JP2003332216A - 電子ビーム露光装置及びブロックマスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ショット数を低減することにより、スループ
ットを向上させる電子ビーム露光装置を提供する。 【解決手段】 電子ビームによりウェハを露光する電子
ビーム露光装置であって、電子ビームを発生する電子ビ
ーム発生部と、所定領域内に少なくとも１つのパターン
開口が設けられた複数の開口ブロックを有し、電子ビー
ムの成形するブロックマスクと、複数の開口ブロックの
うちの第１開口ブロックにより成形された第１成形電子
ビームによって第１開口ブロックに対応してウェハに投
影される第１投影領域と第２開口ブロックにより成形さ
れた第２成形電子ビームによって第２開口ブロックに対
応してウェハに投影される第２投影領域とが少なくとも
一部重なるように第１成形電子ビーム及び第２成形電子
ビームを偏向する偏向部とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム露光装
置及びブロックマスクに関する。特に本発明は、ショッ
ト数を低減することにより、スループットを向上させる
電子ビーム露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子ビームを用いたウェハの露光技術と
して、可変矩形露光、ブロック露光（部分一括露光）等
が実現されている。可変矩形露光とは、矩形形状の開口
を有する２つのスリットを用いて、１ショット毎に電子
ビームの断面形状を所望の矩形形状に成形してウェハを
露光する技術である。また、ブロック露光とは、異なる
形状の複数の開口ブロックを有するブロックマスクの、
所望の開口ブロックに電子ビームを照射することにより
電子ビームを成形してウェハを露光する技術である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】可変矩形露光では、１
ショットで１矩形しか露光できないので、不規則性の大
きいパターンをウェハに露光する場合には、ショット数
が多くなりスループットが悪化するという問題がある。
また、ブロック露光では、ショット数を低減することが
できるが、不規則性の大きいパターンをウェハに露光す
る場合には、形状の異なる多数の開口ブロックが必要に
なるので、ブロックマスクの製造に時間及びコストが掛
るという問題がある。

【０００４】そこで本発明は、上記の課題を解決するこ
とのできる電子ビーム露光装置及びブロックマスクを提
供することを目的とする。この目的は特許請求の範囲に
おける独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成され
る。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定す
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明の第１の形
態によると、電子ビームによりウェハを露光する電子ビ
ーム露光装置であって、電子ビームを発生する電子ビー
ム発生部と、所定領域内に少なくとも１つのパターン開
口が設けられた複数の開口ブロックを有し、電子ビーム
の成形するブロックマスクと、複数の開口ブロックのう
ちの第１開口ブロックにより成形された第１成形電子ビ
ームによって第１開口ブロックに対応してウェハに投影
される第１投影領域と、第２開口ブロックにより成形さ
れた第２成形電子ビームによって第２開口ブロックに対
応してウェハに投影される第２投影領域とが、少なくと
も一部重なるように第１成形電子ビーム及び第２成形電
子ビームを偏向する第１偏向部とを備える。

【０００６】電子ビームを矩形に成形する電子ビーム成
形部と、電子ビーム成形部により成形された電子ビーム
の第１開口ブロックに対する照射位置を制御する第３偏
向部をさらに備えてもよい。

【０００７】第１開口ブロックは、複数の第１パターン
開口を有し、第２開口ブロックは、複数の第１パターン
開口と異なる間隔で設けられた複数の第２パターン開口
を有してもよい。

【０００８】第１開口ブロックと、第１開口ブロックに
隣接する第２開口ブロックとの間隔は、第２開口ブロッ
クと、第２開口ブロックに対して第１開口ブロックと対
向する位置に設けられる第３開口ブロックとの間隔と異
なってもよい。

【０００９】第１偏向部は、第１投影領域と第２投影領
域とが、略同一になるように第１成形電子ビーム及び第
２成形電子ビームを偏向してもよい。

【００１０】第１成形電子ビーム及び第２成形電子ビー
ムの光軸が略同一になるように、第１成形電子ビーム及
び第２成形電子ビームを偏向する第２偏向部をさらに備
え、第１偏向部は、第１成形電子ビーム及び第２成形電
子ビームを略同一の偏向量で偏向してもよい。

【００１１】第２偏向部は、第１開口ブロック又は第２
開口ブロックのそれぞれの位置に基づいて、第１成形電
子ビーム又は第２成形電子ビームのそれぞれを偏向して
もよい。

