JP2018125481A - 搬送機構 - Google Patents

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Abstract

【課題】チャックテーブルに対してウェーハの位置合わせ精度を下げることなく、効率的に搬送して加工スループットを改善すること。【解決手段】ウェーハ(W)をチャックテーブル上に搬送する搬送機構(51)であり、ウェーハの外周部を保持する複数の爪部材(65)と、複数の爪部材をウェーハの外周部に離接させる爪部材作動手段(68)と、爪部材作動手段の駆動負荷を検出する駆動負荷検出手段(71)と、ウェーハの外周部に対する爪部材の当接位置を検出する位置検出手段(72)と、爪部材作動手段の駆動を制御する制御手段(75)とを備え、制御手段が、爪部材作動手段の駆動負荷の上昇から爪部材とウェーハの外周部の当接を検出し、複数の爪部材を停止させると共に各爪部材の当接位置をウェーハの外周部の外周位置としてウェーハの中心を算出する構成にした。【選択図】図3

Description

本発明は、ウェーハの外周部を保持して搬送する搬送機構に関する。
近年、電気機器の薄型化や小型化に伴い、ウェーハを100μm以下の薄さに研削仕上げすることが要求されている。従来、ウェーハには製造工程中の割れや発塵防止のために、ウェーハの外周に面取り加工が施されている。このため、ウェーハを薄く研削すると、外周の面取り部分がナイフエッジ(ひさし状)に形成される。ウェーハの面取り部分がナイフエッジ状になると、外周から欠けが生じてウェーハが破損するという問題が生じる。この問題を解決するために、予めウェーハの面取り部分を切削ブレードで周方向に除去した後に、ウェーハの裏面を研削する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
また、切削ブレードでウェーハの外周部を周方向に除去する際に、ウェーハの中心とチャックテーブルの回転中心とが一致しないと、ウェーハの外周部の除去幅が一定にならない。そこで、チャックテーブルに対するウェーハの位置ズレを補正しながら切削する方法が採用されている(例えば、特許文献2参照)。この方法では、チャックテーブル上のウェーハの外周エッジの3点が撮像され、3点の座標位置から算出されたウェーハの中心とチャックテーブルの回転中心とのズレ量が求められる。このズレ量を補正するように切削ブレードが移動され、ウェーハの中心から同一の距離で面取り部が周方向に切削される。
特開2000−173961号公報 特開2006−093333号公報
しかしながら、特許文献2に記載の方法では、チャックテーブル上でウェーハの外周エッジを検出して、ウェーハとチャックテーブルのズレ量を算出するのに長い時間を要し、加工スループットが悪くなるという問題があった。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、チャックテーブルに対してウェーハの位置合わせ精度を下げることなく、効率的に搬送して加工スループットを改善することができる搬送機構を提供することを目的の1つとする。
本発明の一態様の搬送機構は、ウェーハの外周部を保持する保持手段と、該保持手段を鉛直方向及び水平方向に移動させる移動手段と、を備えウェーハをチャックテーブル上に搬送する搬送機構であって、該保持手段は、ウェーハの外周部を保持する複数の爪部材と、該複数の爪部材をウェーハの外周部から離間した待機位置と該複数の爪部材を互いに半径方向に接近しウェーハの外周部を保持する作用位置との間で該複数の爪部材をそれぞれ独立して半径方向に作動させる爪部材作動手段と、該爪部材作動手段の駆動負荷をそれぞれ検出する駆動負荷検出手段と、各該爪部材の位置をそれぞれ検出する位置検出手段と、少なくとも該爪部材作動手段を制御する制御手段と、を備え、該制御手段は、各該爪部材がウェーハの外周部に当接した際の該爪部材作動手段の駆動負荷の値を閾値として記憶する記憶部と、該駆動負荷検出手段からの該閾値を超えた駆動負荷を検出すると停止され該位置検出手段により検出された各該爪部材の位置からウェーハ中心位置を算出する算出部とを備え、該保持手段で保持されたウェーハは、該算出部で算出された該ウェーハ中心位置をチャックテーブル中心位置に位置付けて該チャックテーブル上に載置されること、を特徴とする。
