JP2018041964A - 荷電粒子ビーム発生器の高電圧シールド及び冷却 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】システムは、荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子ビーム発生器と、荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイ(6)と、ビームレットをターゲットの表面上に投影するためのビームレット投影器を有している。荷電粒子ビーム発生器は、発散荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源(3)と、発散荷電粒子ビームを屈折させるためのコリメーターシステム(5a,5b,5c,5d,等)と、コリメーターシステムから熱を取り除くための冷却装置(203)を備えており、冷却装置は、コリメーターシステムの少なくとも一部を取り囲んでいる本体を備えている。
【選択図】図4
Description
ハウジング部401aは発生源3を収容しており、ハウジング部401bは、三つの電極5a,5b,5cを有しているアインツェルレンズを収容しており、ハウジング部401cは、収差補正のための追加電極5dを収容している。
以下に、出願当初の特許請求の範囲に記載の事項を、そのまま、付記しておく。
[1] ターゲット(13)を露出するための荷電粒子リソグラフィシステム(1)であって、 ・荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子ビーム発生器と、
・前記荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイ(6)と、 ・前記ビームレットをターゲットの表面上に投影するためのビームレット投影器(12)を備えており、
前記荷電粒子ビーム発生器は、
・発散荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源(3)と、
・前記発散荷電粒子ビームを屈折させるためのコリメーターシステム(5a,5b,5c,5d;72;300)と、
・前記コリメーターシステムから熱を取り除くための冷却装置(203)を備えており、前記冷却装置は、前記コリメーターシステムの少なくとも一部を取り囲んでいる本体を備えている、リソグラフィシステム。
[2] 前記荷電粒子発生源は、第一の真空チャンバー(102)中に配置されており、前記コリメーターシステムと前記冷却装置は、第二の真空チャンバー(103)中に配置されている、[1]のリソグラフィシステム。
[3] 前記ビーム発生器は、前記リソグラフィシステムの露出真空チャンバー内に含まれている、[1]または[2]のリソグラフィシステム。
[4] 前記冷却装置は、空洞が設けられた閉じた本体を備えている、先行請求項のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
[5] 前記冷却装置は、前記コリメーターシステムの少なくとも一部と統合されている、先行請求項のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
[6] 前記コリメーターシステムは、主に閉じた壁をもつチャンバーを形成している、先行請求項のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
[7] 前記コリメーターシステムは、三つの電極(5a,5b,5c)を備えているアインツェルレンズを備えている、先行請求項のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
[8] 前記アインツェルレンズ電極の中央電極(5b)は、前記アインツェルレンズ電極の外側電極(5a,5c)に対して正電位のために用意されている、[7]のリソグラフィシステム。
[9] 前記アインツェルレンズの前記外側電極(5a,5c)は、グラウンド電位にある包含物のために用意されている、[8]のリソグラフィシステム。
[10] 前記アインツェルレンズの少なくとも上側電極(5a)には、冷却液を導くための一つ以上の冷却導管が設けられている、[7]〜[9]のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
[11] 前記一つ以上の冷却導管の少なくとも一部分は、使用中の前記荷電粒子ビームに面する電極の表面またはそのすぐそばに実質鉛直方向に延びている、[10]のリソグラフィシステム。
[12] 前記アインツェルレンズの外側電極は、冷却液を導くための一つ以上の冷却導管を備えている、[7]〜[9]のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
[13] 前記冷却液は、液体、好ましくは水である、[10]〜[12]のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
[14] 前記冷却導管の少なくとも一部分は実質的に、使用中の前記荷電粒子ビームの光学軸に対して実質垂直かつ遠のく径方向に延びている、[10]〜[13]のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