【００１２】本発明の第２の形態によると、電子ビーム
によりウェハを露光する電子ビーム露光装置であって、
電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、所定領域内
に少なくとも１つのパターン開口が設けられた複数の開
口ブロックを有し、電子ビームの成形するブロックマス
クと、ブロックマスクにより成形された電子ビームがウ
ェハにおける所望の位置に照射されるように偏向する偏
向部とを備え、複数の開口ブロックのうちの第１開口ブ
ロックと、第１開口ブロックに隣接する第２開口ブロッ
クとの間隔は、第２開口ブロックと、第２開口ブロック
に対して第１開口ブロックと対向する位置に設けられる
第３開口ブロックとの間隔と異なる。

【００１３】本発明の第３の形態によると、電子ビーム
を所望の形状に成形するブロックマスクであって、所定
領域内に少なくとも１つのパターン開口が設けられた複
数の開口ブロックを備え、複数の開口ブロックのうちの
第１開口ブロックと、第１開口ブロックに隣接する第２
開口ブロックとの間隔は、第２開口ブロックと、第２開
口ブロックに対して第１開口ブロックと対向する位置に
設けられる第３開口ブロックとの間隔と異なる。

【００１４】なお上記の発明の概要は、本発明の必要な
特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群の
サブコンビネーションも又発明となりうる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態を通じて
本発明を説明するが、以下の実施形態はクレームにかか
る発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明
されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に
必須であるとは限らない。

【００１６】図１は、本発明の一実施形態に係る電子ビ
ーム露光装置１００の構成の一例を示す。電子ビーム露
光装置１００は、電子ビームによりウェハ４４に所定の
露光処理を施す露光系１５０と、露光系１５０に含まれ
る各構成の動作を制御する制御系１４０を備える。

【００１７】露光系１５０は、筐体８内部において複数
の電子ビームを発生し、電子ビームの断面形状を所望に
成形する電子ビーム成形手段１１０と、複数の電子ビー
ムをウェハ４４に照射するか否かを、それぞれの電子ビ
ームに対して独立に切替える照射切替手段１１２と、ウ
ェハ４４に転写されるパターンの像の向き及びサイズを
調整するウェハ用投影系１１４を含む電子光学系とを備
える。また、露光系１５０は、パターンを露光すべきウ
ェハ４４を載置するウェハステージ４６と、ウェハステ
ージ４６を駆動するウェハステージ駆動部４８とを含む
ステージ系を備える。

【００１８】電子ビーム成形手段１１０は、複数の電子
銃により複数の電子ビームを発生させる電子ビーム発生
部１０と、電子ビームの断面形状を矩形に成形する複数
の開口部を有する電子ビーム成形部１４と、複数の電子
ビームをそれぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦
点を調整する第１多軸電子レンズ１６と、電子ビーム成
形部１４を通過した複数の電子ビームを独立に偏向する
第１成形偏向部１８及び第２成形偏向部２０と、複数の
開口ブロックを電子ビーム毎に有するブロックマスク２
２と、ブロックマスク２２を通過した複数の電子ビーム
を独立に偏向する第３成形偏向部２３及び第４成形偏向
部２５とを有する。

【００１９】照射切替手段１１２は、複数の電子ビーム
を独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第
２多軸電子レンズ２４と、複数の電子ビームをそれぞれ
独立に偏向させることにより、それぞれの電子ビームを
ウェハ４４に照射するか否かを、それぞれの電子ビーム
に対して独立に切替えるブランキング電極アレイ２６
と、電子ビームを通過させる複数の開口部を含み、ブラ
ンキング電極アレイ２６で偏向された電子ビームを遮蔽
する電子ビーム遮蔽部材２８とを有する。

【００２０】ウェハ用投影系１１４は、複数の電子ビー
ムをそれぞれ独立に集束し、電子ビームの照射径を縮小
する第３多軸電子レンズ３４と、複数の電子ビームをそ
れぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整す
る第４多軸電子レンズ３６と、複数の電子ビームをウェ
ハ４４の所望の位置に、それぞれの電子ビームに対して
独立に偏向する主偏向部３８と、ウェハ４４に対する対
物レンズとして機能し、複数の電子ビームをそれぞれ独
立に集束する第５多軸電子レンズ５２とを有する。

【００２１】制御系１４０は、個別制御部１２０及び統
括制御部１３０を備える。個別制御部１２０は、電子ビ
ーム制御部８０、多軸電子レンズ制御部８２、成形偏向
制御部８４、ブランキング電極アレイ制御部８６、偏向
制御部９２、及びウェハステージ制御部９６を有する。
統括制御部１３０は、個別制御部１２０に含まれる各制
御部を統括制御する。

