JP2014194966A - 処理方法及び処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】処理容器内の圧力を、短時間で所望の圧力値又は圧力範囲へと到達することが可能な処理方法を提供すること。
【解決手段】ガス供給系、排気系及び開度可変弁が接続された処理容器内で、複数の連続した処理ステップで、処理ガスを用いて被処理体に処理を施す処理方法であって、前記複数の連続した処理ステップの少なくとも1つの処理ステップに対して、該処理ステップの所定の処理条件での前記処理容器内の目標圧力値に対応する、前記開度可変弁の開度を取得する、取得段階と、前記複数の連続した処理ステップを実行する実行段階であって、前記取得段階で前記開度を取得した前記処理ステップでは、該開度で前記処理ステップを実行する、実行段階と、を有する、処理方法。
【選択図】図1
【解決手段】ガス供給系、排気系及び開度可変弁が接続された処理容器内で、複数の連続した処理ステップで、処理ガスを用いて被処理体に処理を施す処理方法であって、前記複数の連続した処理ステップの少なくとも1つの処理ステップに対して、該処理ステップの所定の処理条件での前記処理容器内の目標圧力値に対応する、前記開度可変弁の開度を取得する、取得段階と、前記複数の連続した処理ステップを実行する実行段階であって、前記取得段階で前記開度を取得した前記処理ステップでは、該開度で前記処理ステップを実行する、実行段階と、を有する、処理方法。
【選択図】図1
Description
本発明は、処理方法及び処理装置に関する。
半導体装置の製造においては、被処理体である半導体ウエハに対して、成膜処理、酸化処理、拡散処理、アニール処理、エッチング処理などの処理が施される。
各々の処理を実施する処理装置は、一般的に、ガス供給系及び真空排気系が接続された処理容器を有し、この処理容器内に収容された半導体ウエハに対して、所定の温度、圧力及びガス雰囲気で所定の処理を施すことができる。
処理容器内の圧力制御には、一般的に、APC(Auto Pressure Controller)と呼ばれるコンダクタンス制御機器が使用される。APCとは、流入ガス及び排気ガスの流量などから最適な演算テーブルを設定し、その演算テーブルを用いるPID制御方式によって、処理容器内の圧力制御を行う圧力制御機器である。この際、被処理体が載置された処理容器内の圧力は、所定の圧力となるように、圧力計の情報をフィードバックしながら、圧力制御弁の開度を自動調整するクローズドループ方式で制御される(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、PID制御方式を利用して処理容器内部の圧力を制御する方法では、処理容器内の圧力が、要求される圧力値又は圧力範囲に収束するまでに、長い時間を要する。
上記課題に対して、処理容器内の圧力を、短時間で所望の圧力値又は圧力範囲へと到達することが可能な処理方法を提供する。
ガス供給系、排気系及び開度可変弁が接続された処理容器内で、複数の連続した処理ステップで、処理ガスを用いて被処理体に処理を施す処理方法であって、
前記複数の連続した処理ステップの少なくとも1つの処理ステップに対して、該処理ステップの所定の処理条件での前記処理容器内の目標圧力値に対応する、前記開度可変弁の開度を取得する、取得段階と、
前記複数の連続した処理ステップを実行する実行段階であって、前記取得段階で前記開度を取得した前記処理ステップでは、該開度で前記処理ステップを実行する、実行段階と、
を有する、処理方法。
前記複数の連続した処理ステップの少なくとも1つの処理ステップに対して、該処理ステップの所定の処理条件での前記処理容器内の目標圧力値に対応する、前記開度可変弁の開度を取得する、取得段階と、
前記複数の連続した処理ステップを実行する実行段階であって、前記取得段階で前記開度を取得した前記処理ステップでは、該開度で前記処理ステップを実行する、実行段階と、
を有する、処理方法。
処理容器内の圧力を、短時間で所望の圧力値又は圧力範囲へと到達することが可能な処理方法を提供できる。
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
なお、本実施形態においては、好ましい処理装置として、被処理体(例えば半導体ウエハW)に対して、原子層堆積(ALD:Atomic Layer Deposition)処理、熱化学気相成長(CVD:Chemical Vapor Deposition)処理、酸化処理などの各種処理を実施可能である、後述する図2に示されるような縦型熱処理装置を使用する実施形態について説明する。しかしながら、本発明はこの点において限定されず、プラズマCVD成膜装置、マイクロ波プラズマ処理装置、プラズマイオン注入成膜装置などにも適用可能である。
