JP4156809B2 - 電子ビーム露光装置及び電子レンズ - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子ビーム露光装置及び電子レンズに関する。特に本発明は、冷却機能を備える電子ビーム露光装置及び電子レンズに関する。
【0002】
【従来の技術】
複数の電子ビームにより、ウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置は、複数の電子ビームを独立に集束する多軸電子レンズを備える。多軸電子レンズは、磁界を発生するコイル部と、複数の電子ビームがそれぞれ通過する複数のレンズ開口部が設けられた磁性導体部とを有する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
複数の電子ビームを独立に集束する多軸電子レンズにおいて、磁界を発生するコイル部の発熱によって磁性導体部が伸縮又は膨張し、レンズ開口部の位置が変動してしまうという問題があった。
【0004】
そこで本発明は、上記の課題を解決することのできる電子ビーム露光装置及び電子レンズを提供することを目的とする。この目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
【0005】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明の第1の形態によると、複数の電子ビームにより、ウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、複数の電子ビームを独立に集束する第1電子レンズ部とを備え、第1電子レンズ部は、複数の電子ビームのそれぞれが通過する複数の第1レンズ開口部が設けられた第1磁性導体部と、第1磁性導体部の周囲に設けられ、複数の第1レンズ開口部に磁界を生成する第1コイル部と、第1コイル部に隣接して設けられ、第1コイル部を冷却する第1冷却部とを有する。電子レンズ部は、第1磁性導体部と第1コイル部との間に設けられた断熱板をさらに有してもよい。
【0006】
複数の電子ビームのそれぞれが通過する複数の第2レンズ開口部を含む第2磁性導体部と、第2磁性導体部の周囲に設けられ、複数の第2レンズ開口部に磁界を生成する第2コイル部と、第2コイル部に隣接して設けられ、第2コイル部を冷却する第2冷却部とを有し、複数の電子ビームを独立に集束する第2電子レンズ部と、第1冷却部及び第2冷却部の温度を制御する冷却制御部とをさらに備えてもよい。
【0007】
冷却制御部は、第1コイル部と第2コイル部とが略等しい温度になるように、第1冷却部及び第2冷却部の温度を制御してもよい。冷却制御部は、第1磁性導体部と第2磁性導体部とが略等しい温度分布になるように、第1冷却部及び第2冷却部の温度を制御してもよい。
【0008】
冷却制御部は、第1冷却部及び第2冷却部の温度を制御することにより、第1磁性導体部に設けられた第1レンズ開口部と、第2磁性導体部に設けられた第2レンズ開口部との相対的な位置を制御してもよい。第1冷却部及び第2冷却部は、冷媒が通過する冷却路を含み、冷却制御部は、冷却路を通過する冷媒の流量を制御してもよい。冷却制御部は、第1コイル部及び第2コイル部に供給される電流に基づいて、冷媒の流量を制御してもよい。
【0009】
本発明の第2の形態によると、複数の電子ビームを独立に集束する電子レンズであって、複数の電子ビームのそれぞれが通過する複数のレンズ開口部が設けられた磁性導体部と、磁性導体部の周囲に設けられ、複数のレンズ開口部に磁界を生成するコイル部と、コイル部に隣接して設けられ、コイル部を冷却する冷却部とを備える。
【0010】
なお上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーションも又発明となりうる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置100の構成を示す。電子ビーム露光装置100は、電子ビームによりウェハ44に所定の露光処理を施すための露光部150と、露光部150に含まれる各構成の動作を制御する制御系140を備える。
【0012】
露光部150は、筐体8内部で、複数の電子ビームを発生し、電子ビームの断面形状を所望に成形する電子ビーム成形手段110と、複数の電子ビームをウェハ44に照射するか否かを、電子ビーム毎に独立に切替える照射切替手段112と、ウェハ44に転写されるパターンの像の向き及びサイズを調整するウェハ用投影系114を含む電子光学系を備える。また、露光部150は、パターンを露光すべきウェハ44を載置するウェハステージ46と、ウェハステージ46を駆動するウェハステージ駆動部48とを含むステージ系を備える。
