JP2018189230A - 真空弁のための真空弁による最適化された圧力調整 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】調整及び制御ユニットは、弁閉鎖体のための事前調整ステップ(53a)及び調整ステップ(53b)を伴う調整サイクルの実行のために構成され、事前調整ステップ(53a)の間に、弁閉鎖体は、既定の現時点の事前調整位置へ移動し、調整ステップ(53b)の間に、閉鎖体位置の特定の変動が、現時点で決定された制御変数及び標的値に基づいて実行される。調整及び制御ユニットは、その実行の間に、制御変数が調整サイクルの少なくとも一部の間に記録されて現時点の調整プロファイル(51)が導出され、現時点の事前調整位置の適合が行われて適合された事前調整位置が調整サイクルのための現時点の事前調整位置として提供される、更新機能を有する。
【選択図】図3b
Description
本発明は、真空調整弁と真空条件下における加工プロセスの圧力調整された動作のための制御及び調整ユニットとを含むシステムに関する。
一般に、容積又は質量流量を調整し、弁ハウジングに形成された開口に通じる流路を実質的に気密閉鎖するための真空弁は、様々な実施形態で従来技術から公知であり、特に、汚染粒子が存在しない可能な限り保護された気圧において行われなければならないIC、半導体又は基板製造の分野における真空チャンバシステムで使用される。このような真空チャンバシステムは、特に、加工又は製造される半導体素子又は基板を受ける少なくとも1つの排気可能な真空チャンバを含み、真空チャンバは、そこを通って真空チャンバ内及び外へ半導体素子又は他の基板が誘導され得る少なくとも1つの真空チャンバ開口、並びに真空チャンバを排気する少なくとも1つの真空ポンプを有する。例えば、半導体ウエハ又は液晶基板の製造プラントにおいて、非常に繊細な半導体又は液晶素子が、複数のプロセス真空チャンバを順に通り、チャンバでは、プロセス真空チャンバ内側に位置する部材が、いずれの場合においても加工装置によって加工される。プロセス真空チャンバ内側の加工プロセス、及びチャンバからチャンバへの搬送の間に、非常に繊細な半導体素子又は基板は、多くの場合、保護された気圧、特に無気環境に位置しなくてはならない。
したがって、本発明の目的は、前記欠点を回避することが可能である調整を伴う改善された真空弁を提供することである。
−(例えば、事前調整位置に対応する)新しい圧力のための調節された閉鎖体位置、
−弁閉鎖体の現在の位置、及び
−現在の位置から調節された位置へ変化することになる基準。
弁閉鎖体の制御された運動ステップと、
閉鎖体位置の調整された変動又は調節ステップと、
現時点の調整プロファイルの導出及び参照調整プロファイルとの比較ステップと、
調整偏差の導出ステップと、
導出された調整偏差に応じた、制御変数に対する少なくとも部分的に予測可能な効果に基づく、事前調整位置の適合ステップと、
調整サイクルのための現在の事前調整位置としての、適合された事前調整位置の提供ステップと、が挙げられる。
Claims (15)
- 容積又は質量流量を調整し及び/又はプロセス容積(1)を気密シールする真空弁(10)と調整及び制御ユニット(11)とを含む弁システムであって、
真空弁(10)が、
開口軸(34)を定める弁開口(33)と弁開口(33)を取り巻く第1のシーリング表面(35)とを有する弁座と、
第1のシーリング表面(35)に対応する第2のシーリング表面を有し、弁開口(33)の実質的な気密閉鎖のための弁閉鎖体(38)と、
弁閉鎖体(38)に結合された駆動ユニット(40)であって、弁閉鎖体(38)が、それぞれの閉鎖体位置を提供するために既定の方法で変動可能かつ調節可能であり、弁閉鎖体(38)が弁開口(33)を少なくとも部分的に解放する開放位置(O)から、第1のシーリング表面(35)が第2のシーリング表面上へ押圧され弁開口(33)を実質的に気密閉鎖する閉鎖位置へ、及びその逆へ調節され得るように構成される駆動ユニット(40)と、を含む弁システムであり、
