JP7080133B2 - 光検出素子及び指紋認証装置 - Google Patents
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Description
一方、近年、活性層の材料として有機材料を使用した光検出素子(有機光検出素子)が研究開発されている。しかし、従来の有機光検出素子では、暗電流を十分に低減できなかった。
したがって、暗電流が低い光検出素子が求められている。
前記第1の電極及び前記第2の電極の間に設けられた活性層と、
前記第2の電極及び前記活性層の間に設けられた正孔輸送層と、を含み、
前記活性層は有機化合物を含み、前記活性層の厚さが600nm以上であり、
前記正孔輸送層は、金属酸化物のナノ粒子を含む、光検出素子。
[2] 前記金属酸化物が、モリブデン原子、タングステン原子、及びニッケル原子からなる群から選択される1種以上を含む、[1]に記載の光検出素子。
[3] 前記金属酸化物が、酸化モリブデン、酸化タングステン、及び酸化ニッケルからなる群から選択される1種以上である、[2]に記載の光検出素子。
[4] 前記活性層が、共役系高分子化合物を含む、[1]~[3]のいずれか1つに記載の光検出素子。
[5] 前記活性層がフラーレン誘導体を含む、[1]~[4]のいずれか1つに記載の光検出素子。
[6] [1]~[5]のいずれか1つに記載の光検出素子を含む、指紋認証装置。
用語「高分子化合物」とは、分子量分布を有し、ポリスチレン換算の数平均分子量が、1×103以上1×108以下である重合体を意味する。高分子化合物に含まれる構成単位は、合計100モル%である。
[2.1.光検出素子の概要]
本発明の一実施形態に係る光検出素子は、第1の電極及び第2の電極と、前記第1の電極及び前記第2の電極の間に設けられた活性層と、前記第2の電極及び前記活性層の間に設けられた正孔輸送層と、を含み、前記活性層は有機化合物を含み、前記活性層の厚さが600nm以上であり、前記正孔輸送層は、金属酸化物のナノ粒子を含む。
第1の電極12は、支持基板11に接するように設けられている。電子輸送層13は、第1の電極12に接するように設けられている。活性層14は、電子輸送層13に接するように設けられている。正孔輸送層15は、活性層14に接するように設けられている。第2の電極16は、正孔輸送層15に接するように設けられている。封止基板17は、第2の電極16に接するように設けられている。
支持基板11の材料は、特に有機化合物を含む層を形成する際に化学的に変化しない材料であれば特に限定されない。支持基板11の材料としては、例えば、ガラス、プラスチック、高分子フィルム、及びシリコンが挙げられる。
第1の電極12は、光検出素子10から外部回路へ電子を流出させる、陰極としての機能を有する。第2の電極16は、外部回路から光検出素子10に電子を流入させる、陽極としての機能を有する。第1の電極12及び第2の電極16のうち、少なくとも一方は、光を入射させるために、透明又は半透明とすることが好ましい。
すなわち、本実施形態において、支持基板11が不透明である場合には、第2の電極16が透明又は半透明の電極であることが好ましい。
電子輸送層13は、活性層14で発生した電子を、第1の電極12へ輸送する機能を有する。電子輸送層13は、活性層14で発生した正孔が第1の電極12へ輸送されることを阻止する、正孔ブロック層としての機能を有していてもよい。
[活性層の構成]
活性層14は、有機化合物を含み、好ましくは高分子化合物を含み、更に好ましくは共役系高分子化合物を含み、通常、p型半導体材料(電子供与性化合物)とn型半導体材料(電子受容性化合物)とを含む。p型半導体材料及びn型半導体材料の例及び好適な例については後述する。含まれる材料が、p型半導体材料及びn型半導体材料のいずれであるかは、選択された化合物のHOMO又はLUMOのエネルギー準位から相対的に決定することができる。
ここで、共役系高分子化合物とは、主鎖において、p軌道が重なることによりπ電子が非局在化している構造を含む高分子化合物を意味し、例えば、(1)二重結合と単結合とが交互に並んだ構造を含む高分子化合物、(2)二重結合と単結合とが窒素原子を介して並んだ構造を含む高分子化合物、(3)二重結合と単結合とが交互に並んだ構造及び二重結合と単結合とが窒素原子を介して並んだ構造を含む高分子化合物が挙げられる。
活性層14の厚さは、暗電流を低減させる観点から、通常600nm以上であり、好ましくは700nm以上であり、より好ましくは800nm以上であり、更に好ましくは1000nm以上であり、外部量子効率を向上させる観点から、好ましくは5000nm以下であり、より好ましくは3000nm以下であり、更に好ましくは1500nm以下である。
