JPH11354596A - 半導体装置の検査方法 - Google Patents
半導体装置の検査方法Info
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- JPH11354596A JPH11354596A JP15486998A JP15486998A JPH11354596A JP H11354596 A JPH11354596 A JP H11354596A JP 15486998 A JP15486998 A JP 15486998A JP 15486998 A JP15486998 A JP 15486998A JP H11354596 A JPH11354596 A JP H11354596A
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Abstract
く測定できるようにすること。 【解決手段】 基準ウエハを用いて、温度分布の温度補
正値を予め求め、正確な温度状態にすること。
Description
して出力が変化する半導体装置IC(以下ICと称す
る)を測定する半導体装置の検査方法に関する。
ICの測定方法として、プローバ装置とIC検査装置を
使用した方法が知られている。プローバ装置にはウエハ
を乗せるステージ部とステージに温度を加える部分とで
構成されており、このステージにウエハを乗せステージ
を加熱、冷却する事で、ウエハにも熱が伝わり、ウエハ
上の複数チップにも同時に、同じ様に熱が伝わる様にな
っている。
プローブカードを介し(図3参照)IC検査装置に接続
され、温度変化に対する比に換算したICの出力を、I
C検査装置で選別する温度検査方法であった。
度検査方法では、設定した温度に対してステージ部内で
温度分布がある為、この影響で精度良くウエハに温度が
加えられないこの為、とりわけ±1℃の温度保証をする
測定においては、温度に対して正しくICが出力されて
いる検査方法の検証が困難であるという問題があった。
に、この発明は、予め面内の温度分布が知れている基準
ウエハを温度を加えたステージ部上に乗せ、温度に比例
したICの出力値を測定し、予め面内の分布が知れてい
る基準ウエハの温度特性データと比較しステージ部内の
温度分布補正値を求め、その値から、計算した結果と、
本来のICからの出力とを比較して、良品判定を行える
様にしたものである。
対し、ステージの面内分布が不均一な場合においても、
予め算出した補正値をもちよることにより、適正かつ正
確に温度特性検査を可能にするものである。
説明する。図3は検査を行うプローバ装置とIC検査装
置の接続図、図1はステージ部上の温度分布例、図2は
基準ウエハ上の測定点図である。本実施例においてプロ
ーバ装置は加熱冷却部7、ステージ部6、接触子4を含
むプローブカード3を備え、ウエハ5のICの出力値
を、接続されたIC検査装置とテストプログラムで測定
を行う様に構成されている。
せ、ステージ部に温度を加え、ステージ部上の温度分布
点a付近に対応する、基準ウエハ上の測定チップ点a、
の出力値を測定する(図1、図2参照)。次に、ステー
ジ部上の温度分布点b付近に対応する、基準ウエハ上の
測定チップ点bの出力値を測定する、次にステージ部上
の温度分布点cというように、この操作を順次繰り返し
て行き、ウエハの全てのチップに対し出力値を測定し、
この出力データ値と、予め知れていた基準ウエハの温度
特性データ値とを比較することでステージ部上の面内温
度分布に対応する温度補正値を算出する。
14中に、たとえステージの温度分布のばらつきが有っ
ても、予め知れているステージの位置に依存する温度分
布の補正値を検査規格に用いる事で、適正に測定が行え
る。ここで、基準ウエハは、ウエハの中に存在する、各
々のチップの温度特性が詳細に知れているチップの集合
体のことである。このウエハを測定後、各々のチップを
実装し、温度を正確に印加できる液槽恒温槽などでを用
いて、面内分布に対応したチップの温度特性に対する電
気的な特性を測定し、ウエハ面内の各々のチップの特性
を予め知る事ができる。
テージ部の温度補正値を使用して、測定を行う構成にし
た事により、温度変動に対し温度精度を向上させた温度
測定検査が可能になり、高精度な測定ができる。
3である。
Claims (1)
- 【請求項1】 プローバ装置のステージ部に温度を加え
て、ウエハの温度変化に対する測定を行う半導体装置の
検査方法において、基準ウエハを用いて、前記ステージ
部の面内温度分布の温度補正値を予め求め、その温度補
正値によって、前記ステージ部内の面内温度の補正を行
い測定することを特徴とする半導体装置の検査方法。
Priority Applications (1)
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JP15486998A JP3995800B2 (ja) | 1998-06-03 | 1998-06-03 | 半導体装置の検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP15486998A JP3995800B2 (ja) | 1998-06-03 | 1998-06-03 | 半導体装置の検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH11354596A true JPH11354596A (ja) | 1999-12-24 |
JP3995800B2 JP3995800B2 (ja) | 2007-10-24 |
Family
ID=15593711
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP15486998A Expired - Lifetime JP3995800B2 (ja) | 1998-06-03 | 1998-06-03 | 半導体装置の検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3995800B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018211775A1 (ja) * | 2017-05-18 | 2018-11-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 検査システムおよび検査システムにおける温度測定方法 |
JP2019160897A (ja) * | 2018-03-09 | 2019-09-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 結露防止方法および処理システム |
-
1998
- 1998-06-03 JP JP15486998A patent/JP3995800B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TWI788536B (zh) * | 2018-03-09 | 2023-01-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 結露防止方法及處理系統 |
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JP3995800B2 (ja) | 2007-10-24 |
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