JP2002190447A - 電子ビーム露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光すべき電子ビームの断面形状を、露光す
べきパターンに対して効率よく定めることができる電子
ビーム露光装置を提供する。 【解決手段】電子ビームを用いて、ウェハに露光処理を
行う電子ビーム露光装置であって、前記電子ビームの断
面形状を、第１の辺及び前記第１の辺に対して実質的に
垂直な第２の辺を含む矩形断面に成形する電子ビーム成
形手段１２０と、前記第１の辺の長さに基づいて、前記
第２の辺の長さ及び前記電子ビームの照射時間の少なく
とも一方を定める制御系１４０とを備えることを特徴と
する電子ビーム露光装置１００。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム露光装
置に関する。特に本発明は、効率よくウェハにパターン
を露光することができる電子ビーム露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子ビームを用いてウェハにパターンを
露光する従来の電子ビーム露光装置として、可変矩形式
電子ビーム露光装置がある。従来の可変矩形式電子ビー
ム露光装置は、所定の形状に電子ビームの断面形状を成
形した後に、ウェハに成形された電子ビームを照射する
ことによりウェハにパターンを露光する。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来の電子ビーム露光
装置は、ウェハに照射される電子ビームの断面形状が、
ウェハに露光すべきパターンに応じて効果的に定められ
ていないという問題がある。そのため、従来の電子ビー
ム露光装置は、効率よくウェハにパターンを露光するこ
とができないという問題が生じていた。

【０００４】そこで本発明は、上記の課題を解決するこ
とのできる電子ビーム露光装置を提供することを目的と
する。この目的は特許請求の範囲における独立項に記載
の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本
発明の更なる有利な具体例を規定する。

【０００５】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明の第１の形
態によると、電子ビームを用いて、ウェハに露光処理を
行う電子ビーム露光装置であって、電子ビームの断面形
状を、第１の辺及び第１の辺に対して実質的に垂直な第
２の辺を含む矩形断面に成形する成形手段と、第１の辺
の長さに基づいて、第２の辺の長さ及び電子ビームの照
射時間の少なくとも一方を定める制御手段とを備えるこ
とを特徴とする電子ビーム露光装置を提供する。

【０００６】また、制御手段は、ウェハに露光すべきパ
ターンに更に基づいて、第２の辺の長さ及び電子ビーム
の照射時間の少なくとも一方を定めてもよく、また、成
形手段は、電子ビームの断面形状を、矩形断面に成形す
る開口部を有する成形部材を有し、第２の辺の最大の長
さは、開口部の大きさによって制限されてもよい。

【０００７】また、制御手段は、矩形断面に成形された
電子ビームの電流密度と、矩形断面の面積と、照射時間
との積が実質的に一定となるように、第２の辺の長さ及
び照射時間の少なくとも一方を定めてもよく、また、制
御部は、矩形断面に成形された電子ビームの電流密度
と、矩形断面の面積との積が実質的に一定となるよう
に、第２の辺の長さを定めてもよい。

【０００８】また、矩形断面に成形された電子ビームを
偏向する変更手段を更に備え、偏向手段が矩形断面に成
形された電子ビームを偏向する範囲における露光すべき
パターンは、第３の辺及び第３の辺に対して実質的に垂
直な第４の辺を含み、第１の辺の長さは、第３の辺の長
さ及び第４の辺の長さに基づいて定まることが好まし
い。

【０００９】また、矩形断面の長手方向の辺の長さは、
開口部の大きさによって制限されてもよく、また、制御
手段は、矩形断面が、パターンに対して相似形となるよ
うに第１の辺の長さを定める手段を有してもよい。

【００１０】また、制御手段は、電子ビームを偏向する
範囲における露光すべきパターンを、成形された電子ビ
ームを照射すべき回数が最小となるように分割すべく第
１の辺の長さを定める手段を有してもよい。

【００１１】また、複数の電子ビームを生成する手段を
更に備え、成形手段は、それぞれの電子ビームの断面形
状を、第１の辺及び第１の辺に対して実質的に垂直な第
２の辺を含む矩形断面に成形し、制御手段は、それぞれ
の第１の辺の長さに基づいて、それぞれの第２の辺の長
さ及びそれぞれの電子ビームの照射時間の少なくとも一
方を定めることが好ましい。