(p型半導体材料)
活性層に含まれうるp型半導体材料は、低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。p型半導体材料は、好ましくは高分子化合物であり、より好ましくは共役系高分子化合物である。
活性層に含まれうるn型半導体材料の例としては、ポリビニルカルバゾール及びその誘導体、ポリシラン及びその誘導体、側鎖又は主鎖に芳香族アミン構造を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリピロール及びその誘導体、ポリフェニレンビニレン及びその誘導体、ポリチエニレンビニレン及びその誘導体、ポリキノリン及びその誘導体、ポリキノキサリン及びその誘導体、並びに、ポリフルオレン及びその誘導体が挙げられる。
Rbは、アルキル基、又はアリール基を表す。複数個あるRbは、互いに同一であっても異なっていてもよい。
正孔輸送層15は、活性層14で発生した正孔を第2の電極16へ輸送する機能を有する。正孔輸送層15は、活性層14で発生した電子が第2の電極16へ輸送されることを阻止する、電子ブロック層としての機能を有していてもよい。
正孔輸送層15は、金属酸化物のナノ粒子を含む。
本明細書において、「ナノ粒子」とは、平均粒子径が、1μmより小さい粒子をいう。ナノ粒子の平均粒子径は、通常0nmより大きい。正孔輸送層15が、金属酸化物のナノ粒子を含むことにより、暗電流を低減しうる。
正孔輸送層の膜厚を薄く緻密にして正孔輸送性を高める観点から、金属酸化物のナノ粒子の平均粒子径は、5nm以上30nm以下であることが好ましい。
ここで、ナノ粒子の平均粒子径は、動的光散乱(DLS)法により測定された値である。
金属酸化物は、単一の金属元素の酸化物、複数の金属元素の酸化物から構成される複合酸化物のいずれであってもよい。好ましくは、金属酸化物は、モリブデン原子、タングステン原子、及びニッケル原子からなる群から選択される1種以上を含む。
金属酸化物の例としては、酸化モリブデン(MoO3など)、酸化バナジウム(V2O5など)、酸化タングステン(WO3など)、及びニッケル酸化物(NiOなど)が挙げられ、好ましくは酸化モリブデン、酸化タングステン、及び酸化ニッケルからなる群から選択される1種以上であり、より好ましくは、酸化モリブデン、酸化タングステン、又は酸化ニッケルである。
酸化モリブデンとしては、MoO3が好ましい。酸化タングステンとしては、WO3が好ましい。酸化ニッケルとしては、NiOが好ましい。
正孔輸送層15は、ナノ粒子の形態である、ただ1種のみの金属酸化物を含んでいても、ナノ粒子の形態である、2種以上の金属酸化物を含んでいてもよい。正孔輸送層15が、2種以上の金属酸化物を含む場合、それぞれの金属酸化物のナノ粒子は、互いに平均粒子径が異なっていてもよい。
表面処理剤の例としては、シランカップリング剤が挙げられる。
光検出素子10は、封止基板17により封止されていてもよい。封止基板の例としては、例えば凹部を有するカバーガラスと封止材との組み合わせが挙げられる。
前記実施形態の光検出素子は、支持基板、第1の電極、電子輸送層、活性層、正孔輸送層、第2の電極、及び封止基板をこの順に含んでいるが、光検出素子は、支持基板、第2の電極、正孔輸送層、活性層、電子輸送層、第1の電極、及び封止基板をこの順で含んでいてもよい。また光検出素子は、電子輸送層を含んでいなくともよく、活性層と第1の電極が接していてもよい。また、光検出素子は、支持基板を含んでいなくともよく、封止基板を含んでいなくともよい。
本発明に係る光検出素子の製造方法は、特に限定されない。本発明に係る光検出素子は、各構成要素を形成するにあたり選択された材料を用いて、好適な形成方法により製造することができる。
工程(I) 第1の電極が設けられた支持基板を用意する工程
工程(II) 電子輸送層を形成する工程
工程(III) 活性層を形成する工程
工程(VI) 金属酸化物のナノ粒子を含む正孔輸送層を形成する工程
工程(V) 第2の電極を形成する工程
以下、各工程につき順に説明する。
本工程では、第1の電極が設けられた支持基板を用意する。支持基板に第1の電極を設ける方法は特に限定されない。例えば、前記例示の材料を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、めっき法、塗布法などによって、既に説明した材料によって構成される支持基板上に積層することによって、第1の電極を形成しうる。
