JP2018163335A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2018163335A5
JP2018163335A5 JP2018026667A JP2018026667A JP2018163335A5 JP 2018163335 A5 JP2018163335 A5 JP 2018163335A5 JP 2018026667 A JP2018026667 A JP 2018026667A JP 2018026667 A JP2018026667 A JP 2018026667A JP 2018163335 A5 JP2018163335 A5 JP 2018163335A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
phase shift
transfer
photomask
shielding rim
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018026667A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7080070B2 (ja
JP2018163335A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2018163335A publication Critical patent/JP2018163335A/ja
Publication of JP2018163335A5 publication Critical patent/JP2018163335A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7080070B2 publication Critical patent/JP7080070B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2018026667A 2017-03-24 2018-02-19 フォトマスク、及び表示装置の製造方法 Active JP7080070B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017059685 2017-03-24
JP2017059685 2017-03-24

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018163335A JP2018163335A (ja) 2018-10-18
JP2018163335A5 true JP2018163335A5 (enExample) 2021-03-11
JP7080070B2 JP7080070B2 (ja) 2022-06-03

Family

ID=63706266

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018026667A Active JP7080070B2 (ja) 2017-03-24 2018-02-19 フォトマスク、及び表示装置の製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7080070B2 (enExample)
KR (1) KR102638753B1 (enExample)
CN (1) CN108628089B (enExample)
TW (2) TWI758694B (enExample)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7383490B2 (ja) 2020-01-07 2023-11-20 株式会社エスケーエレクトロニクス フォトマスク
KR102360105B1 (ko) * 2020-12-29 2022-02-14 주식회사 포커스비전 영상 블러를 이용한 3차원 영상 생성방법
JP7743282B2 (ja) * 2021-11-10 2025-09-24 株式会社エスケーエレクトロニクス フォトマスクブランクスの製造方法及びフォトマスクの製造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001296647A (ja) * 2000-02-10 2001-10-26 Nec Corp フォトマスクおよびこれを用いた露光方法
KR100626937B1 (ko) * 2001-12-26 2006-09-20 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 패턴형성방법
JP3759914B2 (ja) * 2002-04-30 2006-03-29 松下電器産業株式会社 フォトマスク及びそれを用いたパターン形成方法
JP2005107082A (ja) * 2003-09-30 2005-04-21 Sanyo Electric Co Ltd 位相シフトマスクおよびパターン形成方法
US8134685B2 (en) * 2007-03-23 2012-03-13 Nikon Corporation Liquid recovery system, immersion exposure apparatus, immersion exposing method, and device fabricating method
JP5054766B2 (ja) * 2007-04-27 2012-10-24 Ｈｏｙａ株式会社 フォトマスクブランク及びフォトマスク
JP6127977B2 (ja) * 2011-10-21 2017-05-17 大日本印刷株式会社 大型位相シフトマスクおよび大型位相シフトマスクの製造方法
JP5605917B2 (ja) * 2011-12-27 2014-10-15 Ｈｏｙａ株式会社 フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法
JP6139826B2 (ja) * 2012-05-02 2017-05-31 Hoya株式会社 フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法
JP6093117B2 (ja) * 2012-06-01 2017-03-08 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクの製造方法及びパターンの転写方法
JP6063650B2 (ja) * 2012-06-18 2017-01-18 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法
JP6106579B2 (ja) * 2013-11-25 2017-04-05 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法、フォトマスク及びパターン転写方法
JP6581759B2 (ja) * 2014-07-17 2019-09-25 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクの製造方法、フォトマスクブランク及び表示装置の製造方法
JP6335735B2 (ja) * 2014-09-29 2018-05-30 Hoya株式会社 フォトマスク及び表示装置の製造方法
JP6391495B2 (ja) * 2015-02-23 2018-09-19 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクセット、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
WO2016152212A1 (ja) * 2015-03-24 2016-09-29 Hoya株式会社 マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法
JP6767735B2 (ja) * 2015-06-30 2020-10-14 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクの設計方法、フォトマスクブランク、および表示装置の製造方法
JP6266842B2 (ja) * 2015-08-31 2018-01-24 Hoya株式会社 マスクブランク、マスクブランクの製造方法、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法
JP6322250B2 (ja) * 2016-10-05 2018-05-09 Hoya株式会社 フォトマスクブランク

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2019053288A5 (ja) フォトマスク及び表示装置の製造方法
TWI250377B (en) Exposure mask and mask pattern production method
JP2009042753A5 (enExample)
TWI694302B (zh) 光罩及顯示裝置之製造方法
JP2011215197A5 (enExample)
TW200426495A (en) Exposing mask, production method therefor and exposing method
JP2018163335A5 (enExample)
KR102168149B1 (ko) 포토마스크, 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크 블랭크 및 표시 장치의 제조 방법
SG10201804422VA (en) Photomask Blank and Making Method
JP2009058877A5 (enExample)
JP2015212720A5 (enExample)
JP2009239254A5 (enExample)
JP5185158B2 (ja) 多階調フォトマスクの評価方法
US20150253680A1 (en) Method of calculating amount of aberration and method of calculating amount of misalignment
JP2020187333A5 (enExample)
TW201245812A (en) Method of manufacturing a photomask, pattern transfer method and method of manufacturing a display device
KR100659782B1 (ko) 노광방법 및 하프톤형 위상 시프트 마스크
TWI597561B (zh) 圖案產生方法、遮罩的製造方法、曝光方法、半導體設備的製造方法、儲存媒體、以及資訊處理裝置
TW201910912A (zh) 光罩之檢查方法、光罩之製造方法、及光罩檢查裝置
JP2014089473A5 (ja) フォトマスク及びフラットパネルディスプレイの製造方法
CN106324977B (zh) 光掩模、光掩模的设计方法、光掩模坯料和显示装置的制造方法
CN111324016B (zh) 曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法
JP6370755B2 (ja) マスク及びパターン形成方法
JP2016021521A (ja) 露光方法及び露光装置
US8021802B2 (en) Phase shift mask for double patterning and method for exposing wafer using the same