JP2018506857A - 溶液処理可能な金属酸化物バッファー層を含む光電子デバイス - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の文脈において用いられる不定冠詞、定冠詞及び類似の語は、本開示で別段の示唆がない限り、又は文脈により明確に否定されない限り、単数及び複数の両方を含むように解釈されるべきである。更に、用語「含む(including)」、「含む(containing)」及び「含む(comprising)」は、非限定的なオープンの意味で本開示で用いられる。用語「含む(containing)」は、「含む(comprising)」及び「からなる」の両方を含むべきである。
Mz a+Ry b- (I)
(式中、Mは金属カチオンを表し、Rは対応する塩アニオンを表し、aは2、3、4又は5、好ましくは2又は3であり、bは1、2又は3、好ましくは1又は2であり、zは1であるか、又は0を除く1未満の実数であり、yはz*a/bである。)
である。
(a)透明電極/HTL/活性層/ETL
(b)不透明電極/HTL/活性層/ETL
(c)透明電極/ETL/活性層/HTL
(d)不透明電極/ETL/活性層/HTL
の並びを有し、透明電極がPEDOT:PSS、金属ナノワイヤ(銀ナノワイヤ、銅ナノワイヤ、ニッケルナノワイヤを含む)、金属グリッド、グラフェン、カーボンナノチューブ及びITOからなる群から選択され、不透明電極が高密度銀、高密度アルミニウム、高密度銅、高密度金、厚い(不透明)カーボンナノチューブ層及び厚い(不透明)グラフェン系層からなる群から選択される部品を提供する。
実験:
5質量%のナノ粒子(ZnO;火炎噴霧熱分解により合成)を5質量%の分散剤(金属塩:Cs2CO3(Kimによる)又はYNO3x6H2O(本発明)、全分散剤濃度:0.25%)の存在下で溶媒(エタノール又はメタノール)中に分散させる。サスペンションは、例4のように調製される。膜コーティングは、スピンコーターを用いて5000rpmにて実施された。粒子サイズは、メタノール中で0.5質量%のZnOを溶解することによってLUMISIZERを用いて決定された。結果は以下及び図5に与えられる。
この例に与えられたデータは、Cs2CO3によりコーティングされたナノ粒子(a=Iの式(I)の金属塩に対応する)が、安定なサスペンションを調製するのに適しておらず、また、高い粗さを有する膜をもたらすことを説得力をもって示す。
本開示は以下も包含する。
[1]
基材と、複数の層とを含む光電子デバイスであって、
前記層の少なくとも1つがバッファー層であり、
前記バッファー層が70〜99.9質量%の金属酸化物ナノ粒子を含み、
金属酸化物ナノ粒子が、
1〜10質量%の量で式(I)
M z a+ R y b- (I)
(式中、MはZn、Al、Y、Pb、Bi、Cu、Ni、Co、Fe、Mn、Cr、V、Ti、La、Mg、Ca、Sr、又はBaからなる群から選択される金属カチオンを表し、
Rは対応する塩アニオンを表し、
aは2、3、4又は5であり、
bは1、2又は3であり、
zは1であるか、又は0を除く1未満の実数であり、
yはz * a/bである。)
の物理吸着した金属塩を含み、
ナノ粒子中の金属原子/イオンに対する金属塩カチオンのモル分率が0.02〜6mol%である、光電子デバイス。
[2]
ペロブスカイト太陽電池、OPV電池、OLED、QLED及び有機光検出器からなる群から選択される、上記態様1に記載のデバイス。
[3]
前記複数の層が標準構造又は反転構造で配置されたOPV及びペロブスカイト太陽電池の群から選択されるか;又は
活性層が有機材料を含むLED(OLED)、若しくは活性層が量子ドットを含むLED(QLED)の群から選択される、上記態様2に記載のデバイス。
[4]
前記バッファー層が、正孔輸送(HTL)、正孔注入(HIL)、正孔抽出(HEL)、電子輸送(ETL)、電子注入(EIL)、及び電子抽出(EEL)層からなる群から選択される、上記態様1〜3のいずれかに記載のデバイス。
[5]
前記金属酸化物ナノ粒子が、