【００１２】なお上記の発明の概要は、本発明の必要な
特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群の
サブコンビネーションも又発明となりうる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態を通じて
本発明を説明するが、以下の実施形態はクレームにかか
る発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明
されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に
必須であるとは限らない。

【００１４】図１は、本発明の一実施形態に係る電子ビ
ーム露光装置１００の構成を示す。電子ビーム露光装置
１００は、電子ビームによりウェハ４４に所定の露光処
理を施すための露光部１５０と、露光部１５０に含まれ
る各構成の動作を制御する制御系１４０を備える。

【００１５】露光部１５０は、筐体８内部で、複数の電
子ビームを発生し、電子ビームの断面形状を所望に成形
する電子ビーム成形手段１１０と、複数の電子ビームを
ウェハ４４に照射するか否かを、電子ビーム毎に独立に
切替える照射切替手段１１２と、ウェハ４４に転写され
るパターンの像の向き及びサイズを調整するウェハ用投
影系１１４を含む電子光学系を備える。また、露光部１
５０は、パターンを露光すべきウェハ４４を載置するウ
ェハステージ４６と、ウェハステージ４６を駆動するウ
ェハステージ駆動部４８とを含むステージ系を備える。

【００１６】電子ビーム成形手段１１０は、複数の電子
ビームを発生させる電子銃１０と、電子ビームを通過さ
せることにより、電子ビームの断面形状を成形する複数
の開口部を有する第１成形部材１４および第２成形部材
２２と、複数の電子ビームを独立に収束し、電子ビーム
の焦点を調整する第１多軸電子レンズ１６と、第１成形
部材１４を通過した複数の電子ビームを独立に偏向する
第１成形偏向部１８および第２成形偏向部２０とを有す
る。

【００１７】照射切替手段１１２は、複数の電子ビーム
を独立に収束し、電子ビームの焦点を調整する第２多軸
電子レンズ２４と、複数の電子ビームを、電子ビーム毎
に独立に偏向させることにより、電子ビームをウェハ４
４に照射するか否かを、電子ビーム毎に独立に切替える
ブランキング電極アレイ２６と、電子ビームを通過させ
る複数の開口部を含み、ブランキング電極アレイ２６で
偏向された電子ビームを遮蔽する電子ビーム遮蔽部材２
８とを有する。

【００１８】ウェハ用投影系１１４は、複数の電子ビー
ムを独立に収束し、電子ビームの照射径を縮小する第３
多軸電子レンズ３４と、複数の電子ビームを独立に収束
し、電子ビームの焦点を調整する第４多軸電子レンズ３
６と、複数の電子ビームを、ウェハ４４の所望の位置
に、電子ビーム毎に独立に偏向する偏向部６０と、ウェ
ハ４４に対する対物レンズとして機能し、複数の電子ビ
ームを独立に収束する第５多軸電子レンズ６２とを有す
る。

【００１９】制御系１４０は、統括制御部１３０及び個
別制御部１２０を備える。個別制御部１２０は、電子ビ
ーム制御部８０と、多軸電子レンズ制御部８２と、成形
偏向制御部８４と、ブランキング電極アレイ制御部８６
と、偏向制御部９２と、ウェハステージ制御部９６とを
有する。統括制御部１３０は、例えばワークステーショ
ンであって、個別制御部１２０に含まれる各制御部を統
括制御する。電子ビーム制御部８０は、電子ビーム発生
部１０を制御する。多軸電子レンズ制御部８２は、第１
多軸電子レンズ１６、第２多軸電子レンズ２４、第３多
軸電子レンズ３４、第４多軸電子レンズ３６および第５
多軸電子レンズ６２に供給する電流を制御する。

【００２０】成形偏向制御部８４は、第１成形偏向部１
８および第２成形偏向器２０を制御する。ブランキング
電極アレイ制御部８６は、ブランキング電極アレイ２６
に含まれる偏向電極に印加する電圧を制御する。偏向制
御部９２は、偏向部６０に含まれる複数の偏向器が有す
る偏向電極に印加する電圧を制御する。ウェハステージ
制御部９６は、ウェハステージ駆動部４８を制御し、ウ
ェハステージ４６を所定の位置に移動させる。

