JP2018195725A - 検査システムおよび検査システムにおける温度測定方法 - Google Patents
検査システムおよび検査システムにおける温度測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018195725A JP2018195725A JP2017098913A JP2017098913A JP2018195725A JP 2018195725 A JP2018195725 A JP 2018195725A JP 2017098913 A JP2017098913 A JP 2017098913A JP 2017098913 A JP2017098913 A JP 2017098913A JP 2018195725 A JP2018195725 A JP 2018195725A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- substrate
- temperature measurement
- inspection system
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 title claims abstract description 130
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims abstract description 116
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 101
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 49
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 18
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 15
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims description 12
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 83
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2855—Environmental, reliability or burn-in testing
- G01R31/2872—Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation
- G01R31/2874—Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation related to temperature
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01K—MEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01K11/00—Measuring temperature based upon physical or chemical changes not covered by groups G01K3/00, G01K5/00, G01K7/00 or G01K9/00
- G01K11/12—Measuring temperature based upon physical or chemical changes not covered by groups G01K3/00, G01K5/00, G01K7/00 or G01K9/00 using changes in colour, translucency or reflectance
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/06794—Devices for sensing when probes are in contact, or in position to contact, with measured object
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/26—Testing of individual semiconductor devices
- G01R31/2601—Apparatus or methods therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2886—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
- G01R31/2891—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks related to sensing or controlling of force, position, temperature
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/70—Determining position or orientation of objects or cameras
- G06T7/73—Determining position or orientation of objects or cameras using feature-based methods
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
- Computing Systems (AREA)
- Artificial Intelligence (AREA)
- Databases & Information Systems (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Medical Informatics (AREA)
- Software Systems (AREA)
- Multimedia (AREA)
Abstract
Description
まず、本発明の一実施形態に係る検査システムの全体構成の一例について説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る検査システムの一例の構成を概略的に示す水平断面図であり、図2は図1のII-II′線による縦断面図である。
次に、温度測定ウエハTWについて説明する。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形可能である。