・純粋な金属酸化物、好ましくはNiO、ZnO、W z O y 、Mo z O y 、Ti z O y 、Y z O y 、Ta z O y 、Nb z O y 、CuO、Cr z O y 及びV z O y ;
・混合金属酸化物、好ましくはIGZO、IZO、ZnSnO 3 及びBaSnO 3 ;
・ドープ金属酸化物、好ましくはAZO、ITO及びATO
からなる群から選択される、上記態様1〜4のいずれかに記載のデバイス。
[6]
前記金属酸化物ナノ粒子が、NiO、ZnO、AlドープZnO(「AZO」)、TiO 2 及びドープTiO 2 からなる群から選択される、上記態様1〜5のいずれかに記載のデバイス。
[7]
Rが有機アニオン、好ましくはアセテート、ホルメート、シトレート、オキサレート;から選択される有機アニオン;又は
無機アニオン、好ましくはニトレート、ハロゲン化物から選択される無機アニオンを表す、上記態様1〜6のいずれかに記載のデバイス。
[8]
M z a+ がZn 2+ 、Al 3+ 、又はY 3+ であり、
M z a+ R y b- が酢酸亜鉛、酢酸アルミニウム、酢酸イットリウム、硝酸亜鉛、硝酸アルミニウム、又は硝酸イットリウムである、上記態様1〜7のいずれかに記載のデバイス。
[9]
前記基材が、
(a)有機材料;又は
(b)無機材料;又は
(c)(a)及び(b)の組み合わせから選択される、上記態様1〜8のいずれかに記載のデバイス。
[10]
複数の層によりコーティングされたシート様基材を含む半製品であって、
少なくとも1つの層がバッファー層(HEL、EEL、HIL)であり、
前記層が、
(a)基材/電極/HTL/活性層/ETL/電極の並び(「標準構造」)を有するか;又は
(b)基材/電極/ETL/活性層/HTL/電極の並び(「反転構造」)を有するか;又は
(c)電極/ETL/活性層/HTLの並びを含むか;又は
(d)電極/HTL/活性層/ETLの並びを含むか;又は
(e)電極/HTL/ETL/電極の並びを含み;
(f)電極/ETL/HTL/電極の並びを含み、
1つ又は複数の前記バッファー層が、上記態様1又は5〜8のいずれかに記載の金属酸化物ナノ粒子を含むことを特徴とする、半製品。
[11]
・前記バッファー層が、散乱粒子を含まず、かつ、3〜1000nmの厚さを有するか、又は前記バッファー層が、散乱粒子を含み、かつ、100〜20000nmの厚さを有し;及び/又は
・前記バッファー層が、30nm未満の平均表面粗さを有し;及び/又は
・前記電極がITO、銀、銅、ニッケル又はPEDOT:PSSの群から選択され;及び/又は
・前記電極の少なくとも1つが銀ナノワイヤベースであり、
・追加の層が存在しない、上記態様10に記載の半製品。
[12]
(a)
・純粋な金属酸化物、好ましくはNiO、ZnO、W z O y 、Mo z O y 、Ti z O y 、Y z O y 、Ta z O y 、Nb z O y 、CuO、Cr Z O y 及びV z O y ;
・混合金属酸化物、好ましくはIGZO、IZO、ZnSnO 3 及びBaSnO 3 ;
・ドープ金属酸化物、好ましくはAZO、ITO及びATO
からなる群から選択される0.2〜50質量%の金属酸化物ナノ粒子;
(b)上記態様1に記載の0.005〜10質量%の金属塩;
(c)極性溶媒、好ましくは水、DMSO、DMF;ジメチルアセトアミド、メタノール、アセトニトリル、エチレングリコール、プロピレングリコール、アセトン、テトラフルオロ‐プロパノールからなる群から選択される、20〜99.795質量%の極性溶媒
を含む、サスペンションの形態の組成物。
[13]
(a)上記態様5又は6に記載の金属酸化物ナノ粒子;
(b)上記態様1、7又は8のいずれかに記載の金属塩M z a+ R y b- ;
(b)上記態様12に記載の極性溶媒
を含み、
上記態様10又は11に記載の半製品の製造のための;又は
上記態様1〜9のいずれかに記載の電子デバイスを製造するための
サスペンションの形態の組成物の使用。
[14]
バッファー層が、