調整及び制御ユニット(11)が、弁閉鎖体(38)のための事前調整ステップ(53a)及び次の調整ステップ(53b)を伴う調整サイクルの特に複数の実行のために構成され、
調整サイクルを実行するとき、
事前調整ステップ(53a)の間に、弁閉鎖体(38)が、調整及び制御ユニット(11)によって制御されて、特に開放位置(O)から既定の現時点の事前調整位置へ、駆動ユニット(40)の対応する動作によって移動し、
調整ステップ(53b)の間に、閉鎖体位置の特定の変動又は調節が、プロセスパラメータに対する現時点で決定された制御変数(12)及び標的値(13)に基づいて駆動ユニット(40)を動作させることによって、現時点の事前調整位置に応じて実行され、これにより、特に制御変数(12)を、標的値(13)に近づけることができ、制御変数(12)に基づく弁閉鎖体(38)の既定の位置変化によって引き起こされる効果が、少なくとも部分的に予測可能であり、
調整及び制御ユニット(11)が、その実行の間に、
制御変数(12)が調整サイクルの少なくとも一部の間に記録され、これに基づいて現時点の調整プロファイル(21、51)が導出され、
現時点の調整プロファイル(21、51)が参照調整プロファイルと比較されて、調整偏差が導出され、
現時点の事前調整位置の適合が、導出された調整偏差に応じて、制御変数(12)に対する少なくとも部分的に予測可能な効果に基づいて行われ、
適合された事前調整位置が、調整サイクルのための現時点の事前調整位置として提供及び/又は記憶される、
ように構成される更新機能を有し、
更新機能が、特にプロセス容積(1)による生産プロセスの間の複数の調整サイクルにわたって、連続的に実行され得るように、調整及び制御ユニット(11)が構成される、
ことを特徴とする弁システム。 - 更新機能が、
参照調整プロファイルが、第1の調整サイクル又は第1の調整ステップの実行の間に制御変数(12)を記録することによって、生成及び記憶され、
現時点の調整プロファイル(21、51)が、第2の調整サイクル又は第2の調整ステップの実行の間に制御変数(12)を記録することによって、導出される、
ように構成され、
特に、第2の調整サイクル又は第2の調整ステップが、第1の調整サイクル又は第1の調整ステップの後に実行される、
ことを特徴とする請求項1に記載の弁システム。 - 調整及び制御ユニット(11)が、複数の調整サイクル又は複数の調整ステップの実行の間に制御変数(12)を記録することによって参照調整プロファイルが生成及び記憶されるように構成され、
特に、調整ステップの特定の時間間隔又は特定の時点に対して記録された制御変数の平均化が実現される、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の弁システム。 - 調整及び制御ユニット(11)が、参照調整プロファイルを生成するための学習機能を有し、
学習機能が、その実行の間に、
調整サイクルのための所望の動作に対応する多数の実質的に同一の調整サイクルを実行するために、弁閉鎖体(38)のためのそれぞれの所望の位置が、それぞれの調整サイクルの少なくとも1つの時間セクションにわたって記録され、
記録された弁閉鎖体(38)のための所望の位置が、参照調整プロファイルとして、調整サイクルのそれぞれの時間セクションに関連して記憶される、
ように構成される、
ことを特徴とする請求項1〜3のうちのいずれかに記載の弁システム。 - 方向及び/又は大きさに関して既定の方法で調整偏差に反作用する制御変数(12)に対する効果が適合された事前調整位置によって生成されるように現時点の事前調整位置を適合させるよう、
調整及び制御ユニット(11)が構成されるに、
ことを特徴とする請求項1〜4のうちのいずれかに記載の弁システム。 - 事前調整ステップ(53a)が、開始信号(5)の受け取りに応じて開始又は実行される、
