JP4246374B2 - 電子ビーム露光装置、照射位置検出方法、及び電子検出装置 - Google Patents
電子ビーム露光装置、照射位置検出方法、及び電子検出装置 Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子ビーム露光装置、照射位置検出方法、及び電子検出装置に関する。特に本発明は、複数の電子ビームの照射位置を短時間で精度よく検出する電子ビーム露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
複数の電子ビームを用いてウェハに露光処理を行う従来の電子ビーム露光装置は、電子ビームの照射位置の補正を行う場合に、ウェハ又はウェハステージに設けられた照射位置検出用のマークに、全ての電子ビームを順に照射し、それぞれの電子ビームの照射位置を検出して補正値を求めていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
近年の半導体デバイスの微細化に伴い、電子ビーム露光装置の半導体デバイスの量産での利用に向け、露光処理や電子ビーム照射位置の補正処理の高速化が望まれている。
【0004】
しかしながら、従来の電子ビーム露光装置では、全ての電子ビームの照射位置を補正するために全ての電子ビームを順にマークに照射し、それぞれの電子ビームの照射位置を検出しなくてはならないため、非常に長い時間を要し、短時間で電子ビームの照射位置を補正する方法が望まれている。
【0005】
そこで本発明は、上記の課題を解決することのできる電子ビーム露光装置、照射位置検出方法、及び電子検出装置を提供することを目的とする。この目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
【0006】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明の第1の形態によると、複数の電子ビームにより、ウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、電子ビームが照射され、電子ビームの照射位置を検出させるマーク部と、複数の電子ビームの間に設けられており、マーク部から放射された電子を検出して、検出された電子量に基づく検出信号を出力する第1電子検出部と、検出信号に基づいて、電子ビームの照射位置を検出する位置検出部とを備える。
【0007】
複数の電子ビームのうちの第1電子ビームの光軸と、第2電子ビームの光軸と、第1電子検出部とは、実質的に同一直線上に設けられてもよい。電子ビーム発生部は、3つ以上の電子ビームを略等しい間隔を隔てて発生し、第1電子検出部は、3つ以上の電子ビームのそれぞれの間に設けられてもよい。
【0008】
第1電子検出部は、複数の電子ビームのうちの2つの電子ビームの間に複数設けられてもよい。複数の第1電子検出部は、複数の電子ビームのそれぞれに対応して設けられてもよい。複数の電子ビームのそれぞれの周囲に設けられた第2電子検出部をさらに備えてもよい。
【0009】
複数の電子ビームをマーク部に照射させるか否かを独立して切り替える照射切替手段をさらに有し、照射切替手段は、複数の電子ビームのうちの第1電子ビームをマーク部に照射させ、位置検出部は、第1電子ビームの周囲に設けられた第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、第1電子ビームの照射位置を検出してもよい。
【0010】
複数の電子ビームをマーク部に照射させるか否かを独立して切り替える照射切替手段をさらに有し、照射切替手段は、第1のタイミングにおいて、複数の電子ビームのうちの第1電子ビームを照射させ、第2のタイミングにおいて、第1電子ビームと隣接する第2電子ビームを照射させ、位置検出部は、第1のタイミングにおいて、第1電子ビームに対応して設けられた第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、第1電子ビームの照射位置を検出し、第2のタイミングにおいて、第2電子ビームに対応して設けられた第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、第2電子ビームの照射位置を検出してもよい。
【0011】
照射切替手段は、第1のタイミングにおいて、第1電子ビームを含む第1電子ビーム群を照射させ、第2のタイミングにおいて、第1電子ビーム群以外の電子ビームであって、第2電子ビームを含む第2電子ビーム群を照射させてもよい。
【0012】
複数の電子ビームをマーク部に照射させるか否かを独立して切り替える照射切替手段をさらに有し、照射切替手段は、第1のタイミングにおいて、複数の電子ビームのうちの第1電子ビームを照射させ、第2のタイミングにおいて、第1電子ビームと隣接する第2電子ビームを照射させ、位置検出部は、第1のタイミングにおいて、第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、第1電子ビームの照射位置を検出し、第2のタイミングにおいて、第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、第2電子ビームの照射位置を検出してもよい。