【００２１】制御系１４０は、電子ビームの矩形断面が
有する第１の辺の長さに基づいて、当該第１の辺に対し
て実質的に垂直な第２の辺の長さ、及び当該電子ビーム
をウェハ４４に照射する照射時間の少なくとも一方を定
める制御手段を有する。当該制御手段は、統括制御部で
あってよい。制御系１４０は、矩形断面に成形された電
子ビームの電流密度と、矩形断面の面積と、照射時間と
の積が実質的に一定となるように当該第２の辺の長さ及
び照射時間の少なくとも一方を定めることが好ましい。
本実施例において制御系１４０は、矩形断面に成形され
た電子ビームの電流密度と、矩形断面の面積との積が実
質的に一定となるように当該第２の辺の長さを定める。
このとき、長手方向の長さである当該第２の辺の長さ
は、第２成形部材２２が有する開口部の大きさによって
制限されてよい。また、制御手段は、各電子ビームに対
して、各電子ビームが露光すべきパターンに基づき、各
電子ビーム毎に当該第１の辺の長さを定め、当該第１の
辺の長さに基づいて、当該第２の辺及び照射時間の少な
くとも一方を定めるのが好ましい。

【００２２】制御系１４０は、定めた当該第１の辺の長
さ及び第２の辺の長さに基づいて、電子ビームの断面形
状を成形すべく、第１成形偏向部１８及び第２成形偏向
部２０が電子ビームを偏向すべき偏向量を、成形偏向制
御部８４に対して指示する。また、制御系１４０は、当
該第１の辺の長さに基づいて定めた電子ビームのウェハ
に対する照射時間を、ブランキング電極アレイ制御部８
６に対して指示する。本実施例において、当該照射時間
は一定の時間であり、以下の説明において電子ビームの
断面形状を決定する動作について説明する。

【００２３】図２は、第１成形部材１４及び第２成形部
材２２により成形される電子ビームの断面形状を一例を
示す。図２（ａ）は、電子ビームが露光すべき露光パタ
ーン２００を示す。露光パターン２００において、領域
２０２はすでに露光が行われている領域である。図２
（ｂ）は、制御系１４０からの指示に基づき、電子ビー
ム成形手段１１０が成形する電子ビームの形状を示す。
制御系１４０は、露光パターン２００に基づき、次に電
子ビームが露光すべき領域を特定する。特定された当該
領域に含まれる辺の長さＺに基づいて、制御系１４０
は、成形すべき電子ビームの断面形状の基準となる第１
の辺の長さＹを定める。本実施例において、辺の長さＺ
と第１の辺の長さＹとは実質的に等しい。続いて制御系
１４０は、定まった第１の辺の長さＹに基づいて、電子
ビームの断面形状が有するべき第２の辺の長さを定め
る。第２の辺は、例えば露光パターン２００に含まれる
他の領域において露光する電子ビームの断面形状の面積
と、第１の辺Ｙ及び第２の辺で定まる電子ビームの断面
形状とが実質的に等しい面積となるように第２の辺の長
さを定めてよい。また、電子ビームの電流値が、電子ビ
ームに含まれる電子のクーロン力による、電子ビームの
照射方向に実質的に垂直な方向への当該電子ビームの広
がりの許容範囲の基準値以下となるように、第２の辺の
長さを定めることが好ましい。

【００２４】電子ビームの電流値が、当該基準値と実質
的に等しくなるように、第１の辺および第２の辺の長さ
を定めた場合に、電子ビームの矩形断面に含まれる頂点
２０４が取りうる範囲を曲線２０６とする。電子ビーム
の断面形状は、頂点２０６が曲線２０６上に規定される
ように第１の辺および第２の辺の長さを定めることが好
ましい。また、頂点２０４が曲線２０６上にある範囲に
おいて、第１の辺および第２の辺の長さが実質的に等し
くなるときの第１の辺の長さを長さＹ２、また、第２の
辺の長さを長さＸ２とした場合に、第１の辺の長さは、
長さＸ２以下となる範囲において定まってよい。また、
他の露光パターンにおいては、第２の辺の長さに基づい
て、第１の辺の長さが定まってよく、このとき第２の辺
の長さは、長さＸ２以下となってよい。本実施例におい
て第２の辺の長さが、第１の辺の長さＹによって定ま
り、さらに、２成形部材２２に含まれ矩形形状を有する
開口部の１辺の長さＸ１により、第２の辺の長さは長さ
Ｘに制限される。そして、制御系１４０は、図第２の
（ｃ）に示すように、第１の辺の長さＹおよび第２の辺
の長さＸにより定まる領域２０８を露光するように露光
部１５０を制御する。

