JP2018092899A - 中性子ビーム源生成装置、および、そのフィルター - Google Patents

中性子ビーム源生成装置、および、そのフィルター Download PDF

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Abstract

【課題】中性子ビーム源生成装置、および、そのフィルターを提供する。【解決手段】本発明による中性子ビーム源生成装置は、チャネルにより、ベリリウムターゲットに接続される加速器、フィルター、および、コリメータを有する。ベリリウムターゲットはチャネル末端に位置するとともに、フィルターに隣接する。フィルターはベリリウムターゲットとコリメータの間に位置する。チャネルとベリリウムターゲットの間に角度αを有し、角度αは0から90度の範囲である。チャネルとフィルター法線の間に角度βを有し、角度βは0から90度の範囲である。且つ、チャネルの断面は非円形である。【選択図】図1

Description

本発明は、中性子ビーム源生成装置、および、そのフィルターに関するものである。
ホウ素中性子捕捉療法(BNCT)の原理は以下のようである:ホウ素含有薬物は、血液循環により、がん細胞で優先的に蓄積し、さらに、中性子ビームを用いて、腫瘍組織に照射する。ホウ素が中性子を吸収後、高いLETα粒子とLiイオンを生成し、がん細胞を局所的に破壊して、その他の正常な組織を破壊しない。
患者にとって、BNCTは、極小の損傷しか生じず、且つ、外科手術と麻酔が必要ない。脳腫瘍の手術時、BNCTが、透過率が低い熱中性子(thermal neutron)を採用する場合、患者の頭蓋骨を開く必要がある;BNCTがエピサーマル中性子(epithermal neutron)を採用する場合、患者の頭蓋骨を開く必要がない。
現在、大部分のBNCTの中性子ビーム源生成装置は、研究用原子炉によるものである。原子炉は、通常、病院には設置できないので、医者と患者は原子炉の所在に合わせて治療を行う必要がある。比較すると、加速器ベースの中性子ビーム源生成装置はコストが低いだけでなく、病院中に設置でき、医者と患者の時間を節約することができる。
よって、現在、BNCT用の加速器ベースの中性子ビーム源生成装置が求められている。
TW I532056
本発明は、中性子ビーム源生成装置、および、そのフィルターを提供することを目的とする。
本発明の実施態様により、中性子ビーム源生成装置を提供する。中性子ビーム源生成装置はチャネルにより、ベリリウムターゲットに接続される加速器、フィルター、および、コリメータを有する。ベリリウムターゲットはチャネル末端に位置するとともに、フィルターに隣接する。フィルターはベリリウムターゲットとコリメータの間に位置する。チャネルとベリリウムターゲットの間は角度αを有し、角度αが0から90度の範囲であり、チャネルとフィルター法線の間は角度βを有し、角度αが0から90度の範囲である。チャネルの断面は非円形である。
本発明の実施態様により、フィルターを提供する。フィルターはアルミニウム、フッ化マグネシウム、および、フッ化リチウムの混合層を有する。混合層は、1容量部のフッ化マグネシウム、0.25から1容量部のアルミニウム、および、0.003から0.02容量部のフッ化リチウムから構成される。
チャネルの陽子ビームとフィルター法線が角度を有するとき、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量を効果的に減少させることができる。アルミニウム、フッ化マグネシウム、および、フッ化リチウムからなる混合層をフィルターの第三層として使用し、さらに、エピサーマル中性子束を増加させ、これにより、フィルターは、低エネルギーと低電流の陽子生成加速器と統合することができるので、コストが低減する。
以下の実施態様では、図面を参照して詳細に説明する。
本発明による中性子ビーム源生成装置を示す図である。 図1に同じ。 本発明によるチャネル、ターゲット、フィルター、および、コリメータの相対関係を示す図である。 図3に同じ。 図3に同じ。 図3に同じ。 図3に同じ。 図3に同じ。 図3に同じ。 図3に同じ。 図3に同じ。 図3に同じ。 図3に同じ。