【００２２】電子ビーム制御部８０は、電子ビーム発生
部１０を制御する。多軸電子レンズ制御部８２は、第１
多軸電子レンズ１６、第２多軸電子レンズ２４、第３多
軸電子レンズ３４、第４多軸電子レンズ３６、及び第５
多軸電子レンズ５２のコイルに供給する電流を制御す
る。成形偏向制御部８４は、第１成形偏向部１８、第２
成形偏向部２０、第３成形偏向部２３、及び第４成形偏
向部２５のそれぞれの偏向電極に印加する電圧を制御す
る。ブランキング電極アレイ制御部８６は、ブランキン
グ電極アレイ２６の偏向電極に印加する電圧を制御す
る。偏向制御部９２は、主偏向部３８の偏向電極に印加
する電圧を制御する。ウェハステージ制御部９６は、ウ
ェハステージ駆動部４８を制御し、ウェハステージ４６
を所定の位置に移動させる。

【００２３】次に、電子ビーム露光装置１００の動作に
ついて説明する。まず、電子ビーム発生部１０は、複数
の電子ビームを発生する。電子ビーム成形部１４は、電
子ビーム発生部１０が発生した複数の電子ビームを、電
子ビーム成形部１４に設けられた複数の矩形形状の開口
部をそれぞれ通過させることにより矩形に成形する。

【００２４】第１多軸電子レンズ１６は、矩形に成形さ
れた複数の電子ビームを独立に集束し、ブロックマスク
２２に対する電子ビームの焦点を、電子ビーム毎に独立
に調整する。第１成形偏向部１８及び第２成形偏向部２
０は、電子ビーム成形部１４において矩形に成形された
複数の電子ビームを、ブロックマスク２２における所望
の位置に照射するようにそれぞれ独立に偏向し、ブロッ
クマスク２２に照射する。

【００２５】ブロックマスク２２は、矩形に成形された
複数の電子ビームを、ウェハ４４に照射すべき所望の断
面形状に成形する。第３成形偏向部２３及び第４成形偏
向部２５は、ブロックマスク２２を通過した複数の電子
ビームを、第２多軸電子レンズ２４のレンズ開口におけ
る所望の位置に照射するようにそれぞれ独立に偏向す
る。

【００２６】第２多軸電子レンズ２４は、複数の電子ビ
ームを独立に集束して、ブランキング電極アレイ２６に
対する電子ビームの焦点を、それぞれ独立に調整する。
ブランキング電極アレイ２６は、ブランキング電極アレ
イ制御部８６の制御に基づいて偏向電極に印加される電
圧によって、電子ビームをウェハ４４に照射させるか否
かを切り替える。

【００２７】第３多軸電子レンズ３４は、入射された複
数の電子ビームの電子ビーム径をそれぞれ縮小する。ブ
ランキング電極アレイに２６により偏向されない電子ビ
ームは、第３多軸電子レンズ３４によって縮小された
後、電子ビーム遮蔽部材２８に含まれる開口部を通過す
る。また、電子ビーム遮蔽部材２８は、ブランキング電
極アレイ２６により偏向された電子ビームを遮蔽する。
電子ビーム遮蔽部材２８を通過した電子ビームは、第４
多軸電子レンズ３６に入射される。第４多軸電子レンズ
３６は、入射された複数の電子ビームをそれぞれ独立に
集束し、主偏向部３８に対する電子ビームの焦点をそれ
ぞれ調整する。第４多軸電子レンズ３６により焦点が調
整された複数の電子ビームは、主偏向部３８に入射され
る。

【００２８】主偏向部３８は、入射された複数の電子ビ
ームを、ウェハ４４に対して照射すべき位置にそれぞれ
独立に偏向する。第５多軸電子レンズ５２は、入射され
た複数の電子ビームのウェハ４４に対する焦点を調整す
る。そして、ウェハ４４に照射すべき断面形状を有する
複数の電子ビームが、ウェハ４４に対して照射すべき所
望の位置に照射される。