(a)基材又はコーティングされた基材に金属酸化物ナノ粒子、特に上記態様1に記載の金属酸化物ナノ粒子と、(ii)極性溶媒、特に上記態様12に記載の極性溶媒とを含むサスペンションを適用する工程、及び
(b)前記組成物から前記溶媒を除去する工程、及び
(c)任意選択的に、乾燥層を高温にて処理する工程を含んで製造される、上記態様10又は11に記載の半製品の製造方法。
[15]
(a)工程(a)のサスペンションが、コーティング又は印刷により適用され;及び/又は
(b)工程(b)の溶媒が、低水分含有量の空気又は保護ガス下で除去され;及び/又は
(c)工程(c)で乾燥されたナノ粒子膜が、空気又は保護ガス中で50℃〜150℃にてアニールされる、上記態様14に記載の方法。
[16]
全ての層が、コーティング又は印刷により製造される、上記態様14又は15に記載の方法。
[17]
(a)上記態様10又は11に記載の半製品を提供する工程、
(b)前記半製品の層を電気回路と接触させる工程、
(c)得られた生産物を仕上げる工程を含む、上記態様1〜9のいずれかに記載の電子デバイスの製造方法。
[18]
(a)上記態様10又は11に記載の半製品を提供する工程、
(b)層を電気回路と接触させる工程、
(c)得られた生産物を仕上げる工程を含む方法により得られる電子デバイス。
[19]
上記態様14〜16のいずれかに記載の方法により得られる半製品。
Claims (19)
- 基材と、複数の層とを含む光電子デバイスであって、
前記層の少なくとも1つがバッファー層であり、
前記バッファー層が70〜99.9質量%の金属酸化物ナノ粒子を含み、
金属酸化物ナノ粒子が、
1〜10質量%の量で式(I)
Mz a+Ry b- (I)
(式中、MはZn、Al、Y、Pb、Bi、Cu、Ni、Co、Fe、Mn、Cr、V、Ti、La、Mg、Ca、Sr、又はBaからなる群から選択される金属カチオンを表し、
Rは対応する塩アニオンを表し、
aは2、3、4又は5であり、
bは1、2又は3であり、
zは1であるか、又は0を除く1未満の実数であり、
yはz*a/bである。)
の物理吸着した金属塩を含み、
ナノ粒子中の金属原子/イオンに対する金属塩カチオンのモル分率が0.02〜6mol%である、光電子デバイス。 - ペロブスカイト太陽電池、OPV電池、OLED、QLED及び有機光検出器からなる群から選択される、請求項1に記載のデバイス。
- 前記複数の層が標準構造又は反転構造で配置されたOPV及びペロブスカイト太陽電池の群から選択されるか;又は
活性層が有機材料を含むLED(OLED)、若しくは活性層が量子ドットを含むLED(QLED)の群から選択される、請求項2に記載のデバイス。 - 前記バッファー層が、正孔輸送(HTL)、正孔注入(HIL)、正孔抽出(HEL)、電子輸送(ETL)、電子注入(EIL)、及び電子抽出(EEL)層からなる群から選択される、請求項1〜3のいずれか1項に記載のデバイス。
- 前記金属酸化物ナノ粒子が、
・純粋な金属酸化物、好ましくはNiO、ZnO、WzOy、MozOy、TizOy、YzOy、TazOy、NbzOy、CuO、CrzOy及びVzOy;
・混合金属酸化物、好ましくはIGZO、IZO、ZnSnO3及びBaSnO3;
・ドープ金属酸化物、好ましくはAZO、ITO及びATO
からなる群から選択される、請求項1〜4のいずれか1項に記載のデバイス。 - 前記金属酸化物ナノ粒子が、NiO、ZnO、AlドープZnO(「AZO」)、TiO2及びドープTiO2からなる群から選択される、請求項1〜5のいずれか1項に記載のデバイス。
- Rが有機アニオン、好ましくはアセテート、ホルメート、シトレート、オキサレート;から選択される有機アニオン;又は
無機アニオン、好ましくはニトレート、ハロゲン化物から選択される無機アニオンを表す、請求項1〜6のいずれか1項に記載のデバイス。 - Mz a+がZn2+、Al3+、又はY3+であり、
Mz a+Ry b-が酢酸亜鉛、酢酸アルミニウム、酢酸イットリウム、硝酸亜鉛、硝酸アルミニウム、又は硝酸イットリウムである、請求項1〜7のいずれか1項に記載のデバイス。 - 前記基材が、
(a)有機材料;又は
(b)無機材料;又は