本工程では、電子輸送層を形成する。簡便に低コストで電子輸送層を形成できることから、電子輸送層を、塗布液を用いた塗布法により形成することが好ましい。
本工程では、活性層を形成する。簡便に低コストで活性層を形成できることから、活性層を、塗布液を用いた塗布法により形成することが好ましい。
活性層を形成するための塗布法の例及び好ましい例は、電子輸送層を形成するための塗布法として前記した例及び好ましい例と同様である。活性層を形成するための塗布法として、活性層を容易に厚くしうることから、ナイフコート法が特に好ましい。
塗布液に含まれうるp型半導体材料及びn型半導体材料(電子受容性化合物)の例及び好ましい例は、活性層に含まれうる各材料として前記した例及び好ましい例と同様である。
本工程では、金属酸化物のナノ粒子を含む正孔輸送層を形成する。
簡便に低コストで正孔輸送層を形成できることから、正孔輸送層を、塗布液を用いた塗布法により形成することが好ましい。
正孔輸送層を形成するための塗布法としては、スピンコート法、スリットコート法、フレキソ印刷法、インクジェット印刷法、又はディスペンサー印刷法が好ましい。
本工程では、第2の電極を形成する。第2の電極は、通常、正孔輸送層上に形成される。
既に説明した本発明の実施形態に係る光検出素子は、ワークステーション、パーソナルコンピュータ、携帯情報端末、入退室管理システム、デジタルカメラ、及び医療機器などの種々の電子装置が備える検出部に好適に適用することができる。
本発明の光検出素子は、前記のとおり指紋認証装置が備える指紋検出部に適用されうる。したがって、本発明の光検出素子を含む指紋認証装置が提供されうる。
図2は、固体撮像装置用のイメージ検出部の構成例を模式的に示す図である。
このような機能素子、配線などにより、CMOSトランジスタ基板20には、信号読み出し回路などが、作り込まれている。
図3は、表示装置に一体的に構成される指紋検出部の構成例を模式的に示す図である。
指紋認証の実行時には、表示パネル部200の有機EL素子220から放射される光を用いて指紋検出部100が指紋を検出する。具体的には、有機EL素子220から放射された光は、有機EL素子220と指紋検出部100の光検出素子10との間に存在する構成要素を透過して、表示領域200a内である表示パネル部200の表面に接するように載置された手指の指先の皮膚(指表面)によって反射される。指表面によって反射された光のうちの少なくとも一部は、間に存在する構成要素を透過して光検出素子10によって受光され、光検出素子10の受光量に応じた電気信号に変換される。そして、変換された電気信号から、指表面の指紋についての画像情報が構成される。
(光検出素子(光電変換素子)の製造)
(第1の電極の準備工程)
スパッタ法により150nmの厚さで第1の電極としてのITO薄膜(陰極)が形成されたガラス基板を用意し、このガラス基板の表面に対し、オゾンUV処理を行った。
次に、ポリエチレンイミンエトキシレート(PEIE)(アルドリッチ社製、商品名ポリエチレンイミン、80%エトキシ化 溶液、重量平均分子量110000)を2-メトキシエタノールで1/500倍に希釈した塗布溶液を、スピンコート法により、オゾンUV処理を行ったガラスITO基板のITO薄膜上に塗布した。
塗布液が塗布されたガラス基板を、ホットプレートを用いて、120℃で10分間加熱することにより、第1の電極であるITO薄膜上に電子輸送層1を形成した。
次に、式P-1で表される高分子化合物とC60PCBM(フロンティアカーボン社製、商品名:E100)とを重量比1:2で混合して、第1溶媒であるo-キシレンと第2溶媒であるアセトフェノンとの混合溶媒(o-キシレン:アセトフェノン=95:5(重量比))に加え、80℃で10時間撹拌することにより、活性層形成用の塗布液を調製した。
調製された活性層形成用の塗布液を、ガラス基板の電子輸送層上にナイフコート法により塗布し、塗膜を得た。得られた塗膜を、100℃に加熱したホットプレートを用いて、5分間乾燥させて、活性層を形成した。形成された活性層の厚さは600nmであった。活性層の厚さは、触針式膜厚計(小坂研究所社製「サーフコーダET-200」)により測定した。
次に、酸化ニッケル(NiO)分散液(Avantama社製、商品名Avantama P21、平均粒子径:7nm)を、活性層上にスピンコート法で塗布し、塗膜を得た。得られた塗膜を70℃に加熱したホットプレートを用いて、5分間乾燥させることにより、正孔輸送層1を形成した。形成された正孔輸送層1の厚さは30nmであった。
更に、真空蒸着装置を用い、正孔輸送層1上に第2の電極(陽極)として銀(Ag)層を約80nmの厚さで形成して、光検出素子(光電変換素子)を作製した。