【００２９】露光処理中、ウェハステージ駆動部４８
は、ウェハステージ制御部９６からの指示に基づき、一
定方向にウェハステージ４６を連続移動させるのが好ま
しい。そして、ウェハ４４の移動に合わせて、電子ビー
ムの断面形状をウェハ４４に照射すべき形状に成形し、
ウェハ４４に照射すべき電子ビームを通過させるアパー
チャを定め、さらに主偏向部３８によりそれぞれの電子
ビームをウェハ４４に対して照射すべき位置に偏向させ
ることにより、ウェハ４４に所望のパターンを露光する
ことができる。

【００３０】図２は、ブロックマスク２２の構造の一例
を示す。ブロックマスク２２は、複数の電子銃のそれぞ
れに対応して設けられた複数の開口ブロック群２１０を
有する。開口ブロック群２１０は、それぞれ異なる形状
のパターン開口が設けられた複数の開口ブロック２００
を含む。ウェハ４４に照射すべき形状のパターン開口が
設けられた開口ブロック２００に電子ビームを通過させ
ることにより、ウェハ４４に所望のパターンを露光する
ことができる。

【００３１】図３（ａ）〜（ｄ）は、開口ブロック２０
０の一例を示す。ブロックマスク２２は、図３（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）、又は（ｄ）に示す複数の開口ブロック
２００を含む開口ブロック群２１０を有する。開口ブロ
ック２００は、所定領域２２０内に少なくとも１つのパ
ターン開口２３０を有する。所定領域２３０は、矩形形
状であることが好ましい。

【００３２】図３（ｃ）に示すように、開口ブロック２
００−１は、所定の間隔で設けられた複数のパターン開
口２３０−１を有し、開口ブロック２００−２は、所定
の間隔と異なる間隔で設けられた複数のパターン開口２
３０−２を有してもよい。複数のパターン開口２３０−
１及び２３０−２は、略同一の形状であってよい。

【００３３】図３（ｄ）に示すように、第１成形偏向部
１８及び第２成形偏向部２０は、照射領域２４０又は２
４２に電子ビームを照射させ、開口ブロック２００の一
部を用いて電子ビームの断面形状を成形してもよい。こ
れにより、少ない開口ブロック２００を用いて、多様な
パターンを露光することができる。

【００３４】図３（ｄ）に示すように、開口ブロック２
００−３と、開口ブロック２００−３に隣接する開口ブ
ロック２００−４との間隔は、開口ブロック２００−４
と、開口ブロック２００−４に対して開口ブロック２０
０−３と対向する位置に設けられる開口ブロック２００
−５との間隔と異なってもよい。開口ブロック２００−
３と開口ブロック２００−４との間隔は、ブロックマス
ク２２における電子ビームの幅よりも広くてもよい。開
口ブロック２００−３と開口ブロック２００−４との間
隔を広くすることにより、電子ビームが照射領域２４２
を照射した場合に、隣接する開口ブロック２００−３の
パターン開口２３０を電子ビームが通過することを防ぐ
ことができる。即ち、隣接する開口ブロック２００との
間隔が広い開口ブロック２００は、隣接する開口ブロッ
ク２００との間隔が狭い開口ブロック２００に比べて、
電子ビームが照射される位置の自由度を大きくすること
ができので、電子ビームを様々な形状に成形することが
できる。

【００３５】図４は、電子ビームの照射経路を示す。第
１成形偏向部１８は、電子ビーム成形部１４によって矩
形に成形された電子ビームをブロックマスク２２に対す
る照射位置を制御すべく偏向する。即ち、電子ビームが
開口ブロック２００ａ又は２００ｂに照射されるように
電子ビームを偏向する。そして、第２成形偏向部２０
は、第１成形偏向部１８に偏向された電子ビームの軌道
をブロックマスク２２に略垂直に偏向する。そして、開
口ブロック２００ａを通過して成形された電子ビームを
電子ビーム４００ａ、開口ブロック２００ｂを通過して
成形された電子ビームを電子ビーム４００ｂとする。

【００３６】次に、第３成形偏向部２３は、開口ブロッ
ク２００ａ又は２００ｂのそれぞれの位置に基づいて、
開口ブロック２００ａ又は２００ｂによって成形された
電子ビームを振り戻す。つまり、第３成形偏向部２３
は、第１成形偏向部１８の偏向量と略同一の偏向量によ
り、第１成形偏向部１８による偏向方向と反対の方向に
電子ビームを偏向する。そして、第４成形偏向部２５
は、第３成形偏向部２３に偏向された電子ビームの軌道
をウェハ４４に略垂直に偏向する。即ち、第３成形偏向
部２３及び第４成形偏向部２５は、開口ブロック２００
ａを通過した電子ビーム４００ａの光軸と、開口ブロッ
ク２００ｂを通過した電子ビーム４００ｂの光軸とが略
同一になるように電子ビームを偏向する。

