
- 前記1以上の回折格子が、平坦な回折格子又は湾曲した回折格子の少なくとも一方を含む、請求項10に記載の紫外線光源。
- スペクトル的にフィルタリングされた光源を用いた試料の照射のためのシステムであって、
第1の波長セットを含む照射ビームを発生するように構成された光源と、
波長フィルタリングサブシステムとを備え、当該波長フィルタリングサブシステムが、
前記ビーム内に空間分散を導入するように配置された1以上の第1の分散素子を含む、1以上の光学素子の第1のセットと、
前記光源に共役な面に配置された空間フィルタ素子とを含み、当該空間フィルタ素子が、前記ビームの少なくとも一部を通過させるように構成され、前記空間フィルタ素子から方向付けられた前記ビームが第2の波長セットを含み、当該第2波長セットが前記第1波長セットのサブセットであり、前記波長フィルタリングサブシステムが、さらに、
1以上の光学素子の第2のセットを含み、当該1以上の光学素子の第2セットが、前記ビームの少なくとも一部を収集するように配置され、当該1以上の光学素子の第2セットが、空間分散を前記ビームから除去するように配置された1以上の第2の分散素子を含み、前記システムが、さらに、
1以上の試料を固定するための試料ステージと、
前記1以上の試料の少なくとも一部を前記第2波長セットの少なくとも一部により、照射路を介して照射するように構成された照射サブシステムと、
検出器と、
対物レンズとを備え、当該対物レンズが、前記1以上の試料の表面からの照射を集束し、当該集束された照射を、収集経路を介して前記検出器に集束させて、前記1以上の試料の前記表面の少なくとも一部の画像を前記検出器上に形成するように構成されている、システム。 - 前記空間フィルタ素子が、1以上の開口を有するアパーチャを含み、且つ、前記空間フィルタ素子が、前記第2波長セットが前記1以上の開口を通過するように配置されている、請求項12に記載のシステム。
- 前記空間フィルタ素子が空間光変調器を含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記空間光変調器が変形可能なミラーを含む、請求項14に記載のシステム。
- 前記光源がレーザ持続プラズマ光源を含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記光源が放射源を含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記第1の光学素子のセット又は前記第2の光学素子のセットの少なくとも一方がシリンドリカルミラーを含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記1以上の第1の分散素子又は前記1以上の第2の分散素子の少なくとも一方が1以上のプリズムを含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記1以上のプリズムが1以上のプリズムアレイを含む、請求項19に記載のシステム。
- 前記1以上の第1の分散素子又は前記1以上の第2の分散素子の少なくとも一方が1以上の回折格子を含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記1以上の回折格子が、平坦な回折格子又は湾曲した回折格子の少なくとも一方を含む、請求項21に記載のシステム。
- 前検出器がCCD検出器及びTDI検出器の少なくとも一方を含む、請求項12に記載のシステム。
- 光源を用いて試料を照射するためのシステムであって、
第1の波長セットを含む照射ビームを発生するように構成された光源と、
波長フィルタリングサブシステムとを備え、当該波長フィルタリングサブシステムが、
前記ビーム内に空間分散を導入するように配置された1以上の分散素子を含む1以上の光学素子と、
前記光源に共役な面に配置された空間フィルタ素子とを含み、当該空間フィルタ素子が、前記ビームの少なくとも一部を反射させて通過させるように配置され、前記空間フィルタ素子から方向付けられた前記ビームが第2の波長セットを含み、当該第2波長セットが前記第1波長セットのサブセットであり、前記空間フィルタ素子から方向付けられた前記ビームが、空間分散が前記ビームから除去されるように前記1以上の光学素子を通ってミラー光路にて伝搬して戻り、前記照射システムが、さらに、
1以上の試料を固定するための試料ステージと、
前記1以上の試料の少なくとも一部を、選択された前記第2の波長セットの少なくとも一部により照射路を介して照射するように構成された照射サブシステムと、
検出器と、
対物レンズとを備え、当該対物レンズが、前記1以上の試料の表面からの照射を集束し、当該集束された照射を、収集経路を介して前記検出器に集束させて、前記1以上の試料の前記表面の少なくとも一部の画像を前記検出器上に形成するように構成されている、システム。 - 前記空間フィルタ素子が、1以上の開口を有するアパーチャを含み、且つ、前記空間フィルタ素子が、前記第2波長セットが前記1以上の開口を通過するように配置されている、請求項24に記載のシステム。
- 前記空間フィルタ素子が空間光変調器を含む、請求項24に記載のシステム。
- 前記空間光変調器が変形可能なミラーを含む、請求項26に記載のシステム。
- 前記光源が光持続プラズマを含む、請求項24に記載のシステム。
- 前記光源が放射源を含む、請求項24に記載のシステム。
- 前記第1の光学素子のセット又は前記第2の光学素子のセットの少なくとも一方がシリンドリカルミラーを含む、請求項24に記載のシステム。
- 前記1以上の第1の分散素子又は前記1以上の第2の分散素子の少なくとも一方が1以上のプリズムを含む、請求項24に記載のシステム。
- 前記1以上のプリズムが1以上のプリズムアレイを含む、請求項31に記載のシステム。
- 前記1以上の第1の分散素子又は前記1以上の第2の分散素子の少なくとも一方が1以上の回折格子を含む、請求項24に記載のシステム。
- 前記1以上の回折格子が、平坦な回折格子又は湾曲した回折格子の少なくとも一方を含む、請求項33に記載のシステム。
- 前検出器がCCD検出器及びTDI検出器の少なくとも一方を含む、請求項24に記載のシステム。
- 試料を撮像するための紫外光線を調製するための方法であって、
第1の波長セットを含む照射ビームを発生するステップと、
前記ビームに空間分散を導入するステップと、
前記ビームを空間フィルタ素子上に、前記空間フィルタ素子から方向付けられた前記ビームが、前記第1波長セットのサブセットである第2の波長セットを含むように方向付けるステップと、
前記空間フィルタ素子から方向付けられた前記ビームの少なくとも一部を収集するステップと、
前記ビームから空間分散を除去するステップとを含む、方法。 - さらに、
1以上の試料の少なくとも一部を、前記ビームの、第2の波長セットを含む少なくとも一部を用いて照射するステップと、
前記1以上の試料からの照射を、収集経路を介して集めて、前記1以上の試料の少なくとも一部の画像を形成するステップとを含む、請求項36に記載の方法。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4833833A (ja) * | 1971-09-03 | 1973-05-14 | ||
JPS5083048A (ja) * | 1973-08-13 | 1975-07-04 | ||
WO1997002483A1 (en) * | 1995-07-06 | 1997-01-23 | Yale University | Optical filtering and spectroscopic imaging |
WO2011038816A1 (de) * | 2009-09-30 | 2011-04-07 | Carl Zeiss Microimaging Gmbh | Spektraldetektor oder laser-scanning-mikroskop mit variabler filterung durch räumliche farbtrennung |
WO2012082366A1 (en) * | 2010-12-14 | 2012-06-21 | William Marsh Rice University | Image mapped spectropolarimetry |
JP2012247431A (ja) * | 2012-08-07 | 2012-12-13 | Shimadzu Corp | 光度計を用いた試料測定方法 |
US20130003384A1 (en) * | 2011-06-29 | 2013-01-03 | Kla-Tencor Corporation | Adaptive optics for compensating aberrations in light-sustained plasma cells |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5142132A (en) | 1990-11-05 | 1992-08-25 | Litel Instruments | Adaptive optic wafer stepper illumination system |
US6590645B1 (en) * | 2000-05-04 | 2003-07-08 | Kla-Tencor Corporation | System and methods for classifying anomalies of sample surfaces |
TW567406B (en) * | 2001-12-12 | 2003-12-21 | Nikon Corp | Diffraction optical device, refraction optical device, illuminating optical device, exposure system and exposure method |
US7130039B2 (en) * | 2002-04-18 | 2006-10-31 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Simultaneous multi-spot inspection and imaging |
US7365834B2 (en) * | 2003-06-24 | 2008-04-29 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Optical system for detecting anomalies and/or features of surfaces |
JP4508708B2 (ja) * | 2004-04-12 | 2010-07-21 | キヤノン株式会社 | Euv光を用いた露光装置および露光方法 |
WO2007064830A1 (en) * | 2005-12-02 | 2007-06-07 | Massachusetts Institute Of Technology | Method and apparatus for two-dimensional spectroscopy |
JP2010010607A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Seiko Epson Corp | レーザ光源装置、プロジェクタ、モニタ装置 |
CN103618571B (zh) * | 2013-12-02 | 2019-11-05 | 吴东辉 | 一种利用照明光源传输信息的方法和系统 |
-
2016
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-
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Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4833833A (ja) * | 1971-09-03 | 1973-05-14 | ||
JPS5083048A (ja) * | 1973-08-13 | 1975-07-04 | ||
WO1997002483A1 (en) * | 1995-07-06 | 1997-01-23 | Yale University | Optical filtering and spectroscopic imaging |
US5793049A (en) * | 1995-07-06 | 1998-08-11 | Yale University | Optical filtering and spectroscopic imaging |
US20120218547A1 (en) * | 2009-09-30 | 2012-08-30 | Jakow Konradi | Spectral detector or laser scanning microscope having variable filtration using spatial color separation |
WO2011038816A1 (de) * | 2009-09-30 | 2011-04-07 | Carl Zeiss Microimaging Gmbh | Spektraldetektor oder laser-scanning-mikroskop mit variabler filterung durch räumliche farbtrennung |
JP2013506162A (ja) * | 2009-09-30 | 2013-02-21 | カール ツァイス マイクロスコピー ゲーエムベーハー | 空間的な色分離による可変フィルタリングを用いたスペクトル検出器又はレーザ走査顕微鏡 |
WO2012082366A1 (en) * | 2010-12-14 | 2012-06-21 | William Marsh Rice University | Image mapped spectropolarimetry |
EP2652469A1 (en) * | 2010-12-14 | 2013-10-23 | William Marsh Rice University | Image mapped spectropolarimetry |
US20130321806A1 (en) * | 2010-12-14 | 2013-12-05 | William Marsh Rice University | Image mapped spectropolarimetry |
JP2013546000A (ja) * | 2010-12-14 | 2013-12-26 | ウィリアム・マーシュ・ライス・ユニバーシティ | イメージマップ分光偏光法 |
US20130003384A1 (en) * | 2011-06-29 | 2013-01-03 | Kla-Tencor Corporation | Adaptive optics for compensating aberrations in light-sustained plasma cells |
WO2013003289A1 (en) * | 2011-06-29 | 2013-01-03 | Kla-Tencor Corporation | Adaptive optics for compensating aberrations in light-sustained plasma cells |
JP2014521991A (ja) * | 2011-06-29 | 2014-08-28 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 光源持続プラズマセルにおける収差を補正するための適応光学系 |
JP2012247431A (ja) * | 2012-08-07 | 2012-12-13 | Shimadzu Corp | 光度計を用いた試料測定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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