[15] 上側電極は中央開口を有しており、前記中央開口は実質的に円すい形に形づくられている、[7]〜[14]のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
[16] 上側電極は中央開口を有しており、前記中央開口は実質的に鐘形状をしている、[7]〜[14]のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
[17] 先行請求項のいずれかひとつに記載の荷電粒子リソグラフィシステムに使用される荷電粒子ビーム発生器であって、
・発散荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源(3)と、
・前記発散荷電粒子ビームを屈折させるためのコリメーターシステム(5a,5b,5c,5d;72;300)と、
・前記コリメーターシステムから熱を取り除くための冷却装置(203)を備えており、前記冷却装置は、前記コリメーターシステムの少なくとも一部を取り囲んでいる本体を備えている、発生器。
[18] 前記荷電粒子発生源は第一の真空チャンバー(102)中に配置されており、前記コリメーターシステムと前記冷却装置は第二の真空チャンバー(103)中に配置されている、[17]の発生器。
[19] 前記冷却装置は、空洞が設けられた閉じた本体を備えている、[17]または[18]の発生器。
[20] 前記冷却装置は、前記コリメーターシステムの少なくとも一部と統合されている、[17]〜[19]のいずれかひとつの発生器。
[21] 前記コリメーターシステムは、主に閉じた壁をもつチャンバーを形成している、[17]〜[20]のいずれかひとつの発生器。
[22] 前記コリメーターシステムは、三つの電極(5a,5b,5c)を備えたアインツェルレンズを備えている、[17]〜[21]のいずれかひとつの発生器。
[23] 前記アインツェルレンズ電極の中央電極(5b)は、前記アインツェルレンズ電極の外側電極(5a,5c)に対する正電位のために用意されている、[22]の発生器。
[24] 前記アインツェルレンズの前記外側電極(5a,5c)は、グラウンド電位にある包含物のために用意されている、[23]の発生器。
[25] 前記アインツェルレンズの少なくとも上側電極(5a)には、冷却液を導くための一つ以上の冷却導管が設けられている、[22]〜[24]のいずれかひとつの発生器。
[26] 前記一つ以上の冷却導管の少なくとも一部分は、使用中の前記荷電粒子ビームに面する電極の表面またはそのすぐそばに実質鉛直方向に延びている、[25]の発生器。
[27] 前記アインツェルレンズの前記外側電極は、冷却液を導くための一つ以上の冷却導管を備えている、[22]〜[24]のいずれかひとつの発生器。
[28] 前記冷却液は、液体、好ましくは水である、[25]〜[27]のいずれかひとつの発生器。
[29] 前記冷却導管の少なくとも一部分は実質的に、使用中の前記荷電粒子ビームの光学軸に対して実質垂直かつ遠のく径方向に延びている、[25]〜[28]のいずれかひとつの発生器。
[30] 上側電極は中央開口を有しており、前記中央開口は実質的に円すい形に形づくられている、[22]〜[29]のいずれかひとつの発生器。
[31] 上側電極は中央開口を有しており、前記中央開口は実質的に鐘形状をしている、[22]〜[29]のいずれかひとつの発生器。
Claims (31)
- ターゲット(13)を露出するための荷電粒子リソグラフィシステム(1)であって、 ・荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子ビーム発生器と、
・前記荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイ(6)と、 ・前記ビームレットをターゲットの表面上に投影するためのビームレット投影器(12)を備えており、
前記荷電粒子ビーム発生器は、
・発散荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源(3)と、
・前記発散荷電粒子ビームを屈折させるためのコリメーターシステム(5a,5b,5c,5d;72;300)と、
・前記コリメーターシステムから熱を取り除くための冷却装置(203)を備えており、前記冷却装置は、前記コリメーターシステムの少なくとも一部を取り囲んでいる本体を備えている、リソグラフィシステム。 - 前記荷電粒子発生源は、第一の真空チャンバー(102)中に配置されており、前記コリメーターシステムと前記冷却装置は、第二の真空チャンバー(103)中に配置されている、請求項1のリソグラフィシステム。
- 前記ビーム発生器は、前記リソグラフィシステムの露出真空チャンバー内に含まれている、請求項1または2のリソグラフィシステム。
- 前記冷却装置は、空洞が設けられた閉じた本体を備えている、先行請求項のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
- 前記冷却装置は、前記コリメーターシステムの少なくとも一部と統合されている、先行請求項のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