この構成によれば、ウェーハの外周部に当接したときの駆動負荷から複数の爪部材の位置が検出され、各爪部材の位置をウェーハの外周位置としてウェーハ中心位置が算出される。そして、ウェーハ中心位置をチャックテーブル中心位置に位置付けるようにして、チャックテーブル上にウェーハが載置される。ウェーハの搬送時間を利用してウェーハ中心位置の算出処理が実施されるため、位置合わせ精度を下げることなくチャックテーブルに対してウェーハを効率的に搬送することができる。また、チャックテーブル上ではウェーハの中心基準で加工を開始できるため、チャックテーブルに対するウェーハの置き直し等を無くして加工スループットを改善することができる。
本発明によれば、ウェーハを搬送しながらウェーハ中心位置を算出するため、位置合わせ精度を下げることなくチャックテーブルに対してウェーハを効率的に搬送して、加工スループットを改善することができる。
本実施の形態の加工装置の上面模式図である。 本実施の形態の搬送機構の側面模式図である。 本実施の形態の搬送機構の搬送動作の一例を示す図である。 本実施の形態の切削機構の切削動作の一例を示す図である。
以下、添付図面を参照して、本実施の形態の搬送機構を備えた加工装置について説明する。図1は、本実施の形態の加工装置の上面模式図である。なお、以下の説明では、ウェーハの外周部をトリミング加工する加工装置に、本発明の搬送機構を適用する構成について説明するが、この構成に限定されない。また、搬送機構は、研削装置やレーザー加工装置等の他の加工装置に用いられてもよい。
図1に示すように、加工装置1は、フルオートタイプの加工装置であり、円板状のウェーハWに対する搬入処理、切削処理、洗浄処理、搬出処理からなる一連の作業を全自動で実施するように構成されている。ウェーハWの外周エッジには、製造工程中における割れや発塵防止のための面取り部88(図2参照)が形成されている。また、ウェーハWの外周部には結晶方位を示すノッチ89が形成されている。なお、ウェーハWは、半導体基板に半導体デバイスが形成された半導体ウェーハでもよいし、無機材料基板に光デバイスが形成された光デバイスウェーハでもよい。
加工装置1には、装置前方に搬入エリアA1、装置奥方に加工エリアA2、搬入エリアA1及び加工エリアA2に隣接して洗浄エリアA3が設定されている。また、加工装置1の前面12には、搬入エリアA1から前方に突出するように、一対のカセットステージ13、14が設けられている。カセットステージ13には、加工前のウェーハWが収容された搬入用カセットC1が載置される。カセットステージ14には、加工後のウェーハWが収容される搬出用カセットC2が載置される。カセットステージ13は加工装置1の搬入口として機能し、カセットステージ14は加工装置1の搬出口として機能する。
搬入エリアA1には、搬入用カセットC1及び搬出用カセットC2に対してウェーハWを出し入れする多関節ロボット21が設けられている。多関節ロボット21は、リニアモータ式の移動機構24のスライドヘッドにロボットアーム22を取り付け、ロボットアーム22の先端にハンド部23を装着して構成されている。多関節ロボット21は、移動機構24によってX軸方向に移動されると共に、ロボットアーム22の各関節の回転がサーボモータ等で制御されることで、搬入用カセットC1及び搬出用カセットC2に対してハンド部23が所望の位置や姿勢に調整される。
加工エリアA2には、加工前のウェーハWが仮置きされるポジションテーブル26と、チャックテーブル31上でウェーハW表面の外周部を切削する切削機構41とが設けられている。ポジションテーブル26には複数の載置ピン27が突設されており、ウェーハWの外周部が複数の載置ピン27に下方から支持されることで、テーブルから浮いた状態でウェーハWが位置決めされる。ポジションテーブル26の奥方には、ウェーハWの搬入位置と切削位置との間でX軸方向に往復移動するチャックテーブル31が設けられている。基台11上には、このチャックテーブル31の移動軌跡に沿ってX軸方向に延在する開口部17が形成されている。