【0013】
照射切替手段は、第1のタイミングにおいて、第1電子ビームを含む第1電子ビーム群を照射させ、第2のタイミングにおいて、第1電子ビーム群以外の電子ビームであって、第2電子ビームを含む第2電子ビーム群を照射させてもよい。第1電子ビーム群及び第2電子ビーム群は、略等しい間隔を隔てて照射される複数の電子ビームを有してもよい。
【0014】
第1電子検出部は、第1電子ビーム群に含まれる電子ビームのそれぞれと、第2電子ビーム群に含まれる電子ビームのそれぞれとのそれぞれの間に設けられており、位置検出部は、第1のタイミングにおいて、第1電子ビーム群に含まれる電子ビームの照射位置を、当該電子ビームに隣接する第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて検出し、第2のタイミングにおいて、第2電子ビーム群に含まれる電子ビームの照射位置を、当該電子ビームに隣接する第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて検出してもよい。
【0015】
電子ビーム発生部は、複数の電子ビームを格子状に発生し、第1電子検出部は、複数の電子ビームのそれぞれの間に設けられており、位置検出部は、第1のタイミングにおいて、第1電子ビーム群に含まれるそれぞれの電子ビームの周囲に設けられた第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、第1電子ビーム群に含まれる電子ビームの照射位置を検出し、第2のタイミングにおいて、第2電子ビーム群に含まれるそれぞれの電子ビームの周囲に設けられた第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、第2電子ビーム群に含まれる電子ビームの照射位置を検出してもよい。
【0016】
複数の電子ビームのうちの1つの電子ビームと、第1電子検出部との間に設けられた遮蔽板をさらに備えてもよい。複数の電子ビームのうちの第1電子ビームに設けられた第1電子検出部と、第1電子ビームに隣接して照射される第2電子ビームに設けられた第1電子検出部との間に設けられた遮蔽板をさらに備えてもよい。遮蔽板は、第1電子ビームのウェハが載置される面における照射位置と、第2電子ビームに設けられた第1電子検出部との間に設けられてもよい。複数の電子ビームの周囲に設けられた第2電子検出部の周囲に設けられた遮蔽板さらに備えてもよい。
【0017】
複数の電子ビームを独立に偏向する偏向部と、偏向部を制御する偏向制御部と、第1電子ビームに対して、第1電子ビームから第1電子検出部への方向である第1の方向と略垂直な方向である第2の方向に設けられた第2電子検出部とをさらに備え、偏向制御部は、偏向部を制御し、第1電子ビームを第2の方向に偏向させ、第2電子ビームを第1の方向に偏向させ、位置検出部は、第2電子検出部から出力される検出信号に基づいて、第1電子ビームの照射位置を検出し、第1電子検出部から出力される検出信号に基づいて、第2電子ビームの照射位置を検出してもよい。
【0018】
第1電子ビームを挟んで、第2電子検出部に対向する位置に設けられた第3電子検出部と、第2電子ビームを挟んで、第1電子検出部に対向する位置に設けられた第4電子検出部とをさらに備え、位置検出部は、第2電子検出部及び第3電子検出部から出力される検出信号に基づいて、第1電子ビームの照射位置を検出し、第1検出部及び第4電子検出部から出力される検出信号に基づいて、第2電子ビームの照射位置を検出してもよい。
【0019】
第1電子ビームを挟んで、第1電子検出部に対向する位置に設けられた第5電子検出部と、第2電子ビームに対して、第2の方向に設けられた第6電子検出部と、第2電子ビームを挟んで、第6電子検出部に対向する位置に設けられた第7電子検出部とをさらに備え、偏向制御部は、偏向部を制御し、第1のタイミングにおいて、第1電子ビームを第2の方向に偏向させ、第2電子ビームを第1の方向に偏向させ、第2のタイミングにおいて、第1電子ビームを第1の方向に偏向させ、第2電子ビームを第2の方向に偏向させ、位置検出部は、第1のタイミングにおいて第2電子検出部及び第3から出力される検出信号と、第2のタイミングにおいて第1電子検出部及び第5電子検出部から出力される検出信号とに基づいて、第1電子ビームの照射位置を検出し、第1のタイミングにおいて第1電子検出部及び第4電子検出部から出力される検出信号と、第2のタイミングにおいて第6電子検出部及び第7電子検出部から出力される検出信号とに基づいて、第2電子ビームの照射位置を検出してもよい。
【0020】