以下の詳細な説明では、説明のために、開示された実施態様の完全な理解を提供するために、多くの特定の詳細が述べられる。しかしながら、これらの特定の詳細な説明なしに1つまたは複数の実施態様を実施できることは明らかであろう。他の例では、図面を簡単にするために、周知の構造およびデバイスを概略的に示す。
図1に示されるように、本発明の実施態様による中性子ビーム源生成装置10は、主に、加速器11、ターゲット15、加速器11とターゲット15を接続するチャネル13、フィルター17、および、コリメータ19から構成される。ターゲット15はチャネル末端に位置するとともに、フィルター17に隣接する。たとえば、加速器11は、Advanced Cyclotron Systems Inc.から購入したサイクロトロンである。加速器11は、エネルギーが19MeVから30MeVの陽子ビームを提供し、ターゲット15に衝突して、高速中性子を生成する。
高速中性子は、フィルター17とコリメータ素子19を通過後、エピサーマル中性子ビームを生成する。国際原子力機関(IAEA)の提案に基づき、BNCTに用いる所望の最小エピサーマル中性子ビーム強度は10n・cm−2・s−1、且つ、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量(fast neutron dose per epithermal neutron fluence)、および、エピサーマル中性子フルエンス毎のガンマ線線量(gamma ray dose per epithermal neutron fluence)はそれぞれ2×10−11cGy・cm/nより小さい。ガンマ線線量成分の基準は容易に達成されるので、実施態様は、主に、エピサーマル中性子束(epithermal neutron flux)、および、高速中性子線量成分を討論する。エピサーマル中性子束が低すぎる場合、患者21の照射治療時間が長くなる。高速中性子束が高すぎる場合、患者21のその他の正常な組織を損傷する。加速器11が提供する陽子のエネルギーが高すぎると、遮蔽設計の困難を増加させ、且つ、中性子の歩留まりの向上に限りがある。加速器11が提供する陽子のエネルギーが低すぎると、中性子の歩留まりが不足し、陽子の電流を増加させて、中性子の歩留まりを補償する必要がある。
本発明の一実施態様において、ターゲット15の材質はベリリウムである。
図1に示されるように、チャネル13とターゲット15の間は角度α、チャネル13とフィルター17のフィルター法線17`の間は角度βを有する。一実施態様において、角度βがより大きいほど、陽子の傾斜効果(陽子はチャネル13を通過して、入射角を通してターゲット15を衝突する)は、より明らかになる。たとえば、角度βが0から45度に変えられる時、ビーム出口で中性子ビームの高速中性子線量成分は25%減少し、角度βが45度から90度に変えられる時、高速中性子線量成分は57%減少する。
一般に、チャネルとターゲットの断面は円形である。しかし、陽子ビームがターゲットに斜め入射する設計では、チャネルが円形断面を有する場合、ターゲット上に投影される図形は卵形(oval)か楕円形(elliptical)である。その一方で、チャネルが卵形または楕円形の断面を有する場合、ターゲット上に投影される図形は、円形、楕円形、あるいは、卵形である。ターゲットの面積が固定である状況下(放熱効果が同じ)で、小さい卵形か楕円の断面を有するチャネルにより、中性子の漏れを減少させることができる。よって、本発明の一実施態様において、チャネルの断面は非円形である。
本発明の一実施態様によると、ターゲットとチャネルの間の角度変化により、チャネル断面13cの形状を調整し、ターゲット上に投影されるチャネルの断面13cの図形面積はチャネル断面13cより大きい、あるいは同じである。特に、ターゲット上に投影されるチャネルの断面13cの図形面積は、チャネルの断面13cより大きい、あるいは同じである。たとえば、チャネル断面形状が卵形か楕円形であるとき、ターゲット上に投影されるチャネル断面の図形は円形、楕円形、あるいは、卵形である。チャネル断面形状が長方形であるとき、ターゲット上に投影されるチャネル断面の図形は正方形か長方形である。一実施態様において、ターゲット上に投影されるチャネル断面の図形とターゲットの図形は重なる。