開口部17は、蛇腹状の防水カバー18に覆われており、防水カバー18の下方にはチャックテーブル31をX軸方向に往復移動させるボールネジ式のチャックテーブル移動機構(不図示)が設けられている。チャックテーブル31の表面には、多孔質材によってウェーハWを吸着する保持面32が形成されている。保持面32は、チャックテーブル31内の流路を通じて吸引源(不図示)に接続されており、保持面32に生じる負圧によってウェーハWが吸引保持される。また、チャックテーブル31は、回転機構(不図示)によりZ軸回りに回転可能に構成されている。
切削機構41は、一対のブレードユニット42を交互に用いて、チャックテーブル31上のウェーハWの外周部を切削するように構成されている。切削機構41は、開口部17を跨ぐように基台11上に立設された門型の柱部43を有している。柱部43の表面には、一対のブレードユニット42を移動させるボールネジ式のブレードユニット移動機構44が設けられている。ブレードユニット移動機構44は、Y軸方向に移動する一対のY軸テーブル45と、各Y軸テーブル45に対してZ軸方向に移動されるZ軸テーブル46とを有している。ブレードユニット42は、Y軸テーブル45及びZ軸テーブル46によりY軸方向及びZ軸方向に移動される。
ブレードユニット42は、スピンドル47の先端に円板状の切削ブレード48を装着して構成されている。高速回転した切削ブレード48でチャックテーブル31上のウェーハWの面取り部88(図2参照)が切り込まれた状態で、チャックテーブル31を回転させることで、ウェーハWの面取り部88が全周に亘ってトリミング加工される。ウェーハWの外周部から面取り部88が除去されることで、後段の研削工程でウェーハWが裏面側から仕上げ厚さまで研削されても、研削後に残った面取り部88によってウェーハWの外周部がナイフエッジ状に形成されることがない。
加工エリアA2においては、エッジクランプ式の搬送機構51によってチャックテーブル31上にウェーハWが搬入され、エッジクランプ式の搬送機構54によってチャックテーブル31からウェーハWが搬出される。この場合、搬送機構51によってポジションテーブル26から加工前のウェーハWがピックアップされ、リニアモータ式の移動機構53によりウェーハWがチャックテーブル31に搬送される。また、搬送機構54によってチャックテーブル31上から加工後のウェーハWがピックアップされ、搬送機構54の基端部を中心とした旋回移動によって洗浄エリアA3にウェーハWが搬送される。
洗浄エリアA3には、ウェーハWの裏面を洗浄する裏面洗浄機構81と、ウェーハWの表面を洗浄する表面洗浄機構82とが設けられている。裏面洗浄機構81では、複数の載置ピン83上にウェーハWの外周部が支持された状態で、ウェーハWの裏面に洗浄水が噴射されて回転ブラシ84によって裏面洗浄される。裏面洗浄後のウェーハWは、エッジクランプ式の搬送機構57によって裏面洗浄機構81からピックアップされ、リニアモータ式の移動機構58により表面洗浄機構82に搬送される。表面洗浄機構82では、スピンナーテーブル85の複数のクランプ部86でウェーハWの外周部が保持された状態で、ウェーハWに洗浄水が噴射されて表面洗浄された後、乾燥エアが吹き付けられて乾燥される。
表面洗浄後のウェーハWは、多関節ロボット21によってスピンナーテーブル85からピックアップされ、搬出用カセットC2に向けて搬送される。このように構成された加工装置1では、ポジションテーブル26とチャックテーブル31の間、チャックテーブル31と裏面洗浄機構81との間、裏面洗浄機構81と表面洗浄機構82との間で、それぞれエッジクランプ式の搬送機構51、54、57によってウェーハWが搬送される。この場合、各搬送機構51、54、57の3つの爪部材65(図2参照)がウェーハWの外周部側面に対して適切な位置まで近づけられてウェーハWの外周部が保持される。
ところで、ポジションテーブル26の載置ピン27上にウェーハWが所定の精度で位置決めされているが、ポジションテーブル26の中心にウェーハWの中心を確実に合わせることは難しい。したがって、ポジションテーブル26からチャックテーブル31に載置する際に、ウェーハWの中心がチャックテーブル31の中心に対して位置ズレする場合がある。このため、チャックテーブル31上のウェーハWの撮像画像から中心位置を求めて、チャックテーブル31にウェーハWを載置し直すことも考えられるが、ウェーハWの中心位置の算出やウェーハWの載せ直しに時間を要するため加工スループットが悪化する。