本発明の他の形態によると、複数の電子ビームのそれぞれをマーク部に照射させ、マーク部から放射された電子量を検出する電子検出部を用いて、複数の電子ビームの照射位置を検出する照射位置検出方法であって、第1電子ビーム及び第2電子ビームを含む複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生段階と、
第1電子ビームをマーク部に照射する第1照射段階と、第1電子ビームと第2電子ビームとの間に設けられた第1電子検出部を用いて、マーク部から放射された電子を検出する第1電子検出段階と、第1電子検出部から出力される検出信号に基づいて、第1電子ビームの照射位置を検出する第1位置検出段階と、第2電子ビームをマーク部に照射する第2照射段階と、第1電子検出部を用いて、マーク部から放射された電子を検出する第2電子検出段階と、第1電子検出部から出力される検出信号に基づいて、第2電子ビームの照射位置を検出する第2位置検出段階とを備える。
【0021】
第1電子検出段階は、第1電子検出部に含まれる第1検出器を用いて、マーク部から放射された電子を検出し、第1位置検出段階は、第1電子検出器から出力される検出信号に基づいて、第1電子ビームの照射位置を検出し、第2電子検出段階は、第1電子検出部に含まれる第2電子検出器を用いて、マーク部から放射された電子を検出し、第2位置検出段階は、第2電子検出器から出力される検出信号に基づいて、第2電子ビームの照射位置を検出してもよい。
【0022】
第1照射段階は、第1電子ビームを含む第1電子ビーム群を照射し、第2照射段階は、前第1電子ビーム群以外の電子ビームであって、第2電子ビームを含む第2電子ビーム群を照射させてもよい。第1照射段階は、第1電子ビーム群に含まれる複数の電子ビームを略等しい間隔を隔てて照射し、第2照射段階は、第2電子ビーム群に含まれる複数の電子ビームを略等しい間隔を隔てて照射してもよい。
【0023】
電子ビーム発生段階は、第1電子ビーム群に含まれる第3電子ビームと、第2電子ビーム群に含まれる第4電子ビームを発生する段階を含み、第1照射段階は、第3電子ビームをマーク部に照射する段階を含み、第1電子検出段階は、第3電子ビームと第4電子ビームとの間に設けられた第2電子検出部を用いて、マーク部から放射された電子を検出する段階を含み、第1位置検出段階は、第2電子検出部から出力される検出信号に基づいて、第3電子ビームの照射位置を検出する段階を含み、第2照射段階は、第4電子ビームをマーク部に照射する段階を含み、第2電子検出段階は、第2電子検出部を用いて、マーク部から放射された電子を検出する段階を含み、第2位置検出段階は、第2電子検出部から出力される検出信号に基づいて、第4電子ビームの照射位置を検出する段階を含んでもよい。
【0024】
本発明の他の形態によると、複数の電子ビームのそれぞれをマーク部に照射させ、マーク部から放射された電子量を検出する電子検出部を用いて、複数の電子ビームの照射位置を検出する照射位置検出方法であって、第1電子ビームと、第1電子ビームに隣接して照射される第2電子ビームとを含む複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生段階と、第1電子ビームを、第1電子ビームから第2電子ビームの方向である第1の方向に偏向させてマーク部に照射し、第2電子ビームを第1の方向に略垂直な方向である第2の方向に偏向させてマーク部に照射する第1照射段階と、第1電子ビームに対して第1の方向に設けられた第1電子検出部が出力する検出信号に基づいて、第1電子ビームの照射位置を検出し、第2電子ビームに対して第2の方向に設けられた第2電子検出部が出力する検出信号に基づいて、第2電子ビームの照射位置を検出する第1位置検出段階とを備える。
【0025】
第1電子ビームを第2の方向と略平行な方向に偏向させてマーク部に照射し、第2電子ビームを第1の方向と略平行な方向に偏向させてマーク部に照射する第2照射段階と、第1電子ビームに対して、第2の方向と略平行な方向に設けられた第3電子検出部から出力される検出信号に基づいて、第1電子ビームの照射位置を検出し、第1電子検出部から出力される検出信号に基づいて、第2電子ビームの照射位置を検出する第2位置検出段階とをさらに備える。
【0026】
本発明の他の形態によると、電子ビームの照射位置を検出するためのマーク部に電子ビームが照射されることによりマーク部から放射された電子を検出する電子検出装置であって、複数の開口部が設けられた基板と、複数の開口部のうちの所定の開口部と、所定の開口部に隣接する他の開口部との間に設けられた第1電子検出部とを備える。
【0027】
複数の開口部は、格子状に複数設けられており、第1電子検出部は、複数の開口部のそれぞれの間に複数設けられてもよい。第1電子検出部は、複数の開口部のそれぞれに対応して設けられてもよい。複数の開口部のそれぞれの周囲に設けられた第2電子検出部をさらに備えてもよい。
【0028】
所定の開口部に設けられた電子検出部と、他の開口部に設けられた電子検出部との間に設けられた遮蔽板をさらに備えてもよい。複数の開口部の周囲に設けられた電子検出部の周囲に設けられた遮蔽板をさらに備えてもよい。
【0029】
なお上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーションも又発明となりうる。
【0030】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態はクレームにかかる発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【0031】
図1は、本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置100の構成を示す。電子ビーム露光装置100は、電子ビームによりウェハに所定の露光処理を施す露光部150と、露光部150に含まれる各構成の動作を制御する制御系140を備える。
【0032】
露光部150は、筐体8内部において複数の電子ビームを発生し、電子ビームの断面形状を所望に成形する電子ビーム成形手段110と、複数の電子ビームをウェハ44に照射するか否かを、それぞれの電子ビームに対して独立に切替える照射切替手段112と、ウェハ44に転写されるパターンの像の向き及びサイズを調整するウェハ用投影系114を含む電子光学系を備える。また、露光部150は、パターンを露光すべきウェハ44を載置するウェハステージ46と、ウェハステージ46を駆動するウェハステージ駆動部48とを含むステージ系を備える。さらに、露光部150は、ウェハ44又はウェハステージ46に設けられるマーク部50に照射された電子ビームにより、マーク部から放射された2次電子や反射電子等を検出する電子検出装置200を備える。電子検出装置200は、マーク部50から放射された電子を検出して、検出した電子量に対応した検出信号を反射電子処理部94に出力する。
【0033】
電子ビーム成形手段110は、複数の電子ビームを発生させる電子ビーム発生部10と、電子ビームを通過させることにより、照射された電子ビームの断面形状を成形する複数の開口部を有する第1成形部材14及び第2成形部材22と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第1多軸電子レンズ16と、第1成形部材14を通過した複数の電子ビームを独立に偏向する第1成形偏向部18及び第2成形偏向部20とを有する。
【0034】
照射切替手段112は、複数の電子ビームを独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第2多軸電子レンズ24と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に偏向させることにより、それぞれの電子ビームをウェハ44に照射するか否かを、それぞれの電子ビームに対して独立に切替えるブランキング電極アレイ26と、電子ビームを通過させる複数の開口部を含み、ブランキング電極アレイ26で偏向された電子ビームを遮蔽する電子ビーム遮蔽部材28とを有する。他の例においてブランキング電極アレイ26は、ブランキング・アパーチャ・アレイ・デバイスであってもよい。
【0035】
ウェハ用投影系114は、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、電子ビームの照射径を縮小する第3多軸電子レンズ34と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第4多軸電子レンズ36と、複数の電子ビームをウェハ44の所望の位置に、それぞれの電子ビームに対して独立に偏向する偏向部38と、ウェハ44に対する対物レンズとして機能し、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束する第5多軸電子レンズ52とを有する。
【0036】
制御系140は、個別制御部120及び統括制御部130を備える。個別制御部120は、電子ビーム制御部80と、多軸電子レンズ制御部82と、成形偏向制御部84と、ブランキング電極アレイ制御部86と、偏向制御部92と、反射電子処理部94と、ウェハステージ制御部96とを有する。統括制御部130は、電子検出装置200から出力された検出信号に基づいて、電子ビームの照射位置を検出する位置検出部132を有する。また、統括制御部130は、例えばワークステーションであって、個別制御部120に含まれる各制御部を統括制御する。
【0037】
電子ビーム制御部80は、電子ビーム発生部10を制御する。多軸電子レンズ制御部82は、第1多軸電子レンズ16、第2多軸電子レンズ24、第3多軸電子レンズ34、第4多軸電子レンズ36、及び第5多軸電子レンズ52に供給する電流を制御する。成形偏向制御部84は、第1成形偏向部18及び第2成形偏向部20を制御する。ブランキング電極アレイ制御部86は、ブランキング電極アレイ26に含まれる偏向電極に印加する電圧を制御する。偏向制御部92は、偏向部38に含まれる複数の偏向器が有する偏向電極に印加する電圧を制御する。反射電子処理部94は、電子検出装置200の電子検出部から出力された検出信号と、当該検出信号を出力した電子検出部とを対応づけて、統括制御部130の位置検出部132に通知する。ウェハステージ制御部96は、ウェハステージ駆動部48を制御し、ウェハステージ46を所定の位置に移動させる。
【0038】
本実施形態に係る電子ビーム露光装置100の動作について説明する。まず、電子ビーム露光装置100は、複数の電子ビームの照射位置を検出し、電子ビームの照射位置を補正する補正値を算出する補正処理を行う。当該補正処理において、位置検出部132は、電子ビームの照射位置を検出する。電子ビームの照射位置検出処理については、図2から図11において詳細に説明する。そして、統括制御部130において、電子ビームの照射位置検出処理において検出された電子ビームの照射位置に基づいて、電子ビームの照射位置を補正する補正値を算出する。
【0039】
以下、露光処理における電子ビーム露光装置100の動作について説明するが上述した補正処理において算出された補正値を用いてウェハ44に露光処理を行うことが好ましい。電子ビーム発生部10は、複数の電子ビームを生成する。第1成形部材14は、電子ビーム発生部10により発生され、第1成形部材14に照射された複数の電子ビームを、第1成形部材14に設けられた複数の開口部を通過させることにより成形する。他の例においては、電子ビーム発生部10において発生した電子ビームを複数の電子ビームに分割する手段を更に有することにより、複数の電子ビームを生成してもよい。
【0040】
第1多軸電子レンズ16は、矩形に成形された複数の電子ビームを独立に集束し、第2成形部材22に対する電子ビームの焦点を、電子ビーム毎に独立に調整する。第1成形偏向部18は、第1成形部材14において矩形形状に成形された複数の電子ビームを、第2成形部材における所望の位置に照射するように、それぞれ独立に偏向する。
【0041】
第2成形偏向部20は、第1成形偏向部18で偏向された複数の電子ビームを、第2成形部材22に対して略垂直な方向にそれぞれ偏向し、第2成形部材22に照射する。そして矩形形状を有する複数の開口部を含む第2成形部材22は、第2成形部材22に照射された矩形の断面形状を有する複数の電子ビームを、ウェハ44に照射すべき所望の断面形状を有する電子ビームにさらに成形する。
【0042】
第2多軸電子レンズ24は、複数の電子ビームを独立に集束して、ブランキング電極アレイ26に対する電子ビームの焦点を、それぞれ独立に調整する。そして、第2多軸電子レンズ24により焦点がそれぞれ調整された複数の電子ビームは、ブランキング電極アレイ26に含まれる複数のアパーチャを通過する。
【0043】
ブランキング電極アレイ制御部86は、ブランキング電極アレイ26における各アパーチャの近傍に設けられた偏向電極に電圧を印加するか否かを制御する。ブランキング電極アレイ26は、偏向電極に印加される電圧に基づいて、電子ビームをウェハ44に照射させるか否かを切替える。
【0044】
ブランキング電極アレイに26により偏向されない電子ビームは、第3多軸電子レンズ34を通過する。そして第3多軸電子レンズ34は、第3多軸電子レンズ34を通過する電子ビームの電子ビーム径を縮小する。縮小された電子ビームは、電子ビーム遮蔽部材28に含まれる開口部を通過する。また、電子ビーム遮蔽部材28は、ブランキング電極アレイ26により偏向された電子ビームを遮蔽する。電子ビーム遮蔽部材28を通過した電子ビームは、第4多軸電子レンズ36に入射される。そして第4多軸電子レンズ36は、入射された電子ビームをそれぞれ独立に集束し、偏向部38に対する電子ビームの焦点をそれぞれ調整する。第4多軸電子レンズ36により焦点が調整された電子ビームは、偏向部38に入射される。
【0045】
偏向制御部92は、偏向部38に含まれる複数の偏向器を制御し、偏向部38に入射されたそれぞれの電子ビームを、ウェハ44に対して照射すべき位置にそれぞれ独立に偏向する。第5多軸電子レンズ52は、第5多軸電子レンズ52を通過するそれぞれの電子ビームのウェハ44に対する焦点を調整する。そしてウェハ44に照射すべき断面形状を有するそれぞれの電子ビームは、ウェハ44に対して照射すべき所望の位置に照射される。
【0046】
露光処理中、ウェハステージ駆動部48は、ウェハステージ制御部96からの指示に基づき、一定方向にウェハステージ46を連続移動させるのが好ましい。そして、ウェハ44の移動に合わせて、電子ビームの断面形状をウェハ44に照射すべき形状に成形し、ウェハ44に照射すべき電子ビームを通過させるアパーチャを定め、さらに偏向部38によりそれぞれの電子ビームをウェハ44に対して照射すべき位置に偏向させることにより、ウェハ44に所望の回路パターンを露光することができる。
【0047】
図2は、第1の実施形態に係る電子ビーム露光装置100の電子検出装置200の構成を示す。電子検出装置200は、複数の電子ビームが通過する複数の開口部54が設けられた基板42と、ウェハ44又はウェハステージ46に設けられたマーク部50から放射された電子を検出して、検出された電子量に基づく検出信号を出力する電子検出部40とを備える。本実施形態における電子検出部40は、基板42に設けられた複数の開口部54の間に設けられる。つまり、電子検出部40は、隣接する2つの開口部54をそれぞれ通過する2つの電子ビームの間に設けられる。また、電子検出部40と、当該電子検出部に隣接する2つの開口部54を通過する2つの電子ビームの光軸とは、実質的に同一直線上に設けられることが好ましい。さらに、電子ビーム発生部10は、3つ以上の電子ビームを略等しい間隔を隔てて発生し、電子検出部40は、3つ以上の開口部54をそれぞれ通過する3つ以上の電子ビームのそれぞれの間に設けられることが望ましい。また、開口部54は、格子状に設けられることが好ましく、電子検出部40は、格子状に設けられた開口部54のそれぞれの間に設けられることが望ましい。また、電子検出部40は、最外周に設けられた開口部54の外周にさらに設けられてもよい。
【0048】
図3は、第1の実施形態に係る電子ビームの照射位置の検出方法を示す。図3(a)に示すように、照射切替手段112は、第1のタイミングにおいて、略等しい間隔で照射される電子ビーム10a及び10cを含む電子ビーム群のそれぞれをマーク部50a及び50cを含むマーク群のそれぞれに照射させる。そして、偏向部38は、照射された電子ビーム群のそれぞれを偏向し、マーク群のそれぞれを走査させる。次に、電子検出部40a、40b、40c、40d、及び40eは、マーク部50a及び50cから放射される電子を検出し、検出した電子量に基づく検出信号を出力する。次に、反射電子処理部94は、電子検出部40a、40b、40c、40d、及び40eから出力された検出信号と、検出信号を出力した電子検出部とを対応づけて、位置検出部132に通知する。次に、位置検出部132は、電子検出部40a及び40bを含む電子ビーム10aに隣接して設けられた電子検出部から出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10aの照射位置を検出する。また、位置検出部132は、電子検出部40c及び40dを含む電子ビーム10cに隣接して設けられた電子検出部から出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10cの照射位置を検出する。
【0049】
そして、図3(b)に示すように、照射切替手段112は、図3(a)で説明した第1のタイミングと異なる第2のタイミングにおいて、略等しい間隔で照射される電子ビーム10b及び10dを含む電子ビーム群のそれぞれをマーク部50b及び50dを含むマーク群のそれぞれに照射させる。そして、偏向部38は、照射された電子ビーム群のそれぞれを偏向し、マーク群のそれぞれを走査させる。次に、電子検出部40a、40b、40c、40d、及び40eは、マーク部50b及び50dから放射される電子を検出し、検出した電子量に基づく検出信号を出力する。次に、反射電子処理部94は、電子検出部40a、40b、40c、40d、及び40eから出力された検出信号と、検出信号を出力した電子検出部とを対応づけて、位置検出部132に通知する。次に、位置検出部132は、電子検出部40b及び40cを含む電子ビーム10bに隣接して設けられた電子検出部から出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10bの照射位置を検出する。また、位置検出部132は、電子検出部40d及び40eを含む電子ビーム10dに隣接して設けられた電子検出部から出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10dの照射位置を検出する。
【0050】
図4は、第1の実施形態に係る電子ビームの照射位置の検出順序の一例を示す。電子ビーム発生部10は、複数の電子ビームを格子状に発生する。そして、照射切替手段112は、複数の電子ビームを電子ビーム群に分割して、電子ビーム群毎に電子ビームを照射するか否かを切り替える。本実施形態では、1つの電子ビームを隔てて照射される複数の電子ビームを1つの電子ビーム群とし、複数の電子ビームを4つの電子ビーム群A、B、C、及びDに分割してそれぞれ異なるタイミングでマーク部50に照射させる。
【0051】
照射切替手段112は、第1のタイミングにおいて電子ビーム群Aをマーク部50に照射させ、第2のタイミングにおいて電子ビーム群Bをマーク部50に照射させ、第3のタイミングにおいて電子ビーム群Cをマーク部50に照射させ第4のタイミングにおいて電子ビーム群Dをマーク部50に照射させる。そして、位置検出部132は、複数の電子検出部から出力された検出信号に基づいて、電子ビームの照射位置を検出する。例えば、位置検出部132は、第1のタイミングにおいて、電子ビーム10aに隣接して設けられた電子検出部40a、40b、40f、及び40hから出力された検出信号に基づいて電子ビーム10aの照射位置を検出する。また、第2のタイミングにおいて、電子ビーム10bに隣接して設けられた電子検出部40b、40c、40g、及び40iから出力された検出信号に基づいて電子ビーム10bの照射位置を検出する。また、第3のタイミングにおいて、電子ビーム10eに隣接して設けられた電子検出部40h、40j、40k、及び40mから出力された検出信号に基づいて電子ビーム10eの照射位置を検出する。また、第4のタイミングにおいて、電子ビーム10fに隣接して設けられた電子検出部40i、40k、40l、及び40nから出力された検出信号に基づいて電子ビーム10fの照射位置を検出する。