【００２５】図３は、露光パターン２００、及び露光す
べき電子ビームの断面形状の一例を示す。図３（ａ）に
示すように、制御系１４０は、偏向部６０が偏向する範
囲における露光パターン２００に含まれる第３の辺の長
さα、及び第３の辺に対して実質的に垂直な第４の辺β
に基づいて、電子ビームの断面形状２１０に含まれる第
１の辺の長さＹを定めてもよい。

【００２６】制御系１４０は、露光すべき電子ビームの
断面形状２１０を、露光パターン２００を露光するため
に必要な電子ビームのウェハ４４に対するショット数を
最小とするように定めるのが望ましい。具体的には、例
えば露光パターン２００の面積を、電子ビームの電流値
が基準値、もしくは基準値より小さい値となる面積によ
り割ることにより露光パターン２００に対する最小ショ
ット回数を算出する。このとき、当該最小ショット回数
が小数点以下の数値を含む場合には、当該小数点以下の
数値は切り上げるのが好ましい。そして、制御系１４０
は、露光パターン２００に対する電子ビームのショット
数が、当該最小ショット回数となるように、露光パター
ン２００に含まれる第３の辺の長さα及び第４の辺の長
さβに基づいて、断面形状２１０に含まれる第１の辺の
長さＹを定める。また、例えば、露光パターン２００が
有する長手方向の辺の長さに基づいて、断面形状２１０
の第１の辺の長さを定め、第１の辺の長さに基づいて、
露光パターン２００が有する短手方向の辺に対応する第
２の辺の長さを定めてもよい。そして、制御系１４０
は、決定された断面形状２１０に基づいて、図３（ｂ）
に示すように、ウェハ４４に対して露光パターン２００
を露光するように露光部１５０に指示する。また、露光
パターン２００において複数回露光される電子ビームの
断面形状２１０は、全て同じ形状であってよく、また、
異なる形状を有してもよい。

【００２７】図３（ｃ）に示すように、制御系１４０
は、電子ビームの断面形状２１０を、偏向部６０が偏向
する範囲における露光パターン２００に対して相似形と
なるように断面形状２１０に含まれる第１の辺Ｙを定め
てもよい。このとき、制御系１４０は、第１の辺の長さ
Ｙを、露光パターン２００に含まれる第３の辺の長さα
の１／Ｎ（Ｎは自然数）となるように定めるのが好まし
い。そして、制御系１４０は、決定された断面形状２１
０に基づいて、図３（ｄ）に示すように、ウェハ４４に
対して露光パターン２００を露光するように露光部１５
０に指示する。

【００２８】図３（ｅ）に示すように、制御系１４０
は、偏向部６０が偏向する範囲における露光パターン２
００を複数の領域に分割し、図３（ｆ）に示すようにそ
れぞれの領域において、図３（ａ）において説明した動
作により、電子ビームの断面形状を２１０を定めてもよ
い。また、露光パターン２００において所定の矩形断面
２１０が露光された後、露光パターン２００に含まれる
未露光領域を新たな露光パターンとして、制御系１４０
は、当該新たな露光パターンに対して露光すべき電子ビ
ームの断面形状を定めてもよい。そして、制御系１４０
は、決定された断面形状２１０に基づいて、図３（ｇ）
に示すように、ウェハ４４に対して露光パターン２００
を露光するように露光部１５０に指示する。

【００２９】図１、図２及び図３を参照して、電子ビー
ム露光装置１００の全体の動作について説明する。ま
ず、電子ビーム発生部１０が、複数の電子ビームを生成
する。電子ビーム発生部１０において、発生された電子
ビームは、第１成形部材１４に照射され、成形される。

【００３０】第１多軸電子レンズ１６は、矩形に成形さ
れた複数の電子ビームを独立に収束し、第２成形部材２
２に対する電子ビームの焦点調整を、電子ビーム毎に独
立に行う。第１成形偏向部１８および第２成形偏向部２
０は、図２及び図３において説明した制御手段である制
御系１４０からの指示に基づき、電子ビームの断面形状
を成形するように電子ビームを偏向する。第１成形偏向
部１８は、矩形に成形された複数の電子ビームを、電子
ビーム毎に独立して、第２成形部材に対して所望の位置
に偏向する。第２成形偏向部２０は、第１成形偏向部１
８で偏向された複数の電子ビームを、電子ビーム毎に独
立に第２成形部材２２に対して略垂直方向に偏向する。
矩形形状を有する複数の開口部を含む第２成形部材２２
は、各開口部に照射された矩形の断面形状を有する複数
の電子ビームを、ウェハ４４に照射されるべき所望の矩
形の断面形状を有する電子ビームにさらに成形する。

【００３１】第２多軸電子レンズ２４は、複数の電子ビ
ームを独立に収束して、ブランキング電極アレイ２６に
対する電子ビームの焦点調整を、電子ビーム毎に独立に
行う。第２多軸電子レンズ２４より焦点調整された電子
ビームは、ブランキング電極アレイ２６に含まれる複数
のアパーチャを通過する。

【００３２】ブランキング電極アレイ制御部８６は、ブ
ランキング電極アレイ２６に形成された、各アパーチャ
の近傍に設けられた偏向電極に電圧を印加するか否かを
制御する。ブランキング電極アレイ２６は、偏向電極に
印加される電圧に基づいて、電子ビームをウェハ４４に
照射させるか否かを切替える。また、ブランキング電極
アレイ制御部８６は、電子ビームの断面形状に応じて定
まった電子ビームの照射時間に基づいて、当該電子ビー
ムをウェハ４４に対して照射する時間を制御する。

【００３３】ブランキング電極アレイ２６により偏向さ
れない電子ビームは、第３多軸電子レンズ３４により電
子ビーム径を縮小されて、電子ビーム遮蔽部材２８に含
まれる開口部を通過する。第４多軸電子レンズ３６が、
複数の電子ビームを独立に収束して、偏向部６０に対す
る電子ビームの焦点調整を、電子ビーム毎に独立に行
い、焦点調整をされた電子ビームは、偏向部６０に含ま
れる偏向器に入射される。

【００３４】偏向制御部９２が、偏向部６０に含まれる
複数の偏向器を独立に制御する。偏向部６０は、複数の
偏向器に入射される複数の電子ビームを、電子ビーム毎
に独立にウェハ４４の所望の露光位置に偏向する。偏向
部６０を通過した複数の電子ビームは、第５多軸電子レ
ンズ６２により、ウェハ４４に対する焦点が調整され、
ウェハ４４に照射される。

【００３５】露光処理中、ウェハステージ制御部９６
は、一定方向にウェハステージ４８を動かす。ブランキ
ング電極アレイ制御部８６は露光パターンデータに基づ
いて、電子ビームを通過させるアパーチャを定め、各ア
パーチャに対する電力制御を行う。ウェハ４４の移動に
合わせて、電子ビームを通過させるアパーチャを適宜、
変更し、さらに偏向部６０により電子ビームを偏向する
ことによりウェハ４４に所望の回路パターンを露光する
ことが可能となる。

【００３６】以上、本発明を実施の形態を用いて説明し
たが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範
囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又
は改良を加えることができる。その様な変更又は改良を
加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、
特許請求の範囲の記載から明らかである。

【００３７】

【発明の効果】上記説明から明らかなように、本発明に
よれば露光すべき電子ビームの断面形状を、露光すべき
パターンに対して効率よく定めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置
１００の構成を示す。

【図２】第１成形部材１４及び第２成形部材２２により
成形される電子ビームの断面形状の一例を示す。

【図３】露光パターン２００、及び露光すべき電子ビー
ムの断面形状の一例を示す。

【符号の説明】

８・・筐体、１０・・電子銃、１２・・カソード、１４
・・第１成形部材、１６・・第１多軸電子レンズ、１８
・・第１成形偏向部、２０・・第２成形偏向部、２２・
・第２成形部材、２４・・第２多軸電子レンズ、２６・
・ブランキング電極アレイ、２８・・電子ビーム遮蔽部
材、３４・・第３多軸電子レンズ、３６・・第４多軸電
子レンズ、４４・・ウェハ、４６・・ウェハステージ、
４８・・ウェハステージ駆動部、６０・・偏向部、６２
・・第５多軸電子レンズ、８０・・電子ビーム制御部、
８２・・多軸電子レンズ制御部、８４・・成形偏向制御
部、８６・・ブランキング電極アレイ制御部、９０・・
同軸レンズ制御部、９２・・副偏向制御部、９４・・主
偏向制御部、９６・・ウェハステージ制御部、１００・
・電子ビーム露光装置、１１０・・電子ビーム成形手
段、１１２・・照射切替手段、１１４・・ウェハ用投影
系、１２０・・個別制御系、１３０・・統括制御部、１
４０・・制御系、１５０・・露光部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H097 CA16 GB00 LA10 5C030 AA04 AB03 5C034 BB03 BB04 5F056 AA04 CA05 CB03 CB08 CB11

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電子ビームを用いて、ウェハに露光処理
   を行う電子ビーム露光装置であって、 前記電子ビームの断面形状を、第１の辺及び前記第１の
   辺に対して実質的に垂直な第２の辺を含む矩形断面に成
   形する成形手段と、 前記第１の辺の長さに基づいて、前記第２の辺の長さ及
   び前記電子ビームの照射時間の少なくとも一方を定める
   制御手段とを備えることを特徴とする電子ビーム露光装
   置。
2. 【請求項２】 前記制御手段は、前記ウェハに露光すべ
   きパターンに更に基づいて、前記第２の辺の長さ及び前
   記電子ビームの照射時間の少なくとも一方を定めること
   を特徴とする請求項１記載の電子ビーム露光装置。
3. 【請求項３】 前記成形手段は、前記電子ビームの前記
   断面形状を、前記矩形断面に成形する開口部を有する成
   形部材を有し、 前記第２の辺の最大の長さは、前記開口部の大きさによ
   って制限されることを特徴とする請求項１記載の電子ビ
   ーム露光装置。
4. 【請求項４】 前記制御手段は、前記矩形断面に成形さ
   れた前記電子ビームの電流密度と、前記矩形断面の面積
   と、前記照射時間との積が実質的に一定となるように、
   前記第２の辺の長さ及び前記照射時間の少なくとも一方
   を定めることを特徴とする請求項１記載の電子ビーム露
   光装置。
5. 【請求項５】 前記制御部は、前記矩形断面に成形され
   た前記電子ビームの電流密度と、前記矩形断面の面積と
   の積が実質的に一定となるように、前記第２の辺の長さ
   を定めることを特徴とする請求項１記載の電子ビーム露
   光装置。
6. 【請求項６】 前記矩形断面に成形された前記電子ビー
   ムを偏向する変更手段を更に備え、 前記偏向手段が前記矩形断面に成形された前記電子ビー
   ムを偏向する範囲における前記露光すべきパターンは、
   第３の辺及び前記第３の辺に対して実質的に垂直な第４
   の辺を含み、 前記第１の辺の長さは、前記第３の辺の長さ及び前記第
   ４の辺の長さに基づいて定まることを特徴とする請求項
   ２又は３に記載の電子ビーム露光装置。
7. 【請求項７】 前記矩形断面の長手方向の辺の長さは、
   前記開口部の大きさによって制限されることを特徴とす
   る請求項６記載の電子ビーム露光装置。
8. 【請求項８】 前記制御手段は、前記矩形断面が、前記
   パターンに対して相似形となるように前記第１の辺の長
   さを定める手段を有することを特徴とする請求項６記載
   の電子ビーム露光装置。
9. 【請求項９】 前記制御手段は、前記電子ビームを偏向
   する範囲における前記露光すべきパターンを、成形され
   た前記電子ビームを照射すべき回数が最小となるように
   分割すべく前記第１の辺の長さを定める手段を有するこ
   とを特徴とする請求項６記載の電子ビーム露光装置。
10. 【請求項１０】 複数の前記電子ビームを生成する手段
    を更に備え、 前記成形手段は、それぞれの前記電子ビームの断面形状
    を、第１の辺及び前記第１の辺に対して実質的に垂直な
    第２の辺を含む矩形断面に成形し、 前記制御手段は、それぞれの前記第１の辺の長さに基づ
    いて、それぞれの前記第２の辺の長さ及びそれぞれの前
    記電子ビームの照射時間の少なくとも一方を定めること
    を特徴とする請求項１記載の電子ビーム露光装置。