【００３７】次に、主偏向部３８は、第４成形偏向部２
５を通過した電子ビームをウェハに対する照射位置を制
御すべく偏向する。主偏向部３８は、電子ビーム４００
ａによって開口ブロック２００ａに対応してウェハ４４
に投影される投影領域３００ａと、電子ビーム４００ｂ
によって開口ブロック２００ｂに対応してウェハ４４に
投影される投影領域３００ｂとが、少なくとも一部重な
るように電子ビーム４００ａ及び４００ｂを偏向しても
よい。また、主偏向部３８は、投影領域３００ａと投影
領域３００ｂとが、略同一になるように電子ビーム４０
０ａ及びで４００ｂを偏向してもよい。即ち、主偏向部
３８は、電子ビーム４００ａ及び電子ビーム４００ｂを
略同一の偏向量で偏向してもよい。

【００３８】本実施形態に係る電子ビーム露光装置によ
れば、異なる開口ブロックを通過することにより成形さ
れた電子ビームを、ウェハ４４において重ねて露光する
ことにより、少数の開口ブロックで多様なパターンを露
光することができる。

【００３９】図５は、ウェハ４４に形成されるパターン
の一例を示す。従来の可変矩形露光により、図５に示し
たパターンを形成する場合、１矩形づつ照射しなければ
ならないので９３ショットの露光が必要になる。本実施
形態に係る電子ビーム露光装置１０は、図３（ｄ）に示
す複数の開口ブロック２００を有するブロックマスク２
２を用いて図５に示したパターンを形成する場合、露光
領域５００ａ〜５００ｈ、５００ｍ〜５００ｐ、及び５
００ｊはそれぞれ２ショット、露光領域５００ｉは５シ
ョット、露光領域５００ｏ及び５００ｐはそれぞれ６シ
ョット、合計４３ショットで露光できる。

【００４０】本実施形態に係る電子ビーム露光装置１０
０によれば、ブロックマスク２２が略同一の形状のパタ
ーン開口２３０を含む複数の開口ブロック２００を有す
るので、不規則性の大きい配線パターン等を少ないショ
ット数でウェハ４４に露光することができる。そのた
め、電子ビーム露光装置１０は、スループットを向上さ
せることができる。

【００４１】以上、本発明を実施の形態を用いて説明し
たが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲
には限定されない。上記実施形態に、多様な変更または
改良を加えることができる。そのような変更または改良
を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ること
が、特許請求の範囲の記載から明らかである。

【００４２】

【発明の効果】上記説明から明らかなように、本発明に
係る電子ビーム露光装置よれば、ショット数を低減させ
ることができるので、スループットを向上させることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置
１００の構成の一例を示す図。

【図２】ブロックマスク２２の構造の一例を示す図。

【図３】開口ブロック２００の一例を示す図。

【図４】電子ビームの照射経路を示す図。

【図５】ウェハ４４に形成されるパターンの一例を示す
図。

【符号の説明】

８ 筐体 １０ 電子
ビーム発生部 １４ 電子ビーム成形部 １６ 第１
多軸電子レンズ １８ 第１成形偏向部 ２０ 第２
成形偏向部 ２２ ブロックマスク ２３ 第３
成形偏向部 ２４ 第２多軸電子レンズ ２５ 第４
成形偏向部 ２６ ブランキング電極アレイ ２８ 電子
ビーム遮蔽部材 ３４ 第３多軸電子レンズ ３６ 第４
多軸電子レンズ ３８ 主偏向部 ４４ ウェ
ハ ４６ ウェハステージ ４８ ウェ
ハステージ駆動部 ５２ 第５多軸電子レンズ ８０ 電子
ビーム制御部 ８２ 多軸電子レンズ制御部 ８４ 成形
偏向制御部 ８６ ブランキング電極アレイ制御部 ９２ 偏向
制御部 ９６ ウェハステージ制御部 １００ 電子
ビーム露光装置 １１０ 電子ビーム成形手段 １１２ 照射
切替手段 １１４ ウェハ用投影系 １２０ 個別
制御系 １３０ 統括制御部 １４０ 制御
系 １５０ 露光系 ２００ 開口
ブロック ２１０ 開口ブロック群 ２２０ 矩形
領域 ２３０ パターン開口 ３００ 投影
領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 駒見 英明 東京都練馬区旭町１丁目32番１号 株式会 社アドバンテスト内 Ｆターム(参考） 2H097 CA16 GB00 LA10 5F056 AA06 AA07 AA17 AA33 CB05 CB13 CB14 CC04 EA03 EA06 FA05