ことを特徴とする請求項1〜5のうちのいずれかに記載の弁システム。 - 開始信号(5)が上位プロセスコントローラによって生成されて、
上位プロセスコントローラが、同じタイプの多様な製品のためのプロセス容積による生産プロセスを制御するように構成され、
調整サイクルが、複数回繰り返される生産プロセスの一部を適宜に表し、
開始信号(5)が、生産プロセスの間に複数回適宜に出力される、
ことを特徴とする請求項6に記載の弁システム。 - 現時点の調整プロファイル(21、51)及び/若しくは参照調整プロファイルが、調整曲線の形で記録され、並びに/又は
参照調整プロファイルが、標的値(13)、及び調整サイクルの若しくは事前調整ステップ(53a)若しくは調整ステップ(53b)の許容時間に応じて定められる、
ことを特徴とする請求項1〜7のうちのいずれかに記載の弁システム。 - プロセスパラメータが、プロセス容積(1)のための圧力情報によって表現され、
標的値(13)が、プロセス容積(1)において到達される所望の圧力であり、
現時点で決定された制御変数(12)が、プロセス容積(1)における現時点の圧力を表す、
ことを特徴とする請求項1〜8のうちのいずれかに記載の弁システム。 - 標的値(13)が、プロセス容積(1)において到達される所望の圧力であり、
現時点で決定された制御変数(12)が、プロセス容積(1)への現時点の媒体流入を特定し、特に現時点で決定された制御変数が、現時点の圧力流入サイズを考慮に入れる、
ことを特徴とする請求項1〜9のうちのいずれかに記載の弁システム。 - 流出情報が、現時点の決定された制御変数(12)と共に、記憶されるか又は現時点で決定され、
流出情報が、どの程度の質量又は容積の媒体がプロセス容積(1)から単位時間当たり閉鎖体位置に応じて流れ出るかを特定する、
ことを特徴とする請求項1〜10のうちのいずれかに記載の弁システム。 - 調整及び制御ユニット(11)が、
圧力センサ(3)に接続され、圧力センサの出力信号が、現時点で決定された制御変数(12)を提供し、及び/又は
質量流量計(2)又は質量流量モニタユニット(2)に接続され、質量流量計の又は質量流量モニタユニットの出力信号が、現時点で決定された制御変数(12)を提供する、
ことを特徴とする請求項1〜11のうちのいずれかに記載の弁システム。 - 真空弁(10)のための調整及び制御ユニット(11)であって、真空弁(10)が、容積若しくは質量流量を調整し及び/又はプロセス容積(1)を気密シールするために構成され、調節可能な弁閉鎖体を有する、調整及び制御ユニットであり、
調整及び制御ユニット(11)が、弁閉鎖体(38)のための事前調整ステップ(53a)及び次の調整ステップ(53b)を伴う調整サイクルの、特に複数の実行のために構成され、
調整サイクルを実行するときに、
事前調整ステップ(53a)の間に、弁閉鎖体(38)が、調整及び制御ユニット(11)によって制御されて、特に開放位置(O)から既定の現時点の事前調整位置へ、駆動ユニット(40)の対応する動作によって移動し、
調整ステップ(53b)の間に、閉鎖体位置の特定の変動又は調節が、プロセスパラメータに対する現時点で決定された制御変数(12)及び標的値(13)に基づいて駆動ユニット(40)を動作させることによって、現時点の事前調整位置に応じて実行され、これにより、特に制御変数(12)を、標的値(13)に近づけることができ、制御変数(12)に基づく弁閉鎖体(38)の既定の位置変化によって引き起こされる効果が、少なくとも部分的に予測可能であり、
調整及び制御ユニット(11)が、その実行の間に、
制御変数(12)が調整サイクルの少なくとも一部の間に記録され、これに基づいて現時点の調整プロファイル(21、51)が導出され、
現時点の調整プロファイル(21、51)が参照調整プロファイルと比較されて、調整偏差が導出され、