また、本発明は、複数の連続した処理ステップを行うプロセスであれば、どのようなプロセスであっても適用可能であり、好ましくは、複数の連続した処理ステップにおいて、隣り合う処理ステップ間において目標圧力値が変動するプロセスに、好適に適用可能である。
複数の連続した処理ステップを有するプロセスにおいて、特にALDプロセスは、他の半導体処理プロセスと比較して、所望の目標圧力値に、より早く、より高い精度で調整することが要求される成膜手法である。具体例として、ある処理ステップにおいて、処理ガス容器内に処理ガスを導入して成膜し、次の処理ステップにおいて、処理ガス容器内からパージガスを導入して処理ガスを排気する場合について説明する。ある処理ステップからから次の処理ステップへの移行時において、処理容器内にパージガスを導入してから処理ガスを排気するまでの処理時間は、一般的に、およそ数秒とすることが要求される。そのため、本実施形態における、短時間で所定の設定圧力範囲へと到達可能な処理方法を、好ましく適用することができる。
(処理装置)
図1に、本実施形態に係る処理装置の一例の概略構成図を示す。また、図2に、図1の処理装置の処理容器近傍の概略構成図を示す。
図1に、本実施形態に係る処理装置の一例の概略構成図を示す。また、図2に、図1の処理装置の処理容器近傍の概略構成図を示す。
本実施形態に係る処理装置100は、長手方向が垂直である、例えば石英製の処理容器102を有する。処理容器102は、図2に示されるように、例えば、円筒体の内筒102aと、内筒102aの外側に同心的に配置された有天井の外筒102bの2重管構造で構成される。
また、反応管102の下部には、ステンレスなどから形成されるマニホールド104によって、その下端部が気密に保持される。マニホールド104は、図示しないベースプレートに固定されていても良い。
マニホールド104は、処理容器102内に処理ガスや、不活性ガス(例えばN2ガス)などのパージガスを導入するガス導入部106と、処理容器102内を排気するガス排気部108とを有する。なお、図1では、ガス導入部106が1つ設置される構成を示したが、本発明はこの点において限定されない。使用するガス種の数などに依存して、複数のガス導入部106を有する構成であっても良い。
ガス導入部106には、前述の各種ガスを導入するためのガス供給路なる配管110が接続される。また、ガス排気部108には、処理容器102内を減圧制御可能な真空ポンプ112や開度可変弁114などを有する真空排気路なる配管116が接続されている。
また、処理容器102の周囲には、処理容器102を所定の温度に加熱制御可能な、例えば円筒状のヒータ118が設けられている。
マニホールド104の下端部には炉口120が形成されており、この炉口120には、例えばステンレススチールから形成される円盤状の蓋体122が設けられている。この蓋体122は、昇降機構124により昇降可能に設けられており、炉口120を密閉可能とすることができる。
蓋体122の上には、例えば石英製の保温筒126が設置されている。また、保温筒126の上には、例えば25枚から150枚程度のウエハWを、水平状態で所定の間隔で多段に保持する、例えば石英製のウエハボート128が、載置されている。
ウエハボート128は、昇降機構124による蓋体122の上昇により処理容器102内に搬入され、蓋体122の下降により処理容器102内から下方のローディングエリアに搬出される。
前述したように、真空排気系の配管116には、開閉及び圧力制御が可能な開度可変弁114が設けられている。図3に、図1の開度可変弁114近傍の概略構成図を示す。
図3に示されるように、開度可変弁114は、下端部に入口130と、側部に出口132とを有するアングル弁形状の弁室134を備えている。この弁室134内には、入口130の奥部で径方向外方に拡大された平面状の弁座136が形成されている。同時に、この弁座136に着座及び離反移動調節可能に弁体138が設けられている。
弁室134及び弁体138は、ステンレススチールなどの、耐熱性及び耐食性を有する材料によって形成される。
また、弁体138の弁座136に着脱する部分には、封止手段として、フッ素ゴムなどから構成されるOリング140が設けられている。
弁体138の上端中央部には、弁棒142が垂直に設けられ、弁室134の頂部には、弁室134の上端部を貫通する弁棒142を介して、弁体138を弁座136に着座及び離反移動調節する弁体駆動部144が設けられている。
弁体駆動部144は、例えばパルスモータ及びネジ送り機構などの駆動手段を使用することができる。
