JP6593090B2 - 支持ケース及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents
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Description
図1は、第1の実施形態に係る描画装置の概略構成図である。図1に示す描画装置100は、マルチ荷電粒子ビーム描画装置の一例である。描画装置100は、電子鏡筒102と描画室103とを備えている。電子鏡筒102内には、電子銃111、照明レンズ112、アパーチャ部材113、ブランキングプレート114、縮小レンズ115、制限アパーチャ部材116、対物レンズ117及び偏向器118が配置されている。ブランキングプレート114は実装基板40に実装(搭載)され、この実装基板40を支持する支持ケース10が電子鏡筒102内に配置されている。
図10は第2の実施形態に係る支持ケースの図4に相当する断面図である。図4に示す第1の実施形態と同様の箇所は同じ参照番号を付して説明を省略する。図10に示す支持ケース10Aは、空間Sにガスを供給するガスボンベ60を備える。
図11は第3の実施形態に係る支持ケースの図4に相当する断面図である。図4に示す第1の実施形態と同様の箇所は同じ参照番号を付して説明を省略する。図11に示すように、実装基板40は長手方向の長さが支持ケース10Bよりも大きく、支持ケース10Bの側壁部を貫通して実装基板40が配置される。
図12は第4の実施形態に係る支持ケースの図4に相当する断面図である。図4に示す第1の実施形態と同様の箇所は同じ参照番号を付して説明を省略する。図12に示すように、ブランキングプレート114を搭載する基板40Aと、回路素子45を搭載する基板40Bとが別体となっている。
図13は第5の実施形態に係る支持ケースの図4に相当する断面図である。図13に示すように、支持ケース10Dの上側ケース部30は、上側開口33の周縁の少なくとも一部から内側(開口中心側)に張り出した庇部36を備える。
20 下側ケース部
30 上側ケース部
40 実装基板
45 回路素子
51,52 Oリング
53 熱伝導シート
58 伝熱ケーブル
100 描画装置
101 基板
102 電子鏡筒
103 描画室
114 ブランキングプレート
140 回転部
150 冷却板
Claims (5)
- マルチ荷電粒子ビーム描画装置にて複数のビームを個別にブランキング偏向するブランキングプレートの実装基板を支持する支持ケースであって、
底板部、前記底板部の周縁から起立する下側周壁部、及び前記底板部の板央部に設けられた下側開口の周縁から起立する下側支持筒部を有する下側ケース部と、
天蓋部、前記天蓋部の周縁から垂下する上側周壁部、及び前記天蓋部の板央部に設けられた上側開口の周縁から垂下する上側支持筒部を有する上側ケース部と、
を備え、
前記下側周壁部と前記上側周壁部とが重なり、前記下側支持筒部及び前記上側支持筒部が前記実装基板を挟持し、
前記実装基板のうち、前記下側支持筒部及び前記上側支持筒部による挟持箇所より周縁側の周縁領域が、前記下側ケース部の前記底板部、前記下側周壁部及び前記下側支持筒部と、前記上側ケース部の前記天蓋部、前記上側周壁部及び前記上側支持筒部とに囲まれた空間内に配置されることを特徴とする支持ケース。 - 前記下側支持筒部と前記実装基板との間には第1Oリングが配置され、前記上側支持筒部と前記実装基板との間には第2Oリングが配置され、前記下側支持筒部及び前記上側支持筒部はそれぞれ前記第1Oリング及び前記第2Oリングを介して前記実装基板を挟持し、
前記上側支持筒部の下端面には、下方へ張り出した突起部が円環状に設けられており、前記突起部の外径は、前記第2Oリングのリングの内径よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の支持ケース。 - 前記実装基板の周縁領域上に回路素子が設けられており、
前記回路素子上には熱伝導シートが設けられており、
前記熱伝導シートは前記上側ケース部に接触していることを特徴とする請求項1又は2に記載の支持ケース - 前記下側ケース部又は前記上側ケース部には、圧力逃がし弁が設けられていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の支持ケース。
- 試料を載置する、連続移動可能なステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の開口部を有し、前記複数の開口部全体が含まれる領域に前記荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャ部材と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数のブランカを有するブランキングプレートと、
前記ブランキングプレートを実装する実装基板を支持する請求項1乃至4のいずれかに記載の支持ケースと、
前記支持ケースを回転させる回転部と、
前記複数のブランカによってビームオフの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する制限アパーチャ部材と、
前記制限アパーチャ部材を通過したマルチビームの焦点を前記試料上へと合わせるレンズと、
を備えるマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
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