また、センタリング機能付きの搬送機構によって搬送しながらセンタリングして加工スループットを向上させる構成も考えられる。しかしながら、貼り合せウェーハや樹脂でモールドしたウェーハは、1枚毎に外径や外縁形状にバラツキが生じて中心位置から外周部までの距離が一定ではなく、ウェーハWの外周部に爪部材が押し付けられて破損するおそれがある。そこで、本実施の形態の搬送機構51、54、57では、駆動負荷の変化から複数の爪部材がウェーハWの外周部に当接する位置に各爪部材を停止させ、この当接位置をウェーハWの外周位置として、中心位置を算出しながらウェーハWを搬送するようにしている。
以下、図2を参照して、搬送機構の詳細構成について説明する。図2は、本実施の形態の搬送機構の側面模式図である。なお、搬送機構は、図2に示す構成に限定されない。搬送機構は、ウェーハの外周部を保持したときの爪部材の位置をウェーハの外周位置として中心位置を算出することが可能であれば、どのように構成されてもよい。ここでは、ポジションテーブルとチャックテーブルの間でウェーハを搬送する搬送機構について説明する。なお、チャックテーブルと裏面洗浄機構との間、裏面洗浄機構と表面洗浄機構との間で、ウェーハを搬送する搬送機構についても同様な構成にしてもよい。
図2に示すように、搬送機構51は、ウェーハWの外周部を保持するエッジクランプ式の保持手段52を有しており、保持手段52の3つの爪部材65によってウェーハWの外周部を保持するように構成されている。保持手段52は、搬送アーム55の先端側に支持部61を介して支持されており、支持部61によって鉛直方向に移動され、リニアモータ式の移動機構53(図1参照)によって水平方向に移動される。このように、本実施の形態では、支持部61とリニアモータ式の移動機構53によって、保持手段52を鉛直方向及び水平方向に移動させる移動手段が構成されている。
保持手段52のベースプレート62上には、三方に延びる長尺状のガイド63が設けられ、各ガイド63上には可動ブロック64がスライド可能に設置されている。各可動ブロック64にはそれぞれ爪部材65が取り付けられており、爪部材65は爪先66を支持部61側に向けた断面視略L字状に形成されている。また、可動ブロック64は送りねじ67が螺合されており、送りねじ67の一端にはベースプレート62の径方向内側の爪部材作動手段68に連結され、送りねじ67の他端にはベースプレート62の径方向外側で支持壁69に支持されている。このように、ベースプレート62上には、爪部材65毎に送りねじ式の移動機構が設けられている。
爪部材作動手段68は、いわゆるサーボモータで構成されており、爪部材65の現在位置、現在速度、駆動負荷(トルク)が後述する制御手段75に出力されてサーボ制御される。爪部材作動手段68によって送りねじ67が回転され、可動ブロック64がガイド63にガイドされながら可動される。このとき、各可動ブロック64に設けた各爪部材65は、ウェーハWの外周部から離間した待機位置と、互いに半径方向で接近してウェーハWの外周部を保持する作用位置との間でそれぞれ半径方向に独立して移動される。各可動ブロック64が接近して爪部材65の爪先66にウェーハWが載せられることで、ウェーハWの外周部が保持手段52に保持される。
爪部材作動手段68には、それぞれ爪部材65を駆動する際の駆動負荷を検出する駆動負荷検出手段71が設けられている。駆動負荷検出手段71は、例えばサーボモータの専用ドライバのトルク検出機能で構成され、爪部材65とウェーハWの外周部の接触による駆動負荷の増加を検出している。また、爪部材65の移動位置は、それぞれ位置検出手段72によって検出されている。位置検出手段72は、例えばリニアスケールであり、可動ブロック64に設けた読取部73でガイド63に沿ったスケール74の目盛を読み取ることで、爪部材65の移動位置を検出している。駆動負荷検出手段71及び位置検出手段72の出力結果は制御手段75に出力される。