次に、UV硬化性封止剤を、作製された光検出素子(光電変換素子)の周辺であるガラス基板上に塗布し、封止基板であるガラス基板を貼り合わせた後、UV光を照射することで光検出素子を封止した。得られた光検出素子の、厚さ方向から見たときの平面的な形状は2mm×2mmの正方形であった。
製造された光検出素子の特性を評価した。印加電圧を-10Vとし、この印加電圧における暗電流を半導体パラメーターアナライザー(Agilent Technology B1500A、アジレントテクノロジー社製)を用いて測定した。暗電流測定の結果を表1に示す。
下記の項目を変更した以外は、実施例1に記載された方法と同様にして、光検出素子を作製し、暗電流を測定した。
・活性層の形成工程において、塗布速度及びナイフコーターのナイフと塗布面との間隙を調整することにより、活性層の膜厚を100nm(比較例1)、300nm(比較例2)、750nm(実施例2)、1400nm(実施例3)、又は2000nm(実施例4)とした。
結果を表1に示す。
下記の項目を変更した以外は、実施例1に記載された方法と同様にして、光検出素子を作製し、暗電流を測定した。
・活性層の形成工程において、塗布速度及びナイフコーターのナイフと塗布面との間隙を調整することにより、活性層の厚さを100nm(比較例3)、300nm(比較例4)、600nm(実施例5)、750nm(実施例6)、又は1000nm(実施例7)とした。
・正孔輸送層の形成工程において、酸化ニッケル分散液の代わりに酸化タングステン(WO3)分散液(Avantama社製、商品名Avantama P10、平均粒子径:10~20nm)を用いて厚さ30nmの正孔輸送層2を形成した。
結果を表1に示す。
下記の項目を変更した以外は、実施例1に記載された方法と同様にして、光検出素子を作製し、暗電流を測定した。
・活性層の形成工程において、塗布速度及びナイフコーターのナイフと塗布面との間隙を調整することにより、活性層の厚さを100nm(比較例5)、300nm(比較例6)、600nm(実施例8)、又は1000nm(実施例9)とした。
・正孔輸送層の形成工程において、酸化ニッケル分散液の代わりに酸化モリブデン(MoO3)分散液(Avantama社製、商品名MoO3 in Ethanol、平均粒子径:約10nm)用いて厚さ30nmの正孔輸送層3を形成した。
結果を表1に示す。
下記の項目を変更した以外は、実施例1に記載された方法と同様にして、光検出素子を作製し、暗電流を測定した。
・活性層の形成工程において、塗布速度及びナイフコーターのナイフと塗布面との間隙を調整することにより、活性層の厚さを100nm(比較例7)、600nm(比較例8)、750nm(比較例9)、又は1000nm(比較例10)とした。
・正孔輸送層の形成工程において、酸化ニッケル分散液の代わりにポリチオフェン誘導体を含むインク(Aldrich社製、商品名Plexcore OC AQ1100)を用いて厚さ30nmの正孔輸送層4を形成した。
結果を表1に示す。
下記の項目を変更した以外は、実施例1に記載された方法と同様にして、光検出素子を作製し、暗電流を測定した。
・活性層の形成工程において、塗布速度及びナイフコーターのナイフと塗布面との間隙を調整することにより、活性層の厚さを300nm(比較例11)、600nm(比較例12)、750nm(比較例13)、又は1000nm(比較例14)とした。
・正孔輸送層の形成工程において、酸化ニッケル分散液の代わりにPEDOT:PSS(Heraeus社製、商品名HTL-Solar)を用いて厚さ30nmの正孔輸送層5を形成した。
結果を表1に示す。
下記の項目を変更した以外は、実施例1に記載された方法と同様にして、光検出素子を作製し、暗電流を測定した。
・活性層の厚さを600nm(比較例15)、750nm(比較例16)、又は1000nm(比較例17)とした。
・正孔輸送層の形成工程において、酸化ニッケル分散液の代わりにPEDOT:PSS(Heraeus社製、商品名FHC Solar)を用いて厚さ30nmの正孔輸送層6を形成した。
結果を表1に示す。
下記の項目を変更した以外は、実施例1に記載された方法と同様にして、光検出素子を作製し、暗電流を測定した。
・活性層の形成工程において、塗布速度及びナイフコーターのナイフと塗布面との間隙を調整することにより、活性層の厚さを100nm(比較例18)、300nm(比較例19)、600nm(比較例20)、又は1000nm(比較例21)とした。
・正孔輸送層の形成工程において、活性層上に酸化モリブデンを30nmの厚さで真空蒸着して正孔輸送層7を形成した。
結果を表1に示す。