一実施態様において、卵形か楕円形チャネル13の断面13cは、チャネル13の壁に垂直である。チャネル13の断面13cの横向尺寸(たとえば、卵形か楕円形の短径)は、ターゲットの横向尺寸×sinαと同じである。チャネル13の断面13cの縦向尺寸(たとえば、卵形か楕円形の長径)はターゲット15の縦向尺寸と同じである。これにより、ターゲット15上に投影されるチャネル13の断面13cの図形は、ターゲット15と実質上重なる。たとえば、ターゲット15に投影されるチャネル13の断面13cの図形が直径dの円形である時、チャネル13の断面13cの形状は卵形か楕円形で、長径=d、且つ、短径=d×sinαである。ターゲット15に投影されるチャネル13の断面13cの形状が辺長dの方形である時、チャネル13の断面13c形状は長方形で、長辺はd、且つ、短辺がd×sinαである。上述の形状以外に、当業者なら、ターゲット15に投影されるチャネル13の適当な図形と対応する断面13cを選択することができる。チャネル13の断面13cとターゲット15の間の角度αに基づいて、チャネル13の断面13cの形状を調整し、エピサーマル中性子束の強度を増加させる。
図1において、ターゲット15はフィルター17に隣接する。あるいは、チャネル13とフィルター17のフィルター法線17`の間に、45度から90度の範囲の角度βを有し、チャネル13とターゲット15の間に、角度αを有する。角度αの範囲は、前述と同様ので、ここでは説明を省略した。
図1に示されるように、フィルター17は三層構造であるが、単層構造、あるいは、三層以上の多層構造を有してもよい。一実施態様において、フィルター17の総厚さは、54cmから67.5cmの範囲である。フィルター17の総厚さが薄過ぎる場合、高速中性子線量成分を効果的に減少させることができない。フィルター17の総厚さが厚すぎる場合、十分な強度の中性子ビームのエピサーマル中性子束を達成できない。
本発明の実施態様によるフィルター17は、アルミニウム、フッ化マグネシウム、および、フッ化リチウムから構成される単層の混合層を有し、混合層は、1容量部のフッ化マグネシウム、0.25から1容量部のアルミニウム、および、0.003から0.02容量部のフッ化リチウムから構成される。
一実施態様において、フィルター17は、たとえば、三層構造で、第二層17bは、第一層17aと第三層17cの間に位置し、且つ、第一層17aは、ターゲット15と第二層17bの間に位置し、即ち、陽子がターゲット15に衝突して生成される中性子は、順に、第一層17a、第二層17b、および、第三層17cを通過する。第一層17aは鉄から構成される。鉄と中性子の非弾性衝突は、1MeV以上の中性子を1MeV以下に減速させる。一実施態様において、第一層17aの厚さは、15cmから26cmの範囲である。第一層17aの厚さが薄すぎる場合、エネルギーが1MeV以上の中性子が多すぎる。第一層17aの厚さが厚過ぎる場合、エネルギーが1MeV以下の中性子を形成するための他の層の厚さを減少させて、これにより、中性子ビームの品質に影響する。第二層17bは、1容量部のフッ化アルミニウム、0.25から1容量部のアルミニウム、および、0.013から0.02容量部のフッ化リチウムから構成される。一実施態様において、第二層17bの厚さは、20cmから35cmの範囲である。フィルター17の総厚さが固定である状況下で、第二層17bの厚さが厚過ぎる場合、第三層17c厚さが薄過ぎて、中性子減速が不足し、高速中性子線量率(fast neutron dose rate)を過度に高くする。第二層17bの厚さが薄過ぎる場合、第三層17c厚さが厚くなる。中性子ビームの高速中性子線量率を十分に減少させる。しかし、エピサーマル中性子束を過度に低くする。第三層17cは、1重量部のフッ化リチウムと99〜100重量部のフッ化マグネシウムから構成される。フッ化リチウムはフッ化マグネシウムで分散する。一実施態様において、フィルター17の三層構造中の第三層17cも、アルミニウム、フッ化マグネシウム、および、フッ化リチウムの混合層から構成され、混合層は、1容量部のフッ化マグネシウム、0.25から1容量部のアルミニウム、および、0.003から0.02容量部のフッ化リチウムから構成される。一実施態様において、アルミニウムとフッ化リチウムは、フッ化マグネシウムに分散している。