制御手段75は、爪部材作動手段68、駆動負荷検出手段71、位置検出手段72からの各種情報から爪部材65の移動を制御している。また、制御手段75は、各種処理を実行するプロセッサやメモリ等によって構成されている。メモリは、用途に応じてROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等の一つ又は複数の記憶媒体で構成されている。メモリには、爪部材作動手段68のサーボ制御のプログラムに加えて、ウェーハWの中心位置の算出プログラムが記憶されている。なお、位置検出手段72は、リニアスケールの代わりに、爪部材作動手段68に設けたエンコーダで構成されてもよい。
また、制御手段75には、ウェーハWの外周部に対する爪部材65の当接を判定する閾値を記憶する記憶部76と、爪部材65の当接位置からウェーハWの中心位置を算出する算出部77とが設けられている。記憶部76には、事前に爪部材65がウェーハWの外周部に当接した際の爪部材作動手段68の駆動負荷の値が閾値として記憶されている。算出部77には、閾値を超えた駆動負荷が駆動負荷検出手段71から検出されたときに、位置検出手段72で検出された爪部材65の位置が入力される。また、制御手段75によって爪部材65の移動が停止されて、ウェーハWの外周部に対する爪部材65の押し込みが防止される。
より詳細には、各爪部材65はウェーハWの外周部を押し込むことなく、各爪部材65がウェーハWの外周部に接触したタイミングで停止されている。したがって、各爪部材65によってウェーハWはセンタリングされておらず、保持手段52に対してウェーハWの中心が位置ズレした状態で保持されている。ウェーハWの中心から外周までの距離にバラツキが生じていても、ウェーハWのバラツキに応じて適切な位置に爪部材65が停止されるため、ウェーハWが爪部材65に過度に押し込まれることがなく、ウェーハWの破損が確実に防止される。
そして、算出部77では、位置検出手段72で検出された爪部材65の位置からウェーハWの中心位置が算出される。具体的には、3つの爪部材65の爪先66の当接位置がウェーハWの外周部の3点として、保持手段52に設定された平面座標系に設定される。そして、ウェーハWの外周部の3点の座標のうち、2点の座標を結ぶ各弦の垂直二等分線の交点からウェーハWの中心位置が算出される。なお、ウェーハWの外周部の3点の座標のうち、少なくとも2点を通るウェーハWの外周部に対する法線の交点からウェーハWの中心位置が算出されてもよい。
ウェーハWの中心位置が算出されると、ウェーハWの中心位置をチャックテーブル31(図4A参照)の中心位置に位置付けるように、ウェーハWがチャックテーブル31上に載置される。ウェーハWの搬送中に中心位置が算出されるため、チャックテーブル31に対してウェーハWを効率的に搬送することができる。また、チャックテーブル31の回転中心にウェーハWの中心が一致するため、算出部77で算出されたウェーハWの中心位置に基づいて、エッジアライメントをすることなくウェーハWの面取り部88に切削ブレード48(図4B参照)を精度よく位置付けることができる。
続いて、図3及び図4を参照して、搬送機構の搬送動作及び切削機構の切削動作について説明する。図3は、本実施の形態の搬送機構の搬送動作の一例を示す図である。図4は、本実施の形態の切削機構の切削動作の一例を示す図である。なお、図3では、ポジションテーブルとチャックテーブルの間の搬送動作について説明するが、チャックテーブルと裏面洗浄機構との間、裏面洗浄機構と表面洗浄機構との間の搬送機構による搬送動作も同様である。
図3Aに示すように、ポジションテーブル26の載置ピン27上にウェーハWが載置されており、ポジションテーブル26の上方に保持手段52が位置付けられる。このとき、載置ピン27にウェーハWが下方から支持されることで、ポジションテーブル26とウェーハWとテーブルに隙間が空けられている。また、保持手段52の各爪部材65がそれぞれ待機位置に位置付けられ、各爪部材65の爪先66がウェーハWの外周部よりも径方向外側に離間されている。また、ポジションテーブル26の中心に保持手段52の中心が位置付けられた状態で、保持手段52が下降されてポジションテーブル26に近づけられる。
図3Bに示すように、保持手段52の下降によって各爪部材65の爪先66がウェーハWの下側に位置付けられると、各爪部材作動手段68によって各爪部材65がウェーハWに向かって個別に移動される。このとき、爪部材作動手段68の駆動負荷が駆動負荷検出手段71によって検出されており、駆動負荷検出手段71の検出結果が制御手段75に出力されて駆動負荷の変化が監視されている。駆動負荷検出手段71の検出結果が記憶部76に記憶された閾値を超えると、爪部材65の爪先66がウェーハWの外周部に当接する作用位置まで移動したと判定されて爪部材作動手段68が停止される。
