JP2018502967A - ブロックコポリマーの秩序膜中の欠陥を低減させるための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
このカウント法は、Tironらによる論文に記載されている(J. Vac. Sci. Technol. B 29(6), 1071-1023, 2011)。
− TODTを有する少なくとも1種のブロックコポリマーとTODTを有さない少なくとも1種の化合物とを溶媒中で混合する工程と、
− この混合物を表面上に成膜する工程と、
− 表面上に成膜した混合物を、ブロックコポリマーの最大のTgと混合物のTODTとの間の温度で硬化させる工程と
を含む方法に関する。
− N.P.Balsaraら、Macromolecules 1992、25、3896−3901。
− N.Sakamotoら、Macromolecules 1997、30、5321−5330、及びMacromolecule 1997、30、1621−1632
− J.K.Kimら、Macromolecules 1998、31、4045−4048。
動的機械分析(dynamical mechanical analysis)による秩序−無秩序転移温度分析
2種の異なる分子量のブロックコポリマーPS−b−PMMAは、従来からのアニオンによる方法によって合成するか、又は市販製品を使用することができる。生成物の特性評価を表1に示す。
ブロックコポリマーの誘導自己組織化に関する厚さ及び欠陥率:
2.5×2.5cmのシリコン基板を、例えばピラニア溶液のような公知の技術によって適切に清浄化し、次いで蒸留水で洗浄した後に使用した。
a) SEC(サイズ排除クロマトグラフィー、ポリスチレン標準)によって決定される場合
b) 1H NMRによって決定される
c) DMA(実施例1に記載するような動的機械分析)によって決定される。コポリマー3及び4のTODTは存在しない。
Claims (12)
- ブロックコポリマーの秩序膜の欠陥の数を低減させるための方法であって、前記秩序膜が、秩序−無秩序転移温度(TODT)及び少なくとも1つのTgを有する少なくとも1種のブロックコポリマーと、TODTを有さない少なくとも1種の化合物との混合物を含み、前記化合物が、ブロックコポリマー、光若しくは熱安定剤、光開始剤、ポリマー若しくは非ポリマーのイオン性化合物、ホモポリマー、又は統計コポリマーの中から選択され、この混合物が、ブロックコポリマー単独のTODTより低いTODTを有し、以下の工程:
− TODTを有する少なくとも1種のブロックコポリマーとTODTを有さない少なくとも1種の化合物とを溶媒中で混合する工程と、
− この混合物を表面上に成膜する工程と、
− 表面上に成膜した混合物を、ブロックコポリマーの最大のTgと混合物のTODTとの間の温度で硬化させる工程と
を含む、方法。 - TODTを有するブロックコポリマーがジブロックコポリマーである、請求項1に記載の方法。
- ジブロックコポリマーのブロックのうち一方がスチレンモノマーを含み、他方のブロックがメタクリル酸モノマーを含む、請求項2に記載の方法。
- ジブロックコポリマーのブロックのうち一方がスチレンを含み、他方のブロックがメタクリル酸メチルを含む、請求項3に記載の方法。
- TODTを有さないブロックコポリマーがジブロックコポリマーである、請求項1に記載の方法。
- ジブロックコポリマーのブロックのうち一方がスチレンモノマーを含み、他方のブロックがメタクリル酸モノマーを含む、請求項5に記載の方法。
- ジブロックコポリマーのブロックのうち一方がスチレンを含み、他方のブロックがメタクリル酸メチルを含む、請求項6に記載の方法。
- 表面がフリーである、請求項1に記載の方法。
- 表面がガイドされる、請求項1に記載の方法。
- TODTを有する少なくとも1種のブロックコポリマーと、TODTを有さない少なくとも1種の化合物とを含む組成物。
- リソグラフィーのマスク又は秩序膜を生成するための、請求項1から9の何れか一項に記載の方法の使用。
- 請求項11によって得られたリソグラフィーのマスク又は秩序膜。
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