【0013】
電子ビーム成形手段110は、複数の電子ビームを発生させる電子ビーム発生部10と、電子ビームを通過させることにより、電子ビームの断面形状を成形する複数の開口部を有する第1成形部材14及び第2成形部材22と、複数の電子ビームを独立に収束し、電子ビームの焦点を調整する第1多軸電子レンズ16と、第1成形部材14を通過した複数の電子ビームを独立に偏向する第1成形偏向部18及び第2成形偏向部20とを有する。
【0014】
第1多軸電子レンズ16は、複数の電子ビームがそれぞれ通過する複数のレンズ開口部を含む磁性導体部と、複数のレンズ開口部に磁界を生成するコイル部と、コイル部を冷却する冷却部とを有する。なお、後述する第2多軸電子レンズ24、第3多軸電子レンズ34、第4多軸電子レンズ36、及び第5多軸電子レンズ62も、第1多軸電子レンズ16と同様の構成を有する。
【0015】
電子ビーム発生部10は、複数の電子銃104と、電子銃104が形成される基材106とを有する。電子銃104は、熱電子を発生させるカソード12と、カソード12を囲むように形成され、カソード12で発生した熱電子を安定させるグリッド102とを有する。カソード12とグリッド102とは、電気的に絶縁されるのが望ましい。本実施例において、電子ビーム発生部10は、基材106に、複数の電子銃104を、所定の間隔に有することにより、電子銃アレイを形成する。
【0016】
第1成形部材14及び第2成形部材22は、電子ビームが照射される面に、接地された白金などの金属膜を有することが望ましい。第1成形部材14及び第2成形部材22に含まれる複数の開口部の断面形状は、電子ビームを効率よく通過させるために、電子ビームの照射方向に沿って広がりを有してもよい。また、第1成形部材14及び第2成形部材22に含まれる複数の開口部は、矩形に形成されるのが好ましい。
【0017】
照射切替手段112は、複数の電子ビームを独立に収束し、電子ビームの焦点を調整する第2多軸電子レンズ24と、複数の電子ビームを、電子ビーム毎に独立に偏向させることにより、電子ビームをウェハ44に照射するか否かを、電子ビーム毎に独立に切替えるブランキング電極アレイ26と、電子ビームを通過させる複数の開口部を含み、ブランキング電極アレイ26で偏向された電子ビームを遮蔽する電子ビーム遮蔽部材28とを有する。また、他の実施例においてブランキング電極アレイ26は、ブランキング・アパーチャ・アレイであってもよい。
【0018】
ウェハ用投影系114は、複数の電子ビームを独立に収束し、電子ビームの照射径を縮小する第3多軸電子レンズ34と、複数の電子ビームを独立に収束し、電子ビームの焦点を調整する第4多軸電子レンズ36と、複数の電子ビームを、ウェハ44の所望の位置に、電子ビーム毎に独立に偏向する偏向部60と、ウェハ44に対する対物レンズとして機能し、複数の電子ビームを独立に収束する第5多軸電子レンズ62とを有する。
【0019】
制御系140は、統括制御部130及び個別制御部120を備える。個別制御部120は、電子ビーム制御部80と、多軸電子レンズ制御部82と、成形偏向制御部84と、ブランキング電極アレイ制御部86と、偏向制御部92と、ウェハステージ制御部96とを有する。統括制御部130は、例えばワークステーションであって、個別制御部120に含まれる各制御部を統括制御する。電子ビーム制御部80は、電子ビーム発生部10を制御する。多軸電子レンズ制御部82は、第1多軸電子レンズ16、第2多軸電子レンズ24、第3多軸電子レンズ34、第4多軸電子レンズ36、及び第5多軸電子レンズ62のそれぞれが所望の位置において電子ビームを集束すべく、それぞれの多軸電子レンズに電流を供給する。
【0020】
成形偏向制御部84は、第1成形偏向部18及び第2成形偏向部20を制御する。ブランキング電極アレイ制御部86は、ブランキング電極アレイ26に含まれる偏向電極に印加する電圧を制御する。偏向制御部92は、偏向部60に含まれる複数の偏向器が有する偏向電極に印加する電圧を制御する。ウェハステージ制御部96は、ウェハステージ駆動部48を制御し、ウェハステージ46を所定の位置に移動させる。
【0021】
本実施形態に係る電子ビーム露光装置100の動作について説明する。まず、電子ビーム発生部10が、複数の電子ビームを生成する。電子ビーム発生部10において、発生された電子ビームは、第1成形部材14に照射され、成形される。