16;上カメラ
17a;ウエハ搬入出ポート(基板収容部)
17c;温度測定ウエハ待機ポート(温度測定基板待機部)
18;搬送装置
21;チャックトップ
23;プローブカード
23a;プローブ
30;検査装置
51;基材
52;温度測定部材
53;測温部分
54;透明シート
55;発色物質
63;温調機構
TW;温度測定ウエハ(温度測定基板)
W;半導体ウエハ(基板)
Claims (24)
- 基板を載置するステージを有し、前記ステージ上の基板の検査を行う検査装置と、
前記ステージの温調を行う温調機構と、
基板を収容する基板収容部と、
前記ステージ上に載置されて温度を測定するための温度測定基板を待機させる温度測定基板待機部と、
前記基板収容部に収容された基板および前記温度測定基板待機部で待機している温度測定基板を前記ステージ上に搬送する搬送装置と、
前記ステージ上で基板のアライメントに用いるカメラと
を有し、
前記温度測定基板は、表面に温度によって状態が変化する温度測定部材を有し、
前記搬送装置により前記温度測定基板を前記温度測定基板待機部から前記ステージに搬送し、前記カメラにより前記温度測定部材を撮影し、その状態変化から前記温度測定基板の温度を測定することを特徴とする検査システム。 - 前記検査装置を複数有し、前記搬送装置は、前記基板および前記温度測定基板を各検査装置のチャックトップに搬送することを特徴とする請求項1に記載の検査システム。
- 前記温度測定基板は、前記基板と同様の形状を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の検査システム。
- 前記温度測定基板は、前記温度測定部材が基材上に形成されてなることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の検査システム。
- 前記基材は、前記温度測定基板が前記基板に近い熱容量となるように、その材質および厚さが調整されることを特徴とする請求項4に記載の検査システム。
- 前記基材は、前記基板と同じ材質であることを特徴とする請求項5に記載の検査システム。
- 前記カメラは、前記温度測定部材の測温部を撮影することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の検査システム。
- 前記測温部は前記温度測定部材に複数存在し、前記カメラが前記複数の測温部を撮影することにより、前記温度測定基板の温度分布を測定することを特徴とする請求項7に記載の検査システム。
- 前記温度測定部材は、温度によって色が変化するものであることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の検査システム。
- 前記温度測定部材は、ある温度に達すると色が可逆的に変化する示温材を用いたものであることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の検査システム。
- 前記温度測定部材は、所定の温度で反応して発色する発色物質を所定パターンで施した透明シートを、前記発色物質の位置および反応温度を異ならせて複数積層したものであり、前記カメラにより、温度の違いによるパターンの位置や数の違いをパターンマッチングで認識することにより温度データを取得することを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の検査システム。
- 前記温度測定部材は、所定の温度で反応して発色する発色物質を所定パターンで施した透明シートを、前記発色物質の位置を異ならせて複数積層したものであり、前記複数の透明シートにそれぞれ施された発色物質は同じ物質であり、前記カメラにより、前記複数の透明シートの位置に基づく温度の違いによるパターンの位置や数の違いをパターンマッチングで認識することにより温度データを取得することを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の検査システム。
- 基板を載置するステージを有し、前記ステージ上の基板の検査を行う検査装置と、
前記ステージの温調を行う温調機構と、
基板を収容する基板収容部と、
前記基板収容部に収容された基板を前記ステージ上に搬送する搬送装置と、
前記ステージ上で基板のアライメントに用いるカメラと
を有する検査システムにおける温度測定方法であって、
表面に温度によって状態が変化する温度測定部材を有する温度測定基板を待機させ、
所定のタイミングで前記搬送装置により前記温度測定基板を前記ステージに搬送し、前記カメラにより前記温度測定部材を撮影し、その状態変化から前記温度測定基板の温度を測定することを特徴とする検査システムにおける温度測定方法。 - 前記検査システムは、前記検査装置を複数有し、前記搬送装置は、前記温度測定基板を各検査装置のチャックトップに搬送して前記温度測定基板の温度を測定することを特徴とする請求項13に記載の検査システムにおける温度測定方法。
- 前記温度測定基板は、前記基板と同様の形状を有することを特徴とする請求項13または請求項14に記載の検査システムにおける温度測定方法。
- 前記温度測定基板は、前記温度測定部材が基材上に形成されてなることを特徴とする請求項13から請求項14のいずれか1項に記載の検査システムにおける温度測定方法。
- 前記基材は、前記温度測定基板が前記基板に近い熱容量となるように、その材質および厚さが調整されることを特徴とする請求項16に記載の検査システムにおける温度測定方法。
- 前記基材は、前記基板と同じ材質であることを特徴とする請求項17に記載の検査システムにおける温度測定方法。
- 前記カメラは、前記温度測定部材の測温部を撮影することを特徴とする請求項13から請求項18のいずれか1項に記載の検査システムにおける温度測定方法。
- 前記測温部は前記温度測定部材に複数存在し、前記カメラが前記複数の測温部を撮影することにより、前記温度測定基板の温度分布を測定することを特徴とする請求項19に記載の検査システムにおける温度測定方法。
- 前記温度測定部材は、温度によって色が変化するものであることを特徴とする請求項13から請求項20のいずれか1項に記載の検査システムにおける温度測定方法。
- 前記温度測定部材は、ある温度に達すると色が可逆的に変化する示温材を用いたものであることを特徴とする請求項13から請求項20のいずれか1項に記載の検査システムにおける温度測定方法。
- 前記温度測定部材は、所定の温度で反応して発色する発色物質を所定パターンで施した透明シートを、前記発色物質の位置および反応温度を異ならせて複数積層したものであり、前記カメラにより、温度の違いによるパターンの位置や数の違いをパターンマッチングで認識することにより温度データを取得することを特徴とする請求項13から請求項20のいずれか1項に記載の検査システムにおける温度測定方法。