下記の項目を変更した以外は、実施例1に記載された方法と同様にして、光検出素子を作製し、暗電流を測定した。
・活性層の膜厚を100nm(比較例22)、300nm(比較例23)、600nm(比較例24)、750(比較例25)、又は1000nm(比較例26)とした。
・正孔輸送層の形成工程を行わず、活性層上に、第1の電極を形成した。
結果を表1に示す。
2 表示装置
10 光検出素子
11、210 支持基板
12 第1の電極(陰極)
13 電子輸送層
14 活性層
15 正孔輸送層
16 第2の電極(陽極)
17 封止基板
20 CMOSトランジスタ基板
30 層間絶縁膜
32 層間配線部
40 封止層
50 カラーフィルター
100 指紋検出部
200 表示パネル部
200a 表示領域
220 有機EL素子
230 タッチセンサーパネル
240 封止基板
Claims (6)
- 第1の電極及び第2の電極と、
前記第1の電極及び前記第2の電極の間に設けられた活性層と、
前記第2の電極及び前記活性層の間に設けられた正孔輸送層と、を含み、
前記活性層は有機化合物を含み、前記活性層の厚さが600nm以上であり、
前記正孔輸送層は、金属酸化物のナノ粒子を含む、光検出素子。 - 前記金属酸化物が、モリブデン原子、タングステン原子、及びニッケル原子からなる群から選択される1種以上を含む、請求項1に記載の光検出素子。
- 前記金属酸化物が、酸化モリブデン、酸化タングステン、及び酸化ニッケルからなる群から選択される1種以上である、請求項2に記載の光検出素子。
- 前記活性層が、共役系高分子化合物を含む、請求項1~3のいずれか1項に記載の光検出素子。
- 前記活性層がフラーレン誘導体を含む、請求項1~4のいずれか1項に記載の光検出素子。
- 請求項1~5のいずれか1項に記載の光検出素子を含む、指紋認証装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022024636A (ja) * | 2020-07-28 | 2022-02-09 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 検出装置 |
JP2022172951A (ja) * | 2021-05-07 | 2022-11-17 | ソニーグループ株式会社 | 固体撮像素子 |
CN118020400A (zh) * | 2021-09-30 | 2024-05-10 | 住友化学株式会社 | 光电转换元件 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012515438A (ja) | 2009-01-12 | 2012-07-05 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニヴァシティ オブ ミシガン | 電子/正孔励起阻止層を用いた有機太陽電池の開路電圧の向上 |
WO2013051676A1 (ja) | 2011-10-07 | 2013-04-11 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物及び電子素子 |
US20170288156A1 (en) | 2016-03-30 | 2017-10-05 | Korea Institute Of Science And Technology | Organic solar cell and method for fabricating the same |
JP2018506857A (ja) | 2015-02-12 | 2018-03-08 | アファンタマ アクチェンゲゼルシャフト | 溶液処理可能な金属酸化物バッファー層を含む光電子デバイス |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050257827A1 (en) * | 2000-04-27 | 2005-11-24 | Russell Gaudiana | Rotational photovoltaic cells, systems and methods |
US10651409B2 (en) * | 2012-07-20 | 2020-05-12 | Nutech Ventures | Narrowband nanocomposite photodetector |
US10128441B2 (en) * | 2012-09-07 | 2018-11-13 | The Regents Of The University Of California | Field-effect transistors based on macroscopically oriented polymers |
WO2015152425A1 (ja) * | 2014-04-04 | 2015-10-08 | 新日鐵住金株式会社 | 透明電極、及び有機電子デバイス |
US20170054100A1 (en) * | 2015-08-19 | 2017-02-23 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Method of preparing a hole transport layer having improved hole mobility |
KR102650654B1 (ko) * | 2016-11-08 | 2024-03-25 | 삼성전자주식회사 | 높은 광전변환 효율과 낮은 암전류를 구현할 수 있는 이미지 센서 |
FR3063564B1 (fr) * | 2017-03-06 | 2021-05-28 | Isorg | Capteur d'empreintes digitales integre dans un ecran d'affichage |
-
2018
- 2018-08-01 JP JP2018145299A patent/JP7080133B2/ja active Active
-
2019
- 2019-07-26 CN CN201980050069.6A patent/CN112514099A/zh active Pending
- 2019-07-26 WO PCT/JP2019/029403 patent/WO2020026975A1/ja active Application Filing
- 2019-07-26 US US17/264,238 patent/US20210312156A1/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012515438A (ja) | 2009-01-12 | 2012-07-05 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニヴァシティ オブ ミシガン | 電子/正孔励起阻止層を用いた有機太陽電池の開路電圧の向上 |
WO2013051676A1 (ja) | 2011-10-07 | 2013-04-11 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物及び電子素子 |
JP2018506857A (ja) | 2015-02-12 | 2018-03-08 | アファンタマ アクチェンゲゼルシャフト | 溶液処理可能な金属酸化物バッファー層を含む光電子デバイス |
US20170288156A1 (en) | 2016-03-30 | 2017-10-05 | Korea Institute Of Science And Technology | Organic solar cell and method for fabricating the same |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
ARMIN, A. et al.,Thick junction broadband organic photodiodes,LASER & PHOTONICS REVIEWS,2014年07月05日,Vol.8,No.6,pp.924-932 |
LEEM, Dong-Seok et al.,Low dark current small molecule organic photodetectors with selective response to green light,APPLIED PHYSICS LETTERS,2013年07月24日,Vol.103,pp.043305-1 - 043305-5 |
MEYER, J. et al.,MoO3 Films Spin-Coated from a Nanoparticle Suspension for Efficient Hole-Injection in Organic Electronics,ADVANCED MATERIALS,2010年10月26日,Vol.23,pp.70-73 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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