一実施態様において、第三層17cの厚さは、5cmから10cmの範囲である。第三層17cの厚さが厚過ぎる場合、中性子を過度に減速し、これにより、過度に低いエピサーマル中性子束の中性子ビームを生成する。第三層17cの厚さが薄過ぎる場合、減速が不足し、これにより、過度に高い高速中性子線量率の中性子ビームを生成する。一実施態様において、第一層17aの側壁(例えば、第一層17aの外部周辺)が、第二層17bと同じ材料によって包囲される。一実施態様において、第一層17aの面積は、第二層17bの面積より小さく、且つ、第二層の面積は、第三層17c(混合層)の面積より小さい。一実施態様において、フィルターは、中性子ビーム源生成装置中に用いられる。
一実施態様において、フィルター17外側に、反射材16(たとえば、厚さ15センチの鉛壁)を設置して、最後に生成されるエピサーマル中性子束を増加する。
図1と図2に示されるように、コリメータ素子19は、第三層17cと患者21の間に位置する。つまり、フィルター17はターゲット15とコリメータ素子19の間に位置する。コリメータ素子19の設計は、Y−W H. Liu, T.T. Huang, S.H. Jiang, H.M. Liu, (2004) “Renovation of Epithermal Neutron Beam for BNCT at THOR,” Appl. Radiat. Isot. 61,1039−1043を参照できる。コリメータ素子19は、エピサーマル中性子束強度を集中、並びに、維持するとともに、同時に、高速中性子の線量率を減少させる。図1の設計は、陽子がターゲット15に衝突通過後形成される中性子ビームの多くが、直接、フィルター17に進入するようになっている。図2の設計は、陽子がターゲット15に衝突通過後に生成される中性子ビームの多くが、ターゲット15背面の反射材16、たとえば、鉛壁を経て反射して、フィルター17に進入する。いくつかの実施態様において、ターゲット15背面の反射材16の厚さを45cmに増加して、反射する中性子束を増加させることができる。図1と図2において、フィルター17の第一層17a、第二層17b、第三層17cの面積は同じである。あるいは、第三層17cの面積が最大、第二層17bの面積が、第三層17cの面積の81%から100%、第一層17aの面積が、第三層17cの面積の16%から100%で、前が狭く、後ろが広いフィルターを形成する。一実施態様において、第二層17bの材料は、さらに、第一層17aを囲むためにさらに使用されてもよい。円柱形のフィルターと比較すると、前が狭く、後ろが広いフィルターは、エピサーマル中性子束強度を向上させる効果を有する。
図1と図2に示されるように、コリメータ素子19は、コリメータ材19c、および、遮蔽材19a、19bと19dを有する。スタックされる遮蔽材19aと19bは開口部を有し、コリメータ材19cと遮蔽材19dは、それぞれ、遮蔽材19aと19bの開口部の側壁上に位置する。一実施態様において、遮蔽材19aは、40wt%炭酸リチウムを混入したポリエチレン、遮蔽材19bはテフロン(登録商標)、コリメータ材19cはビスマス、遮蔽材19dは40wt%炭酸リチウムを混入したポリエチレン(リチウムは濃縮したLi)である。いくつかの実施態様において、遮蔽材19a(たとえば、40wt%炭酸リチウムを混入したポリエチレン)の厚さは、20cmから5cmに減少し、遮蔽材19aの元の15cmが鉛に代替され、これにより、エピサーマル中性子束強度を増加させる。このほか、上述の設計はエピサーマル中性子束強度を増加させることができるので、加速器が生成する陽子ビームのエネルギーは30MeVに達する必要がない。たとえば、19MeVから24MeVの陽子を生成する加速器11は上述の設計に十分に応用でき、即ち、加速器11のコストを減少させることができる。
以下、添付した図面を参照して、本発明の好適な実施態様について詳細に説明する。本発明の概念は、本明細書に記載の例示的な実施態様に限定されることなく、様々な態様で実施することができる。周知の部品の説明は、明確にするために省略されており、同様の参照番号は、全体にわたって同様の要素を指す。
実施態様
以下の実験で採用するシミュレーション計算ソフトウェアは、Los Alamos National Laboratoryが開発したMCNPX、且つ、断面積ライブラリはENDF/B−7を採用する。