現時点の事前調整位置の適合が、導出された調整偏差に応じて、制御変数(12)に対する少なくとも部分的に予測可能な効果に基づいて行われ、
適合された事前調整位置が、調整サイクルのための現時点の事前調整位置として提供及び/又は記憶される、
ように構成される更新機能を有し、
更新機能が、特にプロセス容積(1)による生産プロセスの間の複数の調整サイクルにわたって、連続的に実行され得るように、調整及び制御ユニット(11)が構成される、
ことを特徴とする調整及び制御ユニット(11)。 - 真空弁(10)を用いて生産サイクルを実行する方法であって、
真空弁(10)が、
容積若しくは質量流量を調整するために及び/又はプロセス容積(1)を気密シールするために構成され、
開口軸(34)を定める弁開口(33)と弁開口(33)を取り巻く第1のシーリング表面(35)とを有する弁座と、
第1のシーリング表面(35)に対応する第2のシーリング表面を有し、弁開口(33)の実質的な気密閉鎖のための弁閉鎖体(38)と、
弁閉鎖体(38)に結合された駆動ユニット(40)であって、
弁閉鎖体(38)が、それぞれの閉鎖体位置を提供するために既定の方法で変動可能かつ調節可能であり、
弁閉鎖体(38)が弁開口(33)を少なくとも部分的に解放する開放位置(O)から、第1のシーリング表面(35)が第2のシーリング表面上へ押圧され弁開口(33)を実質的に気密閉鎖する閉鎖位置へ、及びその逆へ調節され得る、
ように構成される駆動ユニット(40)と、を含み、
方法の間に、
弁閉鎖体のための調整サイクルが、特に複数回実行され、
調整サイクルが、
駆動ユニット(40)の標的を定めた動作による、開始信号の受け取りに応じた、特に開放位置から既定の現在の事前調整位置への、弁閉鎖体の制御された運動と、
続く、プロセスパラメータに対する現時点で決定された制御変数(12)及び標的値(13)に基づいた駆動ユニット(40)の動作による、現時点の事前調整位置に応じた、閉鎖体位置の調整された変動又は調節であって、特にこれにより制御変数(12)が標的値(13)に近づけられ、制御変数に対して弁閉鎖体の既定の位置変化によってもたらされる効果が、少なくても部分的に予測され得る、閉鎖体位置の調整された変動又は調節と、
を少なくとも含み、
制御変数(12)が調整サイクルの少なくとも一部の間に記録され、これに基づいて現時点の調整プロファイル(21、51)が導出され、
現時点の調整プロファイル(21、51)が参照調整プロファイルと比較されて、調整偏差が導出され、
現時点の事前調整位置の適合が、導出された調整偏差に応じて、制御変数(12)に対する少なくとも部分的に予測可能な効果に基づいて行われ、
適合された事前調整位置が、調整サイクルのための現時点の事前調整位置として提供及び/又は記憶される方法。 - 請求項14に記載の方法の少なくとも
弁閉鎖体の制御された運動ステップと、
閉鎖体位置の調整された変動又は調節ステップと、
現時点の調整プロファイルの導出及び参照調整プロファイルとの比較ステップと、
調整偏差の導出ステップと、
導出された調整偏差に応じた、制御変数に対する少なくとも部分的に予測可能な効果に基づく、事前調整位置の適合ステップと、
調整サイクルのための現時点の事前調整位置としての、適合された事前調整位置の提供ステップと、
を実行又は制御するプログラムコードを有し、
機械可読キャリア上に、特に請求項1〜12のうちのいずれかに記載の弁システムの記憶ユニットに、又は請求項13に記載の調整及び制御ユニット(11)に、記憶されるコンピュータプログラム製品であって、
特に、プログラムが、電子データ処理ユニット、特に請求項1〜12のうちのいずれかに記載の弁システムの調整及び制御ユニット(11)、において又は請求項13に記載の調整及び制御ユニット(11)において実行される、
コンピュータプログラム製品。
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