この作用位置では、複数の爪部材65の爪先66がウェーハWの外周部の下側に入り込み、ウェーハWの外周部裏面が各爪部材65によって下側から支持される。爪部材65の爪先66の上面が、先端に向かって低くなるように傾斜しているため、爪先66の斜面にウェーハWの外周部が当たることでウェーハWの破損が防止されている。また、複数の爪部材65がウェーハWの外周部に対して個別に近づけられるため、ウェーハWの外径の大きさやバラツキに依らずに、ウェーハWの外周部に対して各爪部材65を適切な位置に調整することができる。
図3Cに示すように、各爪部材65が作用位置に位置付けられると、各爪部材65の爪先66にウェーハWの外周部が引っ掛けられて、ウェーハWの外周部が保持手段52に保持される。ウェーハWは、保持手段52によって保持された状態でポジションテーブル26の載置ピン27から持ち上げられて、チャックテーブル31(図4A参照)に向けて搬送される。また、爪部材65の爪先66の当接位置がウェーハWの外周部の3点として、保持手段52の平面座標系に設定される。そして、ウェーハWがチャックテーブル31まで搬送される間に、算出部77によってウェーハWの外周部の3点の座標からウェーハWの中心位置が算出される。
図4Aに示すように、チャックテーブル31の上方に保持手段52が位置付けられると、チャックテーブル31の中心位置に保持手段52に保持されたウェーハWの中心位置が位置付けられる。そして、保持手段52が真下に下降することで、各爪部材65の爪先66に載せられたウェーハWがチャックテーブル31の保持面32に載せ替えられる。このように、爪部材作動手段68の駆動負荷の上昇から爪部材65の位置情報、すなわちウェーハWの外周部の座標を検出するようにしたので、搬送中にウェーハWの中心位置を算出することができる。よって、部品点数を低減できると共に作業時間を短縮することができる。
図4Bに示すように、チャックテーブル31にウェーハWが保持されると、ウェーハWの外周の面取り部88に切削ブレード48が位置合わせされる。切削ブレード48によってウェーハWの外周部が切り込まれると、チャックテーブル31が回転されてウェーハWの外周部が全周に亘って切削される。このとき、チャックテーブル31とウェーハWの中心が一致するため、この中心を基準に切削ブレード48を位置付けることができる。よって、エッジアライメントすることなく、ウェーハWに対するトリミング加工を開始することができ、加工スループットが向上される。
以上のように、本実施の形態の搬送機構51によれば、ウェーハWの外周部に当接したときの駆動負荷から複数の爪部材65の位置が検出され、各爪部材65の位置をウェーハWの外周位置としてウェーハWの中心位置が算出される。そして、ウェーハWの中心位置がチャックテーブル31の中心位置に位置付けるようにして、チャックテーブル31上にウェーハWが載置される。ウェーハWの搬送時間を利用してウェーハWの中心位置の算出処理が実施されるため、位置合わせ精度を下げることなくチャックテーブル31に対してウェーハWを効率的に搬送することができる。また、チャックテーブル31上ではウェーハWの中心基準で加工を開始できるため、チャックテーブル31に対するウェーハWの置き直し等を無くして加工スループットを改善することができる。
なお、本実施の形態では、エッジトリミング装置の搬送機構について説明したが、この構成に限定されない。本発明の搬送機構は、ワークを加工する他の加工装置にも適用可能である。例えば、ワーク搬送を実施する加工装置であれば、切削装置、研削装置、研磨装置、レーザー加工装置、プラズマエッチング装置、及びこれらを組み合わせたクラスター装置等の他の加工装置の搬送機構に適用されてもよい。