比較例1と実施態様1から4中、シミュレーション条件は、加速器のエネルギーが30MeV、且つ、電流が1mA(30MeV/1mA)の陽子を生成し、ターゲットが0.55cm厚さ、且つ、直径が19cmのベリリウムであることである。フィルターの第一層は鉄から構成され、第二層は、1容量部のフッ化アルミニウム、0.517容量部のアルミニウム、および、0.017容量部のフッ化リチウムから構成され、第三層は、1重量部のフッ化リチウムと99重量部のフッ化マグネシウムから構成される。第一層の厚さは27.5cm、第二層の厚さは32.5cm、第三層の厚さは7.5cmで、半径50cmの円柱形のフィルターを形成する。さらに、フィルターは、Y−W H. Liu, T.T. Huang, S.H. Jiang, H.M. Liu, (2004) “Renovation of Epithermal Neutron Beam for BNCT at THOR,” Appl. Radiat. Isot. 61,1039−1043.で開示されるように、コリメータ素子19と一体化する。三層フィルター17とコリメータ素子19の間に、厚さ5cmのビスマス層18を設置する。
比較例1
図3に示されるように、ターゲット15はフィルター17に隣接し、チャネル13はターゲット15に垂直する、チャネル13とターゲット15の間の角度αは90度、チャネル13とフィルター法線17`(フィルターターゲット17の表面に対して垂直)の角度βは0度である。すなわち、チャネル13とフィルターの法線17`は同一方向である。上述のチャネル13の断面13cは、直径が20cmの円形である。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表1に示される。
実施態様1
図4に示されるように、ターゲット15はフィルター17に隣接し、チャネル13とターゲット15の間の角度αは45度、チャネル13とフィルター法線17`(フィルターターゲット17の表面に対して垂直)の角度βは45度である。チャネル13の断面13cは、直径が20cmの円形である。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表1に示される。
実施態様2
図5に示されるように、ターゲット15はフィルター17に隣接し、チャネル13とターゲット15の間の角度αは30度、チャネル13とフィルター法線17`(フィルターターゲット17の表面に対して垂直)の角度βは60度である。チャネル13の断面13cは、直径が20cmの円形である。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表1に示される。
実施態様3
図6に示されるように、ターゲット15はフィルター17に隣接し、チャネル13とターゲット15の間の角度αは15度、チャネル13とフィルター法線17`(フィルターターゲット17の表面に対して垂直)の角度βは75度である。チャネル13の断面13cは、直径が20cmの円形である。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表1に示される。
実施態様4
図7に示されるように、ターゲット15はフィルター17に垂直で、チャネル13はターゲット15に垂直する。チャネル13とターゲット15の間の角度αは90度で、チャネル13とフィルター法線17`(フィルターターゲット17の表面に対して垂直)の角度βは90度である。チャネル13の断面13cは、直径が20cmの円形である。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表1に示される。
表1から分かるように、チャネルの陽子ビームとフィルター法線が角度βを有するとき、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量を効果的に減少させることができる。
実施態様5
実施態様5は実施態様3(図6)と類似し、実施態様5の第一層17aの厚さが22cm、第二層17bの厚さが25cm、且つ、第三層17cの厚さが10cm、総厚さが57cmであること以外、実施態様3と同様である(実施態様3のフィルター総厚さより10.5cm薄い)。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表2に示される。