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電子ビームによりウェハを露光する電子
   ビーム露光装置であって、 前記電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、 所定領域内に少なくとも１つのパターン開口が設けられ
   た複数の開口ブロックを有し、前記電子ビームの成形す
   るブロックマスクと、 前記複数の開口ブロックのうちの第１開口ブロックによ
   り成形された第１成形電子ビームによって前記第１開口
   ブロックに対応して前記ウェハに投影される第１投影領
   域と、第２開口ブロックにより成形された第２成形電子
   ビームによって前記第２開口ブロックに対応して前記ウ
   ェハに投影される第２投影領域とが、少なくとも一部重
   なるように前記第１成形電子ビーム及び前記第２成形電
   子ビームを偏向する第１偏向部とを備えることを特徴と
   する電子ビーム露光装置。
2. 【請求項２】 前記電子ビームを矩形に成形する電子ビ
   ーム成形部と、 前記電子ビーム成形部により成形された前記電子ビーム
   の前記第１開口ブロックに対する照射位置を制御する第
   ３偏向部をさらに備えることを特徴とする請求項１に記
   載の電子ビーム露光装置。
3. 【請求項３】 前記第１開口ブロックは、複数の第１パ
   ターン開口を有し、 前記第２開口ブロックは、前記複数の第１パターン開口
   と異なる間隔で設けられた複数の第２パターン開口を有
   することを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム露光
   装置。
4. 【請求項４】 前記第１開口ブロックと、前記第１開口
   ブロックに隣接する前記第２開口ブロックとの間隔は、
   前記第２開口ブロックと、前記第２開口ブロックに対し
   て前記第１開口ブロックと対向する位置に設けられる第
   ３開口ブロックとの間隔と異なることを特徴とする請求
   項１に記載の電子ビーム露光装置。
5. 【請求項５】 前記第１偏向部は、前記第１投影領域と
   前記第２投影領域とが、略同一になるように前記第１成
   形電子ビーム及び前記第２成形電子ビームを偏向するこ
   とを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム露光装置。
6. 【請求項６】 前記第１成形電子ビーム及び前記第２成
   形電子ビームの光軸が略同一になるように、前記第１成
   形電子ビーム及び前記第２成形電子ビームを偏向する第
   ２偏向部をさらに備え、 前記第１偏向部は、前記第１成形電子ビーム及び前記第
   ２成形電子ビームを略同一の偏向量で偏向することを特
   徴とする請求項５に記載の電子ビーム露光装置。
7. 【請求項７】 前記第２偏向部は、前記第１開口ブロッ
   ク又は前記第２開口ブロックのそれぞれの位置に基づい
   て、前記第１成形電子ビーム又は前記第２成形電子ビー
   ムのそれぞれを偏向することを特徴とする請求項６に記
   載の電子ビーム露光装置。
8. 【請求項８】 電子ビームによりウェハを露光する電子
   ビーム露光装置であって、 前記電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、 所定領域内に少なくとも１つのパターン開口が設けられ
   た複数の開口ブロックを有し、前記電子ビームの成形す
   るブロックマスクと、 前記ブロックマスクにより成形された前記電子ビームが
   前記ウェハにおける所望の位置に照射されるように偏向
   する偏向部とを備え、 前記複数の開口ブロックのうちの第１開口ブロックと、
   前記第１開口ブロックに隣接する第２開口ブロックとの
   間隔は、前記第２開口ブロックと、前記第２開口ブロッ
   クに対して前記第１開口ブロックと対向する位置に設け
   られる第３開口ブロックとの間隔と異なることを特徴と
   する電子ビーム露光装置。
9. 【請求項９】 電子ビームを所望の形状に成形するブロ
   ックマスクであって、 所定領域内に少なくとも１つのパターン開口が設けられ
   た複数の開口ブロックを備え、 前記複数の開口ブロックのうちの第１開口ブロックと、
   前記第１開口ブロックに隣接する第２開口ブロックとの
   間隔は、前記第２開口ブロックと、前記第２開口ブロッ
   クに対して前記第１開口ブロックと対向する位置に設け
   られる第３開口ブロックとの間隔と異なることを特徴と
   するブロックマスク。