- 前記コリメーターシステムは、主に閉じた壁をもつチャンバーを形成している、先行請求項のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
- 前記コリメーターシステムは、三つの電極(5a,5b,5c)を備えているアインツェルレンズを備えている、先行請求項のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
- 前記アインツェルレンズ電極の中央電極(5b)は、前記アインツェルレンズ電極の外側電極(5a,5c)に対して正電位のために用意されている、請求項7のリソグラフィシステム。
- 前記アインツェルレンズの前記外側電極(5a,5c)は、グラウンド電位にある包含物のために用意されている、請求項8のリソグラフィシステム。
- 前記アインツェルレンズの少なくとも上側電極(5a)には、冷却液を導くための一つ以上の冷却導管が設けられている、請求項7〜9のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
- 前記一つ以上の冷却導管の少なくとも一部分は、使用中の前記荷電粒子ビームに面する電極の表面またはそのすぐそばに実質鉛直方向に延びている、請求項10のリソグラフィシステム。
- 前記アインツェルレンズの外側電極は、冷却液を導くための一つ以上の冷却導管を備えている、請求項7〜9のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
- 前記冷却液は、液体、好ましくは水である、請求項10〜12のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
- 前記冷却導管の少なくとも一部分は実質的に、使用中の前記荷電粒子ビームの光学軸に対して実質垂直かつ遠のく径方向に延びている、請求項10〜13のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
- 上側電極は中央開口を有しており、前記中央開口は実質的に円すい形に形づくられている、請求項7〜14のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
- 上側電極は中央開口を有しており、前記中央開口は実質的に鐘形状をしている、請求項7〜14のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
- 先行請求項のいずれかひとつに記載の荷電粒子リソグラフィシステムに使用される荷電粒子ビーム発生器であって、
・発散荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源(3)と、
・前記発散荷電粒子ビームを屈折させるためのコリメーターシステム(5a,5b,5c,5d;72;300)と、
・前記コリメーターシステムから熱を取り除くための冷却装置(203)を備えており、前記冷却装置は、前記コリメーターシステムの少なくとも一部を取り囲んでいる本体を備えている、発生器。 - 前記荷電粒子発生源は第一の真空チャンバー(102)中に配置されており、前記コリメーターシステムと前記冷却装置は第二の真空チャンバー(103)中に配置されている、請求項17の発生器。
- 前記冷却装置は、空洞が設けられた閉じた本体を備えている、請求項17または18の発生器。
- 前記冷却装置は、前記コリメーターシステムの少なくとも一部と統合されている、請求項17〜19のいずれかひとつの発生器。
- 前記コリメーターシステムは、主に閉じた壁をもつチャンバーを形成している、請求項17〜20のいずれかひとつの発生器。
- 前記コリメーターシステムは、三つの電極(5a,5b,5c)を備えたアインツェルレンズを備えている、請求項17〜21のいずれかひとつの発生器。
- 前記アインツェルレンズ電極の中央電極(5b)は、前記アインツェルレンズ電極の外側電極(5a,5c)に対する正電位のために用意されている、請求項22の発生器。
- 前記アインツェルレンズの前記外側電極(5a,5c)は、グラウンド電位にある包含物のために用意されている、請求項23の発生器。
- 前記アインツェルレンズの少なくとも上側電極(5a)には、冷却液を導くための一つ以上の冷却導管が設けられている、請求項22〜24のいずれかひとつの発生器。
- 前記一つ以上の冷却導管の少なくとも一部分は、使用中の前記荷電粒子ビームに面する電極の表面またはそのすぐそばに実質鉛直方向に延びている、請求項25の発生器。
- 前記アインツェルレンズの前記外側電極は、冷却液を導くための一つ以上の冷却導管を備えている、請求項22〜24のいずれかひとつの発生器。
- 前記冷却液は、液体、好ましくは水である、請求項25〜27のいずれかひとつの発生器。
- 前記冷却導管の少なくとも一部分は実質的に、使用中の前記荷電粒子ビームの光学軸に対して実質垂直かつ遠のく径方向に延びている、請求項25〜28のいずれかひとつの発生器。
- 上側電極は中央開口を有しており、前記中央開口は実質的に円すい形に形づくられている、請求項22〜29のいずれかひとつの発生器。
- 上側電極は中央開口を有しており、前記中央開口は実質的に鐘形状をしている、請求項22〜29のいずれかひとつの発生器。
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