【0022】
第1多軸電子レンズ16は、矩形に成形された複数の電子ビームを独立に収束し、第2成形部材22に対する電子ビームの焦点調整を、電子ビーム毎に独立に行う。第1成形偏向部18は、矩形に成形された複数の電子ビームを、電子ビーム毎に独立して、第2成形部材に対して所望の位置に偏向する。第2成形偏向部20は、第1成形偏向部18で偏向された複数の電子ビームを、電子ビーム毎に独立に第2成形部材22に対して略垂直方向に偏向する。矩形形状を有する複数の開口部を含む第2成形部材22は、各開口部に照射された矩形の断面形状を有する複数の電子ビームを、ウェハ44に照射されるべき所望の矩形の断面形状を有する電子ビームにさらに成形する。
【0023】
第2多軸電子レンズ24は、複数の電子ビームを独立に収束して、ブランキング電極アレイ26に対する電子ビームの焦点調整を、電子ビーム毎に独立に行う。第2多軸電子レンズ24より焦点調整された電子ビームは、ブランキング電極アレイ26に含まれる複数のアパーチャを通過する。
【0024】
ブランキング電極アレイ制御部86は、ブランキング電極アレイ26に形成された、各アパーチャの近傍に設けられた偏向電極に電圧を印加するか否かを制御する。ブランキング電極アレイ26は、偏向電極に印加される電圧に基づいて、電子ビームをウェハ44に照射させるか否かを切替える。
【0025】
ブランキング電極アレイ26により偏向されない電子ビームは、第3多軸電子レンズ34により電子ビーム径を縮小されて、電子ビーム遮蔽部材28に含まれる開口部を通過する。第4多軸電子レンズ36が、複数の電子ビームを独立に収束して、偏向部60に対する電子ビームの焦点調整を、電子ビーム毎に独立に行い、焦点調整をされた電子ビームは、偏向部60に含まれる偏向器に入射される。
【0026】
偏向制御部92が、偏向部60に含まれる複数の偏向器を独立に制御する。偏向部60は、複数の偏向器に入射される複数の電子ビームを、電子ビーム毎に独立にウェハ44の所望の露光位置に偏向する。偏向部60を通過した複数の電子ビームは、第5多軸電子レンズ62により、ウェハ44に対する焦点が調整され、ウェハ44に照射される。
【0027】
露光処理中、ウェハステージ制御部96は、一定方向にウェハステージ48を動かす。ブランキング電極アレイ制御部86は露光パターンデータに基づいて、電子ビームを通過させるアパーチャを定め、各アパーチャに対する電力制御を行う。ウェハ44の移動に合わせて、電子ビームを通過させるアパーチャを適宜、変更し、さらに偏向部60により電子ビームを偏向することによりウェハ44に所望の回路パターンを露光することが可能となる。
【0028】
図2は、本実施形態に係る第1多軸電子レンズ16の構成を示す。図2(a)は、第1多軸電子レンズ16の上面図である。また、図2(b)は、第1多軸電子レンズ16の断面図である。第1多軸電子レンズ16は、複数の電子ビームがそれぞれ通過する複数のレンズ開口部204が設けられたレンズ部磁性導体部202と、レンズ部磁性導体部202の周囲に設けられ、複数のレンズ開口部204に磁界を生成するコイル部212と、コイル部212の囲むように設けられたコイル部磁性導体部200と、コイル部212に隣接して設けられコイル部212を冷却する冷却部208と、コイル部212とレンズ部磁性導体部202との間に設けられた断熱板210とを有する。
【0029】
冷却部208は、冷媒が通過する冷却路206が設けられており、冷却路206に冷媒が供給されることによって冷却され、コイル部212を冷却する。したがって、冷却部208は、例えば銅などの熱伝導率が高い材質で形成されることが好ましい。また、冷却部208とコイル部212との接触面は広いことが好ましく、冷却部208はコイル部212に押圧されることが好ましい。また、断熱板210は、コイル部212に接触しないように設けられることが好ましい。断熱板210は、コイル部212から発生した熱を遮蔽し、レンズ部磁性導体部202に伝わらないようにすることができる。
【0030】
図3は、冷却部208、220、222、224,及び226に冷媒を供給する供給系を示す。電子ビーム露光装置100は、第1多軸電子レンズ16の冷却部208に冷媒を供給する冷媒供給部214aと、第2多軸電子レンズ24の冷却部220に冷媒を供給する冷媒供給部214bと、第3多軸電子レンズ34の冷却部222に冷媒を供給する冷媒供給部214cと、第4多軸電子レンズ36の冷却部224に冷媒を供給する冷媒供給部214dと、及び第5多軸電子レンズ62の冷却部226に冷媒を供給する冷媒供給部214eと、第1多軸電子レンズ16の温度を取得する温度取得部216aと、第2多軸電子レンズ24の温度を取得する温度取得部216bと、第3多軸電子レンズ34の温度を取得する温度取得部216cと、第4多軸電子レンズ36の温度を取得する温度取得部216dと、第5多軸電子レンズ62の温度を取得する温度取得部216eと、冷媒供給部214a、214b、214c、214d、及び214eが冷却部208、220、220、224、及び226に供給する冷媒の流量を調整し、冷却部208、220、220、224、及び226の温度を制御する冷却制御部218とをさらに備える。
【0031】
温度取得部216a、216b、216c、216d、及び216eのそれぞれは、第1多軸電子レンズ16のコイル部212、第2多軸電子レンズ24のコイル部238、第3多軸電子レンズ34のコイル部240、第4多軸電子レンズ36のコイル部242、及び第5多軸電子レンズ62のコイル部244のそれぞれの温度を取得することが好ましい。また、温度取得部216a、216b、216c、216d、及び216eのそれぞれは、第1多軸電子レンズ16の磁性導体部202、第2多軸電子レンズ24の磁性導体部246、第3多軸電子レンズ34の磁性導体部248、第4多軸電子レンズ36の磁性導体部250、及び第5多軸電子レンズ62の磁性導体部252のそれぞれにおいて、複数箇所の温度を測定し、それぞれの磁性導体部の温度分布を取得することが好ましい。
【0032】
冷却制御部218は、第1多軸電子レンズ16のコイル部212と、第2多軸電子レンズ24のコイル部238と、第3多軸電子レンズ34のコイル部240と、第4多軸電子レンズ36のコイル部242と、第5多軸電子レンズ62のコイル部244とが略等しい温度になるように、冷却部208、220、222、224、及び226の温度を制御することが好ましい。また、冷却制御部218は、第1多軸電子レンズ16の磁性導体部202と、第2多軸電子レンズ24の磁性導体部246と、第3多軸電子レンズ34の磁性導体部248と、第4多軸電子レンズ36の磁性導体部250と、第5多軸電子レンズ62の磁性導体部252とが略等しい温度分布になるように、冷却部208、220、222、224、及び226の温度を制御することが好ましい。
【0033】
また、冷却制御部218は、冷却部208、220、222、224、及び226の温度を制御することにより、磁性導体部202に設けられたレンズ開口部204と、磁性導体部246に設けられたレンズ開口部228と、磁性導体部248に設けられたレンズ開口部230と、磁性導体部250に設けられたレンズ開口部232と、磁性導体部252に設けられたレンズ開口部234との相対的な位置を制御することが好ましい。また、冷却制御部218は、コイル部212、238、240、242、及び244に供給される電流に基づいて、供給する冷媒の流量を制御してもよい。
【0034】
本実施形態の電子ビーム露光装置100によれば、第1多軸電子レンズ16、第2多軸電子レンズ24、第3多軸電子レンズ34、第4多軸電子レンズ36、及び第5多軸電子レンズ62に冷却機能を設け、温度変動による磁性導体部材の変形を低減させ、又は一様にすることにより、磁性導体部材に設けられたレンズ開口部の相対的な位置を、複数の磁性導体部材間で一致させることができ、複数の電子ビームを精度よくウェハに照射させることができる。
【0035】
また、冷却制御部218は、温度取得部216a、216b、216c、216d、及び216eによって取得されたそれぞれの多軸電子レンズの温度に基づいて、冷却部208、220、222、224、及び226の温度を制御するため、それぞれの多軸電子レンズに異なる電流が供給された場合においても、磁性導体部材に設けられたレンズ開口部の相対的な位置を、複数の磁性導体部材間で一致させることができ、複数の電子ビームを精度よくウェハに照射させることができる。
【0036】
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、上記実施形態はクレームにかかる発明を限定するものではなく、また実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。また、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることができる。そのような変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【0037】