- 前記温度測定部材は、所定の温度で反応して発色する発色物質を所定パターンで施した透明シートを、前記発色物質の位置を異ならせて複数積層したものであり、前記複数の透明シートにそれぞれ施された発色物質は同じ物質であり、前記カメラにより、前記複数の透明シートの位置に基づく温度の違いによるパターンの位置や数の違いをパターンマッチングで認識することにより温度データを取得することを特徴とする請求項13から請求項20のいずれか1項に記載の検査システムにおける温度測定方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017098913A JP6785186B2 (ja) | 2017-05-18 | 2017-05-18 | 検査システムおよび検査システムにおける温度測定方法 |
US16/613,376 US11378610B2 (en) | 2017-05-18 | 2018-03-01 | Inspection system and temperature measuring method for inspection system |
KR1020197037215A KR102311129B1 (ko) | 2017-05-18 | 2018-03-01 | 검사 시스템 및 검사 시스템에 있어서의 온도 측정 방법 |
PCT/JP2018/007834 WO2018211775A1 (ja) | 2017-05-18 | 2018-03-01 | 検査システムおよび検査システムにおける温度測定方法 |
CN201880033005.0A CN110709972B (zh) | 2017-05-18 | 2018-03-01 | 检查系统和检查系统中的温度测定方法 |
TW107116543A TWI749227B (zh) | 2017-05-18 | 2018-05-16 | 檢查系統及檢查系統中之溫度測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017098913A JP6785186B2 (ja) | 2017-05-18 | 2017-05-18 | 検査システムおよび検査システムにおける温度測定方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018195725A true JP2018195725A (ja) | 2018-12-06 |
JP2018195725A5 JP2018195725A5 (ja) | 2020-02-20 |
JP6785186B2 JP6785186B2 (ja) | 2020-11-18 |
Family
ID=64273738
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017098913A Active JP6785186B2 (ja) | 2017-05-18 | 2017-05-18 | 検査システムおよび検査システムにおける温度測定方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11378610B2 (ja) |
JP (1) | JP6785186B2 (ja) |
KR (1) | KR102311129B1 (ja) |
CN (1) | CN110709972B (ja) |
TW (1) | TWI749227B (ja) |
WO (1) | WO2018211775A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10811290B2 (en) * | 2018-05-23 | 2020-10-20 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Systems and methods for inspection stations |
JP7153556B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2022-10-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 温度測定部材、検査装置及び温度測定方法 |
WO2021046818A1 (en) * | 2019-09-12 | 2021-03-18 | Yangtze Memory Technologies Co., Ltd. | Electronic component comprising substrate with thermal indicator |
US11543450B2 (en) * | 2019-12-24 | 2023-01-03 | SK Hynix Inc. | System and method of testing a semiconductor device |
US11262401B2 (en) * | 2020-04-22 | 2022-03-01 | Mpi Corporation | Wafer probe station |
CN114814543A (zh) * | 2022-04-22 | 2022-07-29 | 上海晶岳电子有限公司 | 一种电源管理芯片抗温度冲击测试系统及其测试方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11354596A (ja) * | 1998-06-03 | 1999-12-24 | Seiko Instruments Inc | 半導体装置の検査方法 |
JP2000162048A (ja) * | 1998-11-25 | 2000-06-16 | Tokyo Electron Ltd | 温度測定方法および温度測定装置 |
JP2013254812A (ja) * | 2012-06-06 | 2013-12-19 | Tokyo Electron Ltd | ウエハ検査用インターフェース及びウエハ検査装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001024204A (ja) | 1999-07-06 | 2001-01-26 | Canon Inc | 太陽電池モジュールの検査装置ならびに検査方法 |
JP4548817B2 (ja) | 2002-10-18 | 2010-09-22 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブ装置 |
JP4343151B2 (ja) * | 2004-08-11 | 2009-10-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 加熱プレートの温度測定方法、基板処理装置及び加熱プレートの温度測定用のコンピュータプログラム |