(c)(a)及び(b)の組み合わせから選択される、請求項1〜8のいずれか1項に記載のデバイス。 - 複数の層によりコーティングされたシート様基材を含む半製品であって、
少なくとも1つの層がバッファー層(HEL、EEL、HIL)であり、
前記層が、
(a)基材/電極/HTL/活性層/ETL/電極の並び(「標準構造」)を有するか;又は
(b)基材/電極/ETL/活性層/HTL/電極の並び(「反転構造」)を有するか;又は
(c)電極/ETL/活性層/HTLの並びを含むか;又は
(d)電極/HTL/活性層/ETLの並びを含むか;又は
(e)電極/HTL/ETL/電極の並びを含み;
(f)電極/ETL/HTL/電極の並びを含み、
1つ又は複数の前記バッファー層が、請求項1又は5〜8のいずれか1項に記載の金属酸化物ナノ粒子を含むことを特徴とする、半製品。 - ・前記バッファー層が、散乱粒子を含まず、かつ、3〜1000nmの厚さを有するか、又は前記バッファー層が、散乱粒子を含み、かつ、100〜20000nmの厚さを有し;及び/又は
・前記バッファー層が、30nm未満の平均表面粗さを有し;及び/又は
・前記電極がITO、銀、銅、ニッケル又はPEDOT:PSSの群から選択され;及び/又は
・前記電極の少なくとも1つが銀ナノワイヤベースであり、
・追加の層が存在しない、請求項10に記載の半製品。 - (a)
・純粋な金属酸化物、好ましくはNiO、ZnO、WzOy、MozOy、TizOy、YzOy、TazOy、NbzOy、CuO、CrZOy及びVzOy;
・混合金属酸化物、好ましくはIGZO、IZO、ZnSnO3及びBaSnO3;
・ドープ金属酸化物、好ましくはAZO、ITO及びATO
からなる群から選択される0.2〜50質量%の金属酸化物ナノ粒子;
(b)請求項1に記載の0.005〜10質量%の金属塩;
(c)極性溶媒、好ましくは水、DMSO、DMF;ジメチルアセトアミド、メタノール、アセトニトリル、エチレングリコール、プロピレングリコール、アセトン、テトラフルオロ‐プロパノールからなる群から選択される、20〜99.795質量%の極性溶媒
を含む、サスペンションの形態の組成物。 - (a)請求項5又は6に記載の金属酸化物ナノ粒子;
(b)請求項1、7又は8のいずれか1項に記載の金属塩Mz a+Ry b-;
(b)請求項12に記載の極性溶媒
を含み、
請求項10又は11に記載の半製品の製造のための;又は
請求項1〜9のいずれか1項に記載の電子デバイスを製造するための
サスペンションの形態の組成物の使用。 - バッファー層が、
(a)基材又はコーティングされた基材に金属酸化物ナノ粒子、特に請求項1に記載の金属酸化物ナノ粒子と、(ii)極性溶媒、特に請求項12に記載の極性溶媒とを含むサスペンションを適用する工程、及び
(b)前記組成物から前記溶媒を除去する工程、及び
(c)任意選択的に、乾燥層を高温にて処理する工程を含んで製造される、請求項10又は11に記載の半製品の製造方法。 - (a)工程(a)のサスペンションが、コーティング又は印刷により適用され;及び/又は
(b)工程(b)の溶媒が、低水分含有量の空気又は保護ガス下で除去され;及び/又は
(c)工程(c)で乾燥されたナノ粒子膜が、空気又は保護ガス中で50℃〜150℃にてアニールされる、請求項14に記載の方法。 - 全ての層が、コーティング又は印刷により製造される、請求項14又は15に記載の方法。
- (a)請求項10又は11に記載の半製品を提供する工程、
(b)前記半製品の層を電気回路と接触させる工程、
(c)得られた生産物を仕上げる工程を含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の電子デバイスの製造方法。 - (a)請求項10又は11に記載の半製品を提供する工程、
(b)層を電気回路と接触させる工程、
(c)得られた生産物を仕上げる工程を含む方法により得られる電子デバイス。 - 請求項14〜16のいずれか1項に記載の方法により得られる半製品。
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