実施態様6
実施態様6は実施態様4(図7)と類似し、実施態様6の第一層17aの厚さが22cm、第二層17bの厚さが25cm、第三層17cの厚さが10cm、総厚さが57cmであること以外、実施態様4と同様である(実施態様4のフィルター総厚さより10.5cm薄い)。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表2に示される。
表2から分かるように、より薄いフィルターが、斜め入射する中性子ビーム源生成装置で使われることができて、さらに強いエピサーマル中性子束強度を達成する。
実施態様7
実施態様7は実施態様5と類似し、実施態様7のチャネル13の断面13cが円形から楕円形になり、その長径は20cm、短径が5.2cmであること以外、実施態様5と同様である。これにより、ターゲット15上に投影されるチャネル13の断面の図形は、ターゲット15と完全に重ね、図8に示される。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表3に示される。
実施態様8
実施態様8と実施態様6は類似し、その差異は、実施態様8のターゲット15とフィルター17の間の角度が、図9に示されるように、15度である。且つ、チャネル13の断面13cが円形から楕円形になり、その長径が20cm、短径が5.2cmであることである。これにより、ターゲット15上に投影されるチャネル13の断面の図形は、ターゲット15と完全に重なる。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表3に示される。
表3から分かるように、チャネル断面とターゲットの間の角度に基づいて、楕円断面を調整し、ターゲット面積が固定である状況(同じ放熱効果)で、小さい楕円断面のチャネルにより、中性子の漏れを減少させ、さらに、エピサーマル中性子束強度を増加することができる。
実施態様9
実施態様9は実施態様8と類似し、ターゲット15背面の反射材16A(たとえば、鉛)の厚さが15cm増えていること以外、実施態様8と同様である。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表4に示される。
表4に示されるように、ターゲットの背面の反射材の厚さ(たとえば、反射材16A)を増加させて、エピサーマル中性子束強度を増加し、且つ、高速中性子線量率をほぼ増加させない。
実施態様10
実施態様10と実施態様9は類似し、その差異は、実施態様10は、フィルター17の第一層17aの面積を、元の16%に減少するとともに、第二層17bの面積を、元の81%に減少する。その結果、図10に示されるように、前が狭く、後ろが広いフィルター17を形成することである。さらに、第一層17a(直径15cmの鉄盤)の外部周辺は、5cm厚の外周材料により囲まれ、外周材料は1容量部のフッ化アルミニウム、0.517容量部のアルミニウム、および、0.017容量部のフッ化リチウム(第二層17bの構成と同様)から構成される。この実施態様において、第一層17aの外周材料と第一層17a材料(鉄)の体積比は、9:7である。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表5に示される。
実施態様11
実施態様11は実施態様10と類似し、実施態様11が、図11に示されるように、コリメータ素子19とフィルター17の間のビスマス層18を省略していること以外、実施態様10と同様である。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表5に示される。
実施態様12
実施態様12は実施態様11と類似し、実施態様12中、図12に示されるように、遮蔽材19aが、厚さ5cmの40wt%炭酸リチウムを混入したポリエチレン層19a1と厚さ15cmの鉛層19a3から構成される二層に変更した以外、実施態様11と同様である。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表5に示される。
実施態様13