また、加工対象のワークは、加工の種類に応じて、例えば、半導体デバイスウェーハ、光デバイスウェーハ、パッケージ基板、半導体基板、無機材料基板、酸化物ウェーハ、生セラミックス基板、圧電基板等の各種ワークが用いられてもよい。半導体デバイスウェーハとしては、デバイス形成後のシリコンウェーハや化合物半導体ウェーハが用いられてもよい。光デバイスウェーハとしては、デバイス形成後のサファイアウェーハやシリコンカーバイドウェーハが用いられてもよい。また、パッケージ基板としてはCSP(Chip Size Package)基板、半導体基板としてはシリコンやガリウム砒素等、無機材料基板としてはサファイア、セラミックス、ガラス等が用いられてもよい。さらに、酸化物ウェーハとしては、デバイス形成後又はデバイス形成前のリチウムタンタレート、リチウムナイオベートが用いられてもよい。
また、本実施の形態では、爪部材作動手段としてサーボモータを例示したが、この構成に限定されない。爪部材作動手段は、ウェーハの外周部から離間した待機位置とウェーハの外周部を保持する作用位置に爪部材を移動させる構成であればよく、他のアクチュエータで構成されていてもよい。また、駆動負荷検出手段は、サーボモータのドライバではなく、トルク検出器で実現されてもよい。
また、本実施の形態では、保持手段が3つの爪部材を有する構成にしたが、この構成に限定されない。保持手段は、ウェーハの外周部を保持する複数の爪部材を有していればよく、4つ以上の爪部材を有していてもよい。また、爪部材はウェーハを保持可能な形状であればよく、特に爪部材の形状は限定されない。
また、本実施の形態及び変形例を説明したが、本発明の他の実施の形態として、上記実施の形態及び変形例を全体的又は部分的に組み合わせたものでもよい。
また、本発明の実施の形態は上記の実施の形態及び変形例に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の趣旨を逸脱しない範囲において様々に変更、置換、変形されてもよい。さらには、技術の進歩又は派生する別技術によって、本発明の技術的思想を別の仕方で実現することができれば、その方法を用いて実施されてもよい。したがって、特許請求の範囲は、本発明の技術的思想の範囲内に含まれ得る全ての実施形態をカバーしている。
また、本実施の形態では、本発明をエッジトリミング装置の搬送機構に適用した構成について説明したが、搬送対象の中心位置を検出して搬送効率を向上できる他の装置の搬送機構に適用することも可能である。
以上説明したように、本発明は、チャックテーブルに対してウェーハの位置合わせ精度を下げることなく効率的に搬送して加工スループットを改善できるという効果を有し、特に、樹脂でモールドされたウェーハや貼り合せウェーハ等を搬送する搬送機構に有用である。
1 加工装置
26 ポジションテーブル
31 チャックテーブル
41 切削機構
48 切削ブレード
51 搬送機構
52 保持手段
53 移動機構(移動手段)
61 支持部(移動手段)
65 爪部材
68 爪部材作動手段
71 駆動負荷検出手段
72 位置検出手段
75 制御手段
76 記憶部
77 算出部
W ウェーハ

Claims (1)

  1. ウェーハの外周部を保持する保持手段と、該保持手段を鉛直方向及び水平方向に移動させる移動手段と、を備えウェーハをチャックテーブル上に搬送する搬送機構であって、
    該保持手段は、
    ウェーハの外周部を保持する複数の爪部材と、
    該複数の爪部材をウェーハの外周部から離間した待機位置と該複数の爪部材を互いに半径方向に接近しウェーハの外周部を保持する作用位置との間で該複数の爪部材をそれぞれ独立して半径方向に作動させる爪部材作動手段と、該爪部材作動手段の駆動負荷をそれぞれ検出する駆動負荷検出手段と、各該爪部材の位置をそれぞれ検出する位置検出手段と、少なくとも該爪部材作動手段を制御する制御手段と、を備え、
    該制御手段は、
    各該爪部材がウェーハの外周部に当接した際の該爪部材作動手段の駆動負荷の値を閾値として記憶する記憶部と、
    該駆動負荷検出手段からの該閾値を超えた駆動負荷を検出すると停止され該位置検出手段により検出された各該爪部材の位置からウェーハ中心位置を算出する算出部とを備え、
    該保持手段で保持されたウェーハは、該算出部で算出された該ウェーハ中心位置をチャックテーブル中心位置に位置付けて該チャックテーブル上に載置されること、を特徴とする搬送機構。
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