【0052】
上述したように、本実施形態における電子ビーム露光装置100は、所定の間隔を隔てて照射される複数の電子ビームを同時に照射させて、電子ビームの照射位置を検出することができる。したがって、照射位置の検出処理を非常に少ない回数行うことによって、全ての電子ビームの照射位置を検出することができる。また、本実施形態における電子検出部40は、2つの電子ビームの間に設けられており、位置検出部132は、異なるタイミングにおいて照射される2つの電子ビームの照射位置を、2つの電子ビームの間に設けられた電子検出部40から出力される検出信号に基づいて検出することができるため、電子検出部40の数を大幅に減らすことができる。
【0053】
図5は、第1の実施形態における電子ビームの照射位置の検出方法の他の実施例を示す。図5(a)及び(c)は、本実施形態における電子ビーム露光装置100の断面図である。また図5(b)及び(d)は、本実施形態における電子検出装置200の下面図である。図5(a)及び(b)に示すように、偏向部38は、第1のタイミングにおいて、電子ビーム10aを、電子ビーム10aから電子ビーム10aと隣接して照射される電子ビーム10bの方向である第1の方向と略垂直な第2の方向に走査してマーク部50aに照射させる。また、偏向部38は、電子ビーム10bを第2の方向に走査してマーク部50bに照射させる。そして、複数の電子検出部40は、複数のマーク部50から放射される電子を検出し、検出した電子量に基づく検出信号を出力する。次に、反射電子処理部94は、複数の電子検出部40から出力された検出信号と、検出信号を出力した電子検出部とを対応づけて、位置検出部132に通知する。次に、位置検出部132は、電子ビーム10aから第1の方向に設けられた電子検出部40f、及び電子ビーム10aを挟んで電子検出部40fと対向する位置に設けられた電子検出部40hから出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10aの照射位置を検出する。また、位置検出部132は、電子ビーム10bから第2の方向に設けられた電子検出部40c、及び電子ビーム10bを挟んで電子検出部40cと対向する位置に設けられた電子検出部40bから出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10bの照射位置を検出する。
【0054】
そして、図5(c)及び(d)に示すように、偏向部38は、図5(a)及び(b)で説明した第1のタイミングと異なる第2のタイミングにおいて、電子ビーム10bを第1の方向に走査してマーク部50bに照射させ、電子ビーム10aを第2の方向に走査してマーク部50aに照射させる。そして、複数の電子検出部40は、複数のマーク部50から放射される電子を検出し、検出した電子量に基づく検出信号を出力する。次に、反射電子処理部94は、複数の電子検出部40から出力された検出信号と、検出信号を出力した電子検出部とを対応づけて、位置検出部132に通知する。次に、位置検出部132は、電子ビーム10aから第2の方向に設けられた電子検出部40b、及び電子ビーム10aを挟んで電子検出部40bと対向する位置に設けられた電子検出部40aから出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10aの照射位置を検出する。また、位置検出部132は、電子ビーム10bから第1の方向に設けられた電子検出部40g、及び電子ビーム10bを挟んで電子検出部40gと対向する位置に設けられた電子検出部40iから出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10bの照射位置を検出する。
【0055】
本実施例の電子ビーム露光装置100によれば、照射位置を検出すべき全ての電子ビームを同時にマーク部50に照射させて、全ての電子ビームの照射位置を同時に検出することができる。したがって、複数の電子ビームの照射位置を検出する処理に費やす時間を大幅に低下させることができる。
【0056】