実施態様13は実施態様12と類似し、実施態様13中、図13に示されるように、遮蔽材19a中、40wt%炭酸リチウムを混入したポリエチレン層19a1の厚さが1cmに減少し、厚さが4cmのテフロン層19a2は加えられること以外、実施態様12と同様である。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表5に示される。
表5から分かるように、フィルターの形を、前が狭く、後ろが広くなるように変えて、ビスマス層18を省略し、コリメータ素子の遮蔽材19a(たとえば、40wt%炭酸リチウムを混入したポリエチレン)の厚さを調整する、あるいは、コリメータ素子の遮蔽材を単層構造から多層構造(たとえば:二層構造(40wt%炭酸リチウムを混入したポリエチレン/鉛)または三層構造(40wt%炭酸リチウムを混入したポリエチレン/テフロン/鉛))にして、さらに、エピサーマル中性子束強度を改善する。
実施態様14
実施態様14と実施態様13は類似し、その差異は、実施態様14の第三層17cを、アルミニウム、フッ化マグネシウム、および、フッ化リチウムの混合層にすることである。混合層の形成方法は以下のようである:まず、アルミニウム91.80g、フッ化マグネシウム204.20g、および、フッ化リチウム2.99gの混合粉末を、ボールミル缶中に入れて、均一な粉末混合物が得られるまでスチールボールとボールミル混合する。真空熱圧縮成型技術を利用して、真空度10−2torr、600°Cの温度、および、330MPaの圧力下で、30分間維持し、この粉末混合物をブロック材にする。得られた1容量部のフッ化マグネシウム、0.526容量部のアルミニウム、および、0.018容量部のフッ化リチウムから構成される混合層をブロック材とする。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表6に示される。
実施態様15
実施態様15と実施態様14は類似し、その差異は、実施態様15の加速器によって生成する陽子ビームのエネルギーが24MeV、且つ、電流が500μA(24MeV/500μA)を有することである。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表6に示される。
実施態様16
実施態様16と実施態様14は類似し、その差異は、実施態様16の加速器が生成する陽子ビームのエネルギーが19MeV、且つ、電流が300μA(18MeV/300μA)を有することである。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、および、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量は、表6に示される。
表6から分かるように、第三層は、アルミニウム、フッ化マグネシウム、および、フッ化リチウムの混合層材料を利用し、さらに、エピサーマル中性子束強度を増加させ、これにより、フィルターは、低エネルギーと低電流の陽子生成加速器と統合することができるので、コストが低減する。
実施態様17
実施態様17と実施態様14は類似し、その差異は、実施態様17の混合層(第三層)の材料の混合比率が異なることで、アルミニウム54g、フッ化マグネシウム251.8g、および、フッ化リチウム0.8gを量り、処理し、得られた混合層は、フッ化マグネシウムが1容量部、アルミニウムが0.251容量部、フッ化リチウムが0.004容量部から構成される。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量、および、熱中性子束のエピサーマル中性子束に対する比は、表7により示される。
実施態様18
実施態様18と実施態様14は類似し、その差異は、実施態様18の第三層の混合層材料の混合比率が異なることで、アルミニウム108g、フッ化マグネシウム188.9gとフッ化リチウム1.6gを量り、処理し、混合層はフッ化マグネシウムを1容量部とすると、アルミニウムが0.667容量部、フッ化リチウムが0.01容量部で構成される。中性子ビーム源生成装置により生成される中性子ビームのエピサーマル中性子束、高速中性子線量率、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量、および、熱中性子束のエピサーマル中性子束に対する比が、表7に示される。