JP2010027729A (ja) * | 2008-07-16 | 2010-02-04 | Elpida Memory Inc | プローブ装置及びそれを用いた半導体ウェハの検査方法 |
WO2010053173A1 (ja) * | 2008-11-10 | 2010-05-14 | 株式会社Kelk | 半導体ウェーハの温度制御装置および温度制御方法 |
JP2011192867A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のステージ温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP5528998B2 (ja) * | 2010-12-15 | 2014-06-25 | 株式会社アドバンテスト | 試験装置 |
JP6333112B2 (ja) * | 2014-08-20 | 2018-05-30 | 東京エレクトロン株式会社 | ウエハ検査装置 |
JP6406221B2 (ja) * | 2015-11-17 | 2018-10-17 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置の評価装置及び評価方法 |
-
2017
- 2017-05-18 JP JP2017098913A patent/JP6785186B2/ja active Active
-
2018
- 2018-03-01 CN CN201880033005.0A patent/CN110709972B/zh active Active
- 2018-03-01 US US16/613,376 patent/US11378610B2/en active Active
- 2018-03-01 WO PCT/JP2018/007834 patent/WO2018211775A1/ja active Application Filing
- 2018-03-01 KR KR1020197037215A patent/KR102311129B1/ko active IP Right Grant
- 2018-05-16 TW TW107116543A patent/TWI749227B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11354596A (ja) * | 1998-06-03 | 1999-12-24 | Seiko Instruments Inc | 半導体装置の検査方法 |
JP2000162048A (ja) * | 1998-11-25 | 2000-06-16 | Tokyo Electron Ltd | 温度測定方法および温度測定装置 |
JP2013254812A (ja) * | 2012-06-06 | 2013-12-19 | Tokyo Electron Ltd | ウエハ検査用インターフェース及びウエハ検査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6785186B2 (ja) | 2020-11-18 |
KR102311129B1 (ko) | 2021-10-08 |
CN110709972A (zh) | 2020-01-17 |
CN110709972B (zh) | 2022-12-06 |
KR20200007952A (ko) | 2020-01-22 |
US11378610B2 (en) | 2022-07-05 |
WO2018211775A1 (ja) | 2018-11-22 |
TWI749227B (zh) | 2021-12-11 |
US20200174060A1 (en) | 2020-06-04 |
TW201909297A (zh) | 2019-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6785186B2 (ja) | 検査システムおよび検査システムにおける温度測定方法 | |
JP7018784B2 (ja) | コンタクト精度保証方法および検査装置 | |
KR100827465B1 (ko) | 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법 | |
JP6887332B2 (ja) | 検査システム | |
JP7153556B2 (ja) | 温度測定部材、検査装置及び温度測定方法 | |
KR100291110B1 (ko) | 프로우브장치 및 그것을 사용한 피검사체의 검사방법 | |
JP2006253331A (ja) | 製造検査解析システム、解析装置、解析装置制御プログラム、解析装置制御プログラムを記録した記録媒体、および製造検査解析方法 | |
TWI586975B (zh) | A substrate abutment device for the probe card, and a substrate inspection device provided with a substrate abutment device | |
JP5469183B2 (ja) | 負荷の下で基板を検査する装置 | |
WO2019064876A1 (ja) | 検査システムおよび検査方法 | |
JP2006317346A (ja) | プロービングシステム及びプローバ | |
JP2016188781A (ja) | 電子部品搬送装置および電子部品検査装置 | |
KR102319587B1 (ko) | 검사 시스템 | |
JPH08210881A (ja) | 検査方法及び検査装置 | |
JPH04307952A (ja) | 検査装置 | |
JP2010073827A (ja) | プローブ装置 | |
JP5365670B2 (ja) | 基板検査装置 | |
JP4764105B2 (ja) | 基板保持台 | |
KR20200122296A (ko) | 키트-리스 픽 앤 플레이스 핸들러 | |
JPH01261839A (ja) | 測定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191225 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200929 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201026 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6785186 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |