JP2018182281A - インダクタ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の一実施形態によると、複数のコイルパターンがビアで接続されて形成されたコイルを内部に配置した本体を含み、上記ビアは、第1導電層と、上記第1導電層上に形成される第2導電層と、を含み、上記ビアで接続されたコイルパターン間の距離は、他のコイルパターン間の距離よりも大きいインダクタを提供する。
【選択図】図3
Description
110 本体
111 絶縁層
115a、115b 外部電極
120 コイル(コイルパターン)
130 ビア
130a、130b 第1及び第2導電層
Claims (26)
- 複数のコイルパターンがビアで接続されて形成されたコイルを内部に配置した本体を含み、
前記ビアは、第1導電層と、前記第1導電層上に形成される第2導電層と、を含み、
前記ビアで接続されたコイルパターン間の距離は、他のコイルパターン間の距離よりも大きい、インダクタ。 - 前記第1導電層は、前記コイルパターン間の距離に対して0.7〜1.0の割合の厚さを有する、請求項1に記載のインダクタ。
- 前記第2導電層の厚さは3.0〜7.0μmである、請求項1または2に記載のインダクタ。
- 前記第2導電層は、前記第1導電層よりも硬度が低い金属を含む、請求項1から3のいずれか一項に記載のインダクタ。
- 前記第1導電層と前記第2導電層は互いに異なる組成を有し、前記第1導電層は、銀(Ag)、銅(Cu)、及びビスマス(Bi)のうち少なくとも一つを含む、請求項1から4のいずれか一項に記載のインダクタ。
- 前記第1導電層と前記第2導電層は互いに異なる組成を有し、前記第2導電層は、スズ(Sn)、スズ(Sn)−銀(Ag)、スズ(Sn)−銅(Cu)、及びスズ(Sn)−ビスマス(Bi)のうち少なくとも一つを含む、請求項1から5のいずれか一項に記載のインダクタ。
- 前記本体は絶縁材料からなる、請求項1に記載のインダクタ。
- 前記絶縁材料は、感光性樹脂、エポキシ系、アクリル系、ポリイミド系、フェノール系、及びスルホン系のうち少なくとも一つである、請求項7に記載のインダクタ。
- 基板上にコイルパターンを形成する段階と、
前記基板上に前記コイルパターンを覆うように絶縁層を形成する段階と、
前記絶縁層に、前記絶縁層の一面から前記コイルパターンまで延長するように貫通孔を形成する段階と、
前記貫通孔の内部にめっきにより第1導電層を形成する段階と、
前記第1導電層の上部にめっきにより第2導電層を形成して、第1及び第2導電層を含むビアを形成する段階と、
前記基板と、前記コイルパターンならびに前記第1及び第2導電層を含む前記絶縁層とを分離する段階と、
前記分離した複数の絶縁層を積層して本体を形成する段階と、を含み、
前記コイルパターンの一部を前記ビアで接続し、且つ前記ビアで接続されたコイルパターン間の距離を他のコイルパターン間の距離よりも大きくする、インダクタの製造方法。 - 前記第1導電層は、前記コイルパターン間の距離に対して0.7〜1.0の割合の厚さを有する、請求項9に記載のインダクタの製造方法。
- 前記第2導電層の厚さは3.0〜7.0μmである、請求項9または10に記載のインダクタの製造方法。
- 前記第2導電層は、前記第1導電層よりも硬度が低い金属を含む、請求項9から11のいずれか一項に記載のインダクタの製造方法。
- 前記第1導電層と前記第2導電層は互いに異なる組成を有し、前記第1導電層は、銀(Ag)、銅(Cu)、及びビスマス(Bi)のうち少なくとも一つを含む、請求項9から12のいずれか一項に記載のインダクタの製造方法。
- 前記第1導電層と前記第2導電層は互いに異なる組成を有し、前記第2導電層は、スズ(Sn)、スズ(Sn)−銀(Ag)、スズ(Sn)−銅(Cu)、及びスズ(Sn)−ビスマス(Bi)のうち少なくとも一つを含む、請求項9から13のいずれか一項に記載のインダクタの製造方法。
- 前記絶縁層は、感光性樹脂、エポキシ系、アクリル系、ポリイミド系、フェノール系、及びスルホン系のうち少なくとも一つである、請求項9から14のいずれか一項に記載のインダクタの製造方法。
- 前記絶縁層が前記感光性樹脂からなる場合、前記貫通孔はフォトレジスト法で形成される、請求項15に記載のインダクタの製造方法。
- 複数のコイルパターンがビアで接続されて形成されたコイルを内部に配置した本体を含み、
前記ビアは、第1導電層と、前記第1導電層上に形成される第2導電層と、を含み、
前記第2導電層は第1導電層よりも硬度が低い金属を含む、インダクタ。 - 前記第1導電層は、前記複数のコイルパターン間の距離に対して0.7〜1.0の割合の厚さを有する、請求項17に記載のインダクタ。
- 前記ビアで接続されたコイルパターン間の距離が他のコイルパターン間の距離よりもさらに大きくなるように前記ビアで接続されたコイルパターン間の距離が変化する、請求項17または18に記載のインダクタ。
- 前記第2導電層の厚さは3.0〜7.0μmである、請求項17から19のいずれか一項に記載のインダクタ。
- 第1絶縁層の内部に配置された第1導電性コイルパターンが露出するように第1絶縁層を貫通する貫通孔を形成し、前記貫通孔の内部にビアを形成する段階を含み、
前記ビアを形成する段階は、
前記露出している第1導電性コイルパターン上に直接形成し、且つ前記貫通孔の内部に第1導電層を形成する段階と、
前記第1導電層の上部に形成し、且つ前記貫通孔の内部に第2導電層を形成する段階と、を含み、
前記第2導電層は、第1導電層よりも硬度が低い物質で形成し、且つ貫通孔の上面を超えて形成し、
インダクタコイルを形成するために、第2導電性コイルパターンが第2絶縁層と接するように内部に前記第2導電性コイルパターンを有する前記第2絶縁層を前記第1絶縁層上に積層する段階を含む、インダクタの製造方法。 - 前記第1絶縁層上に前記第2導電性コイルパターンを含む前記第2絶縁層を積層する段階は、前記第2導電層を1%〜20%程度圧着する段階を含む、請求項21に記載のインダクタの製造方法。
- 前記第1導電層を形成する段階は、前記第1導電層を前記貫通孔の深さの70〜100%の厚さで形成する、請求項21または22に記載のインダクタの製造方法。
- 前記第2導電層を形成する段階は、前記第2導電層の厚さが3.0〜7.0μmとなるように形成する段階を含む、請求項23に記載のインダクタの製造方法。
- 前記第1導電層を形成する段階は、前記第1導電層を、銀(Ag)、銅(Cu)、及びビスマス(Bi)のうち少なくとも一つを用いて電解めっき法により形成し、
前記第2導電層を形成する段階は、前記第2導電層を、スズ(Sn)、スズ(Sn)−銀(Ag)、スズ(Sn)−銅(Cu)、及びスズ(Sn)−ビスマス(Bi)のうち少なくとも一つを用いて電解めっき法により形成する、請求項21から24のいずれか一項に記載のインダクタの製造方法。 - 前記第2導電層を形成する段階は、前記第2導電層を、前記貫通孔の上面を越えて形成し、前記第2導電層の上面がラウンド形状の扇形を有するように形成する段階を含む、請求項21から25のいずれか一項に記載のインダクタの製造方法。
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US10811182B2 (en) * | 2016-10-28 | 2020-10-20 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Inductor and method of manufacturing the same |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003037366A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-02-07 | Ibiden Co Ltd | 積層配線板およびその製造方法 |
JP2004296497A (ja) * | 2003-03-25 | 2004-10-21 | Seiko Epson Corp | 端子電極、半導体装置、半導体モジュール、電子機器、端子電極の製造方法および半導体装置の製造方法 |
JP2005183952A (ja) * | 2003-12-18 | 2005-07-07 | Endicott Interconnect Technologies Inc | 導電孔を有したプリント回路ボードの製造方法及びボード |
JP2005191408A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | コイル導電体とその製造方法およびこれを用いた電子部品 |
WO2010007858A1 (ja) * | 2008-07-15 | 2010-01-21 | 株式会社村田製作所 | 電子部品 |
JP2015041693A (ja) * | 2013-08-21 | 2015-03-02 | 日立化成株式会社 | 多層配線基板およびその製造方法ならびに積層コイル部品 |
JP2015070175A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 大日本印刷株式会社 | 配線層の接続構造体 |
JP2016225611A (ja) * | 2015-05-27 | 2016-12-28 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | チップインダクター |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4592891B2 (ja) | 1999-11-26 | 2010-12-08 | イビデン株式会社 | 多層回路基板および半導体装置 |
JP2001345212A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Tdk Corp | 積層電子部品 |
JP2003168865A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Kyocera Corp | 配線基板およびこれを用いた電子装置 |
JP2004063619A (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-26 | Renesas Technology Corp | 配線構造 |
US7436281B2 (en) * | 2004-07-30 | 2008-10-14 | Texas Instruments Incorporated | Method to improve inductance with a high-permeability slotted plate core in an integrated circuit |
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JP2009277972A (ja) * | 2008-05-16 | 2009-11-26 | Panasonic Corp | コイル部品およびその製造方法 |
JP4582196B2 (ja) * | 2008-05-29 | 2010-11-17 | Tdk株式会社 | インダクタ部品の実装構造 |
JP2013145869A (ja) * | 2011-12-15 | 2013-07-25 | Taiyo Yuden Co Ltd | 積層電子部品及びその製造方法 |
JP5761248B2 (ja) * | 2013-04-11 | 2015-08-12 | 株式会社村田製作所 | 電子部品 |
JP6564614B2 (ja) * | 2014-05-22 | 2019-08-21 | 新光電気工業株式会社 | インダクタ及びインダクタの製造方法 |
JP6381432B2 (ja) * | 2014-05-22 | 2018-08-29 | 新光電気工業株式会社 | インダクタ、コイル基板及びコイル基板の製造方法 |
US10395810B2 (en) | 2015-05-19 | 2019-08-27 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Inductor |
US10147533B2 (en) * | 2015-05-27 | 2018-12-04 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Inductor |
US11024454B2 (en) * | 2015-10-16 | 2021-06-01 | Qualcomm Incorporated | High performance inductors |
KR101883046B1 (ko) * | 2016-04-15 | 2018-08-24 | 삼성전기주식회사 | 코일 전자 부품 |
-
2017
- 2017-04-12 KR KR1020170047310A patent/KR101942732B1/ko active IP Right Grant
- 2017-09-25 JP JP2017184157A patent/JP6537079B2/ja active Active
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-
2019
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003037366A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-02-07 | Ibiden Co Ltd | 積層配線板およびその製造方法 |
JP2004296497A (ja) * | 2003-03-25 | 2004-10-21 | Seiko Epson Corp | 端子電極、半導体装置、半導体モジュール、電子機器、端子電極の製造方法および半導体装置の製造方法 |
JP2005183952A (ja) * | 2003-12-18 | 2005-07-07 | Endicott Interconnect Technologies Inc | 導電孔を有したプリント回路ボードの製造方法及びボード |
JP2005191408A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | コイル導電体とその製造方法およびこれを用いた電子部品 |
WO2010007858A1 (ja) * | 2008-07-15 | 2010-01-21 | 株式会社村田製作所 | 電子部品 |
JP2015041693A (ja) * | 2013-08-21 | 2015-03-02 | 日立化成株式会社 | 多層配線基板およびその製造方法ならびに積層コイル部品 |
JP2015070175A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 大日本印刷株式会社 | 配線層の接続構造体 |
JP2016225611A (ja) * | 2015-05-27 | 2016-12-28 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | チップインダクター |
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