また、弁体138の上端部と弁室134内の上端部との間には、弁棒142の周囲を覆うようにベローズ146が、例えば溶接により介設されている。ベローズ146は、弁体138の移動を許容しつつ弁棒142の環通部を封止することができる。
弁体138は、円形に形成されると共に、下方に段階的に縮径して形成されている。この弁体138の形状に対応して、弁座136の入口130側の形状も、段階的に縮径して形成されている。
弁体138の上端最大径部148の下面は、弁座136の上面部と対向するように形成され、その部分にOリング140が設けられている。なお、弁体138の縮径部は、上端最大径部138の下部に、複数段、例えば上段150、中段152及び下段154の3段に形成されている。
弁体138及び弁座136の縮径部には、弁体138の移動方向と直交する方向で対向する周壁部138a、136aが形成されている。これら対の周壁部138a、136aは、弁体138の開弁移動方向に段階的に径を大きくして形成されている。
また、周壁部138aと136aとの間には、微調節用の空隙156が設けられている。上段150、中段152及び下段154の高さh1、h2及びh3は、h1>h2>h3となるよう形成されている。また、上段150、中段152及び下段154における、空隙156の幅s1、s2及びs3は、s1≧s2≧s3となるよう形成されている。
空隙156における、真空圧力のコンダクタンスは、空隙156の横断面積に反比例し、空隙156の距離寸法に比例する関係にある。また、弁体138を開弁位置から徐々に開弁する場合、圧力は先ず、横断面積が小さい下段154の空隙156により支配され、次いで中段152の空隙156、上段150の空隙156へと移行する。このような構成とすることにより、比較的真空度が低い圧力範囲での制御においても、容易に圧力制御を実施することが可能となる。
配管116であって、処理容器102と開度可変弁114との間の配管116には、処理容器102内の圧力を測定する圧力計160が備えられ、随時処理容器102内の内圧を測定することが可能となっている。
また、処理容器102の外部には、制御部162が設けられている。制御部162は、例えば、図示しない演算処理部、記憶部及び表示部を有する。演算処理部は、例えばCPU(Central Processing Unit)を有するコンピュータである。記憶部は、演算処理部に、各種の処理を実行させるためのプログラムを記録した、例えばハードディスクにより構成されるコンピュータ読み取り可能な記録媒体である。表示部は、例えばコンピュータの画面よりなる。演算処理部は、記憶部に記録されたプログラムを読み取り、そのプログラムに従って、後述するような処理方法を実行する。
また、圧力計160で測定された処理容器102内の圧力は、随時、制御部162に送られる。さらに、開度可変弁114には、APC164が搭載されており、APC164には制御部162からの制御信号が送られ、開度可変弁114の開度を制御可能な構成となっている。
制御部162には、例えばPID演算制御の演算テーブルが搭載されている。制御部162では、後述する取得段階において、圧力計160の圧力値(処理容器102内の圧力)に基づいて、演算テーブルを用いてAPC164を備える開度可変弁114を制御可能な構成となっている。開度可変弁114の制御により、処理容器102内の圧力値を、処理ガスの種類、処理ガスの流量及び処理温度などの処理条件での処理容器102の内圧(目標圧力値)へと制御可能となっている。
(処理方法)
次に、以上説明したように構成される処理装置において、本実施形態に係る処理方法について、以下に説明する。より具体的には、処理容器102内の被処理体に対して、複数の連続した処理工程が実行される場合の処理容器102内の圧力制御について、以下に説明する。
次に、以上説明したように構成される処理装置において、本実施形態に係る処理方法について、以下に説明する。より具体的には、処理容器102内の被処理体に対して、複数の連続した処理工程が実行される場合の処理容器102内の圧力制御について、以下に説明する。
図4に、本実施形態に係る処理方法の一例のフロー図を示す。
本実施形態に係る処理方法は、
複数の連続した処理ステップの少なくとも1つの処理ステップに対して、該処理ステップの所定の処理条件での前記処理容器内の目標圧力値に対応する、前記開度可変弁の開度を取得する、取得段階(S200)と、
前記複数の連続した処理ステップを実行する実行段階であって、前記取得段階で前記開度を取得した処理ステップでは、該開度で前記処理ステップを実行する、実行段階(S300)と、
を有する。