【発明の効果】
上記説明から明らかなように、本発明の電子ビーム露光装置によれば、複数の多軸電子レンズに冷却機能を設け、電子ビームが通過するレンズ開口部が設けられた磁性導体部材の温度変動による伸縮又は膨張を低減させ、精度よくウェハにパターンを露光することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置100の構成を示す図である。
【図2】第1多軸電子レンズ16の構成を示す図である。
【図3】冷却部208、220、222、224,及び226に冷媒を供給する供給系を示す図である。
【符号の説明】
8・・筐体、10・・電子ビーム発生部、14・・第1成形部材、16・・第1多軸電子レンズ、18・・第1成形偏向部、20・・第2成形偏向部、22・・第2成形部材、24・・第2多軸電子レンズ、26・・ブランキング電極アレイ、28・・電子ビーム遮蔽部材、34・・第3多軸電子レンズ、36・・第4多軸電子レンズ、60・・偏向部、44・・ウェハ、46・・ウェハステージ、48・・ウェハステージ駆動部、62・・第5多軸電子レンズ、80・・電子ビーム制御部、82・・多軸電子レンズ制御部、84・・成形偏向制御部、86・・ブランキング電極アレイ制御部、92・・偏向制御部、96・・ウェハステージ制御部、100・・電子ビーム露光装置、110・・電子ビーム成形手段、112・・照射切替手段、114・・ウェハ用投影系、120・・個別制御系、130・・統括制御部、140・・制御系、150・・露光部、200・・コイル部磁性導体部、202・・レンズ部磁性導体部、204・・レンズ開口部、206・・冷却路、208・・冷却部、210・・断熱板、212・・コイル部、214・・冷媒供給部、216・・温度取得部、218・・冷却制御部
Claims (6)
- 複数の電子ビームにより、ウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、
前記複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、
前記複数の電子ビームのそれぞれが通過する複数の第1レンズ開口部が設けられた第1磁性導体部と、前記第1磁性導体部の周囲に設けられ、前記複数の第1レンズ開口部に磁界を生成する第1コイル部と、前記第1コイル部に隣接して設けられ、前記第1コイル部を冷却する第1冷却部とを有し、前記複数の電子ビームを独立に集束する第1電子レンズ部と、
前記複数の電子ビームのそれぞれが通過する複数の第2レンズ開口部が設けられた第2磁性導体部と、前記第2磁性導体部の周囲に設けられ、前記複数の第2レンズ開口部に磁界を生成する第2コイル部と、前記第2コイル部に隣接して設けられ、前記第2コイル部を冷却する第2冷却部とを有し、前記複数の電子ビームを独立に集束する第2電子レンズ部と、
前記第1冷却部及び前記第2冷却部の温度を制御することにより、前記第1磁性導体部に設けられた前記第1レンズ開口部と、前記第2磁性導体部に設けられた前記第2レンズ開口部との相対的な位置を制御する冷却制御部と
を備える電子ビーム露光装置。 - 前記冷却制御部は、前記第1コイル部と前記第2コイル部とが略等しい温度になるように、前記第1冷却部及び前記第2冷却部の温度を制御する請求項1に記載の電子ビーム露光装置。
- 前記冷却制御部は、前記第1磁性導体部と前記第2磁性導体部とが略等しい温度分布になるように、前記第1冷却部及び前記第2冷却部の温度を制御する請求項1または請求項2に記載の電子ビーム露光装置。
- 前記第1冷却部及び前記第2冷却部は、冷媒が通過する冷却路を含み、
前記冷却制御部は、前記冷却路を通過する前記冷媒の流量を制御する請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。 - 前記冷却制御部は、前記第1コイル部及び前記第2コイル部に供給される電流に基づいて、前記冷媒の前記流量を制御する請求項4に記載の電子ビーム露光装置。
- 前記第1電子レンズ部は、前記第1磁性導体部と前記第1コイル部との間に設けられた断熱板をさらに有し、前記第2電子レンズ部は、前記第2磁性導体部と前記第2コイル部との間に設けられた断熱板をさらに有する請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
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