表7から分かるように、第三層は、アルミニウム、フッ化マグネシウム、および、フッ化リチウムの混合層材料を使用し、異なる比で、さらに、エピサーマル中性子束強度、高速中性子線量率、エピサーマル中性子フルエンス毎の高速中性子線量、および、熱中性子束とエピサーマル中性子束の比を調整する。
本発明では好ましい実施態様を前述の通り開示したが、これらは決して本発明に限定するものではなく、当該技術を熟知する者なら誰でも、本発明の精神と領域を脱しない範囲内で各種の変更や脚色を加えることができ、従って本発明の保護範囲は、特許請求の範囲で指定した内容を基準とする。
α、β…角度
10…中性子ビーム源生成装置
11…加速器
13…チャネル
13c…断面
15…ターゲット
16、16A…反射材
17…フィルター
17a…第一層
17b…第二層
17c…第三層
18…ビスマス層
19…コリメータ素子
19a、19b、19d…遮蔽材
19a1…40wt%炭酸リチウムを混入したポリエチレン
19a2…テフロン
19a3…鉛
19c…コリメータ材
21…患者

Claims (15)

  1. 中性子ビーム源生成装置であって、
    チャネルにより、ベリリウムターゲットに接続される加速器、
    フィルター、および、
    コリメータ、を有し、
    前記ベリリウムターゲットは前記チャネル末端に位置するとともに、フィルターに隣接し、前記フィルターが前記ベリリウムターゲットと前記コリメータの間に位置し、前記チャネルと前記ベリリウムターゲットの間に角度αを有し、前記角度αは0から90度の範囲で、前記チャネルと前記フィルター法線の間に角度βを有し、前記角度βは0から90度の範囲であり、且つ、前記チャネルの断面は非円形である中性子ビーム源生成装置。
  2. 前記角度βは、45度から90度の範囲である請求項1に記載の中性子ビーム源生成装置。
  3. 前記ベリリウムターゲット上に投影される前記チャネルの図形面積は、前記チャネルの断面積より大きい、あるいは、チャネルの断面積と同じである請求項1に記載の中性子ビーム源生成装置。
  4. 前記チャネル断面形状は卵形か楕円形で、前記ターゲット上に投影される前記チャネル断面の図形は、円形、楕円形、あるいは、卵形である請求項1に記載の中性子ビーム源生成装置。
  5. 前記チャネル断面形状は長方形で、前記ターゲット上に投影される前記チャネル断面の図形は、正方形か長方形である請求項1に記載の中性子ビーム源生成装置。
  6. 前記ターゲット上に投影される前記チャネル断面の図形と前記ターゲットは重なる請求項1に記載の中性子ビーム源生成装置。
  7. 前記ターゲットの一面は前記フィルターに隣接する請求項1に記載の中性子ビーム源生成装置。
  8. 前記加速器は、エネルギーが19MeVから30MeVの陽子ビームを生成する請求項1に記載の中性子ビーム源生成装置。
  9. 前記フィルターは、アルミニウム、フッ化マグネシウム、および、フッ化リチウムの混合層を含む請求項1に記載の中性子ビーム源生成装置。
  10. 前記混合層は1容量部のフッ化マグネシウム、0.25から1容量部のアルミニウム、および、0.003から0.02容量部のフッ化リチウムから構成される請求項9に記載の中性子ビーム源生成装置。
  11. フィルターであって、
    アルミニウム、フッ化マグネシウム、および、フッ化リチウムの混合層を有し、前記混合層は、1容量部のフッ化マグネシウム、0.25から1容量部のアルミニウム、および、0.003から0.02容量部のフッ化リチウムから構成されるフィルター。
  12. 更に、
    鉄から構成される第一層、および、
    1容量部のフッ化アルミニウム、0.25から1容量部のアルミニウム、および、0.013から0.02容量部のフッ化リチウムから構成される第二層、を有し、
    前記第二層は前記第一層と前記混合層の間に位置する請求項11に記載のフィルター。
  13. 前記第二層の材料は、さらに、前記第一層を囲む請求項12に記載のフィルター。
  14. 前記第一層の面積は前記第二層の面積より小さく、且つ、前記第二層の面積は前記混合層の面積より小さい請求項13に記載のフィルター。
  15. 中性子ビーム源生成装置中に応用される請求項11に記載のフィルター。
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