複数の連続した処理ステップの少なくとも1つの処理ステップに対して、該処理ステップの所定の処理条件での前記処理容器内の目標圧力値に対応する、前記開度可変弁の開度を取得する、取得段階(S200)と、
前記複数の連続した処理ステップを実行する実行段階であって、前記取得段階で前記開度を取得した処理ステップでは、該開度で前記処理ステップを実行する、実行段階(S300)と、
を有する。
各々の処理ステップについて、図を参照して具体例を挙げて説明する。
[取得段階]
図5に、本実施形態に係る処理方法を説明するための概略図を示す。なお、本実施形態においては、第1の目標圧力値で処理を実施する第1の処理ステップと、この第1の処理ステップの後に、第2の目標圧力値で処理を実施する第2の処理ステップと、この第2の処理ステップの後に、第3の目標圧力値で処理を実施する第3の処理ステップとの、3つの連続した処理ステップによって、被処理体上に成膜する方法を、一例として説明する。しかしながら、本実施形態の処理方法は、複数の連続した処理ステップであれば、2つの処理ステップであっても良いし、4つ以上の処理ステップであっても良い。
図5に、本実施形態に係る処理方法を説明するための概略図を示す。なお、本実施形態においては、第1の目標圧力値で処理を実施する第1の処理ステップと、この第1の処理ステップの後に、第2の目標圧力値で処理を実施する第2の処理ステップと、この第2の処理ステップの後に、第3の目標圧力値で処理を実施する第3の処理ステップとの、3つの連続した処理ステップによって、被処理体上に成膜する方法を、一例として説明する。しかしながら、本実施形態の処理方法は、複数の連続した処理ステップであれば、2つの処理ステップであっても良いし、4つ以上の処理ステップであっても良い。
先ず、取得段階の前段階として、第1の処理ステップ、第2の処理ステップ及び第3の処理ステップの各々の処理ステップにおける、目標圧力値を決定する。目標圧力値は、所望の膜を得るための条件として、当業者が、処理ガスの種類、処理ガスの流量及び処理温度の少なくとも1つ以上の処理条件と共に、事前に定めるものである。
そして、各々の処理ステップでの目標圧力値及び処理条件を、制御部162に入力する。入力された目標圧力値は、制御部162からAPC164へと送られることにより、先ず、第1の目標圧力値に関して、開度可変弁114の制御、即ち処理容器102内の圧力制御が実行される(S200a)。この圧力制御は、第1の処理ステップと同じ処理条件下で、PID制御演算などの演算テーブルを使用して実行される。なお、「第1の処理ステップと同じ処理条件」とは、第1の処理ステップにおける、処理ガスの種類、処理ガスの流量及び処理温度などの処理条件が同じであることを意味する。
図6に、本実施形態に係る取得段階を説明するための概略図を示す。図6における横軸は時間であり、縦軸は圧力を指し、図6における実線は、処理容器102内の圧力値である。本実施形態では、図6における一点鎖線で示される、第1の目標圧力値に対応する開度を取得する方法について、説明する。
圧力制御は、図6に示されるように、処理容器102内の圧力が、第1の目標圧力値を中心とする所定の圧力範囲内に、所定の時間(収束判定時間)収まった時点で完了される。圧力制御の完了は、制御部162に制御完了信号として送られる。また、その時点での開度可変弁114の開度は、例えば制御部162内の記憶部に、第1の目標圧力値と共に開度Table1として格納される(S210a)。
なお、前述の「所定の時間」は、収束判定時間とも呼ばれ、当業者が適宜設定することができる。この収束判定時間は、長ければ長いほど、目標圧力値に対応する、開度可変弁の真の開度と近くなるが、判定に要する時間が長くなる。一般的に、収束判定時間は、1秒から60秒程度であり、好ましくは1秒から30秒程度、又は、10秒から60秒程度とされる。
次に、制御完了信号が制御部162に送られた後、第2の目標圧力値に関して、開度可変弁114の制御が実行される(S200b)。この圧力制御は、第2の処理ステップと同じ処理条件下で、PID制御演算などの演算テーブルを使用して実行される。
第2の目標圧力値に関する圧力制御も、第1の目標圧力値と同様に、処理容器102内の圧力が、第2の目標圧力値を中心とする所定の圧力範囲内に、所定の時間収まった時点で完了される。圧力制御の完了は、制御部162に制御完了信号として送られる。また、その時点での開度可変弁114の開度は、制御部162内の図示しない記憶部に、第2の目標圧力値と共に開度Table2として格納される(S210b)。
次に、制御完了信号が制御部162に送られた後、第3の目標圧力値に関して、開度可変弁114の制御が実行される(S200c)。この圧力制御は、第3の処理ステップと同じ処理条件下で、PID制御演算などの演算テーブルを使用して実行される。
第3の目標圧力値に関する圧力制御も、第1及び第2の目標圧力値と同様に、処理容器102内の圧力が、第3の目標圧力値を中心とする所定の圧力範囲内に、所定の時間収まった時点で完了される。圧力制御の完了は、制御部162に制御完了信号として送られる。また、その時点での開度可変弁114の開度は、制御部162内の図示しない記憶部に、第3の目標圧力値と共に開度Table3として格納される(S210c)。
なお、本実施形態においては、記憶部は制御部162に備えられている構成を説明したが、APC164やその他の構成要素に備えられていても良い。
また、本実施形態では、複数の連続した処理ステップの全ての処理ステップに対して、取得段階を実施する構成について説明したが、本発明はこの点において限定されない。複数の連続した処理ステップの少なくとも1つ以上の処理ステップ、好ましくは、その直前の処理ステップから短時間で目標圧力値(目標圧力範囲)へと導くことが求められる処理ステップにおいて、取得段階を実施する構成であっても良い。
また、取得段階は、実行段階で実行される処理ステップと同じ順番で、各々の処理ステップの開度可変弁の開度を取得することが好ましい。
[実行段階]
次に、取得段階で取得された開度可変弁114の開度を、開度Table1〜3から参照して(S310a、S310b及びS310c)、実際の処理ステップを実行する(S300a、S300b及びS300c)。
次に、取得段階で取得された開度可変弁114の開度を、開度Table1〜3から参照して(S310a、S310b及びS310c)、実際の処理ステップを実行する(S300a、S300b及びS300c)。
この実行段階は、取得段階の直後に実施することが好ましい。別の言い方をすると、取得段階は、実行段階と同一のレシピ内であって、実行段階の直前に実施されることが好ましい。同一のレシピ内で、取得段階を行い、次いで実行段階を実施することにより、実行段階で行う処理ステップと略同一の処理条件を、取得段階で再現することができる。
なお、取得段階と、実行段階とが同一のレシピ内で実行されるとは、具体的には、複数の連続した処理ステップの各々の処理ステップにおける目標圧力値を決定して制御部162に入力した段階で、実行段階に先立って取得段階が実行されることを意味する。
実行段階における実際の成膜処理の前には、先ず、処理容器102内に、ガス導入部106から不活性ガスを導入すると共に、ガス排気部108から処理容器102内を排気することにより、処理容器102内を不活性ガスで置換する。その後、蓋体122を開けて被処理体(ウエハW)を搭載したウエハボート128を保温筒126と共に処理容器102内に搬入する。
次いで、不活性ガスの導入を遮断した状態で、ガス排気部108から排気して真空置換を行う。この際、パーティクルの巻上げを防止するために、スローバキュームを例えば10Torr程度になるまで行う。
そして、事前に定められた第1の処理ステップの処理条件下で、第1の実行段階を開始する。この際、開度可変弁114の開度は、第1の処理ステップに関して、取得段階で取得された開度を使用する。そして、第1の実行段階の終了後、事前に定められた第2の処理ステップの処理条件下で、第2の実行段階を開始する。この際、開度可変弁114の開度は、第2の処理ステップに関して、取得段階で取得された開度を使用する。そして、第2の実行段階の終了後、事前に定められた第3の処理ステップの処理条件下で、第3の実行段階を開始する。この際、開度可変弁114の開度は、第3の処理ステップに関して、取得段階で取得された開度を使用する。
全ての処理ステップに関して実行段階が終了した後は、処理容器102内の真空置換及び不活性ガスによる置換を行い、処理容器102内を常圧に戻し、蓋体122を下方へ開けながら処理容器102内からウエハボート128を搬出する。
以上説明したように、本実施形態の処理方法は、複数の連続した処理ステップの、各処理ステップに対応する処理ガスのガス種、ガス流量又は温度などによって目標圧力値が定められた状態で、演算テーブルによって、この目標圧力値に対応する開度可変弁の開度を予め取得する。取得された開度によって、実際の処理ステップを実行することにより、短時間で所定の設定圧力範囲へと到達することができる。そのため、処理ステップの移行時の処理容器内の内圧の安定化を短時間で実施することができる。
なお、上記実施形態に挙げた構成等に、その他の要素との組み合わせなど、ここで示した構成に本発明が限定されるものではない。これらの点に関しては、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で変更することが可能であり、その応用形態に応じて適切に定めることができる。
100 処理装置
102 処理容器
104 マニホールド
106 ガス導入部
108 ガス排気部
110 配管
112 真空ポンプ
114 開度可変弁
116 配管
118 ヒータ
120 炉口
122 蓋体
124 昇降機構
126 保温筒
128 ウエハボート
130 入口
132 出口
134 弁室
136 弁座
138 弁体
140 Oリング
142 弁棒
144 弁体駆動部
146 ベローズ
160 圧力計
162 制御部
164 APC(Auto Pressure Controller)
W 被処理体
102 処理容器
104 マニホールド
106 ガス導入部
108 ガス排気部
110 配管
112 真空ポンプ
114 開度可変弁
116 配管
118 ヒータ
120 炉口
122 蓋体
124 昇降機構
126 保温筒
128 ウエハボート
130 入口
132 出口
134 弁室
136 弁座
138 弁体
140 Oリング
142 弁棒
144 弁体駆動部
146 ベローズ
160 圧力計
162 制御部
164 APC(Auto Pressure Controller)
W 被処理体
Claims (10)
- ガス供給系、排気系及び開度可変弁が接続された処理容器内で、複数の連続した処理ステップで、処理ガスを用いて被処理体に処理を施す処理方法であって、
前記複数の連続した処理ステップの少なくとも1つの処理ステップに対して、該処理ステップの所定の処理条件での前記処理容器内の目標圧力値に対応する、前記開度可変弁の開度を取得する、取得段階と、
前記複数の連続した処理ステップを実行する実行段階であって、前記取得段階で前記開度を取得した前記処理ステップでは、該開度で前記処理ステップを実行する、実行段階と、
を有する、処理方法。 - 前記取得段階は、前記複数の連続した処理ステップの全ての処理ステップに対して、前記開度可変弁の開度を取得する、
請求項1に記載の処理方法。 - 前記取得段階は、前記複数の連続した処理ステップと同じ順番で、前記全ての処理ステップに対して、前記開度可変弁の前記開度を取得する、
請求項2に記載の処理方法。 - 前記取得段階は、前記複数の連続した処理ステップにおける最初の前記処理ステップの、前記実行段階の直前に実行される、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の処理方法。
- 前記処理条件は、前記処理ガスの種類、前記処理ガスの流量及び処理温度の少なくとも1つ以上の条件を含む、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の処理方法。
- 前記取得段階は、PID制御演算の演算テーブルを使用して、前記開度可変弁の前記開度を取得する、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の処理方法。
- 前記取得段階は、前記処理容器内の圧力が、前記目標圧力値を中心値とする所定の圧力範囲内に、所定の時間収まった時点での、前記開度可変弁の前記開度を取得する、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の処理方法。
- 前記所定の時間は、1秒から30秒の範囲内である、請求項7に記載の処理方法。
- 前記開度可変弁は、前記真空排気系に設けられる、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の処理方法。
- 複数の連続した処理ステップで、処理ガスを用いて被処理体に処理を施す処理装置であって、当該処理装置は、
前記被処理体を処理する処理室と、
前記処理室に少なくとも処理ガスを供給するガス供給系と、
前記処理室の内部を排気する排気系と、
前記排気系の排気量を調節する開度可変弁と、
制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記複数の連続した処理ステップを実行する場合に、前記複数の連続した処理ステップの少なくとも1つの処理ステップに対して、該処理ステップの所定の処理条件での前記処理容器内の目標圧力値に対応する、前記開度可変弁の開度を予め取得し、かつ、前記複数の連続した処理ステップのうちの、前記開度を取得した前記処理ステップでは、該開度で処理を実行するよう、前記処理装置を制御する、処理装置。
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