図6は、第2の実施形態に係る電子ビーム露光装置100の電子検出装置200の構成を示す。電子検出装置200は、複数の電子ビームが通過する複数の開口部54が設けられた基板42と、ウェハ44又はウェハステージ46に設けられたマーク部50から放射された電子を検出して、検出された電子量に基づく検出信号を出力する電子検出部40とを備える。本実施形態における電子検出部40は、基板42に設けられた複数の開口部54の間に複数設けられる。つまり、電子検出部40は、隣接する2つの開口部54をそれぞれ通過する2つの電子ビームの間に複数設けられており、2つの開口部54のそれぞれに対応して設けられる。また、電子検出部40は、基板42に設けられた複数の開口部54のそれぞれの周囲に設けられる。また、複数の電子検出部40と、当該電子検出部に隣接する2つの開口部54を通過する2つの電子ビームの光軸とは、実質的に同一直線上に設けられることが好ましい。さらに、電子ビーム発生部10は、3つ以上の電子ビームを略等しい間隔を隔てて発生し、電子検出部40は、3つ以上の開口部54をそれぞれ通過する3つ以上の電子ビームのそれぞれの間に複数設けられることが望ましい。また、開口部54は、格子状に設けられることが好ましく、電子検出部40は、格子状に設けられた開口部54のそれぞれの間に複数設けられることが望ましい。また、電子検出部40は、最外周に設けられた開口部54の外周にさらに設けられてもよい。
【0057】
図7は、第2の実施形態に係る電子ビームの照射位置の検出方法を示す。図7(a)に示すように、照射切替手段112は、第1のタイミングにおいて、略等しい間隔で照射される電子ビーム10a及び10cを含む電子ビーム群のそれぞれをマーク部50a及び50cを含むマーク群のそれぞれに照射させる。そして、偏向部38は、照射された電子ビーム群のそれぞれを偏向し、マーク群のそれぞれを走査させる。次に、電子検出部40p、40q、40r、及び40sは、マーク部50a及び50cから放射される電子を検出し、検出した電子量に基づく検出信号を出力する。次に、反射電子処理部94は、電子検出部40p、40q、40r、及び40sから出力された検出信号と、検出信号を出力した電子検出部とを対応づけて、位置検出部132に通知する。次に、位置検出部132は、電子ビーム10aに対応して設けられた電子検出部40pから出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10aの照射位置を検出する。また、位置検出部132は、電子ビーム10cに対応して設けられた電子検出部40rから出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10cの照射位置を検出する。
【0058】
そして、図7(b)に示すように、照射切替手段112は、図7(a)で説明した第1のタイミングと異なる第2のタイミングにおいて、略等しい間隔で照射される電子ビーム10b及び10dを含む電子ビーム群のそれぞれをマーク部50b及び50dを含むマーク群のそれぞれに照射させる。そして、偏向部38は、照射された電子ビーム群のそれぞれを偏向し、マーク群のそれぞれを走査させる。次に、電子検出部40p、40q、40r、及び40sは、マーク部50b及び50dから放射される電子を検出し、検出した電子量に基づく検出信号を出力する。次に、反射電子処理部94は、電子検出部40p、40q、40r、及び40sから出力された検出信号と、検出信号を出力した電子検出部とを対応づけて、位置検出部132に通知する。次に、位置検出部132は、電子ビーム10bに対応して設けられた電子検出部40qから出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10bの照射位置を検出する。また、位置検出部132は、電子ビーム10dに対応して設けられた電子検出部40sから出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10dの照射位置を検出する。
【0059】
図8は、第2の実施形態に係る電子ビームの照射位置の検出順序の一例を示す。電子ビーム発生部10は、複数の電子ビームを格子状に発生する。そして、照射切替手段112は、複数の電子ビームを電子ビーム群に分割して、電子ビーム群毎に電子ビームを照射するか否かを切り替える。本実施形態では、1つの電子ビームを隔てて照射される複数の電子ビームを1つの電子ビーム群とし、複数の電子ビームを4つの電子ビーム群A、B、C、及びDに分割してそれぞれ異なるタイミングでマーク部50に照射させる。
【0060】
照射切替手段112は、第1のタイミングにおいて電子ビーム群Aをマーク部50に照射させ、第2のタイミングにおいて電子ビーム群Bをマーク部50に照射させ、第3のタイミングにおいて電子ビーム群Cを照射させ第4のタイミングにおいて電子ビーム群Dをマーク部50に照射させる。そして、位置検出部132は、複数の電子検出部から出力された検出信号に基づいて、電子ビームの照射位置を検出する。例えば、位置検出部132は、第1のタイミングにおいて、電子ビーム10aに隣接して設けられた電子検出部40pから出力された検出信号に基づいて電子ビーム10aの照射位置を検出する。また、第2のタイミングにおいて、電子ビーム10bに隣接して設けられた電子検出部40qから出力された検出信号に基づいて電子ビーム10bの照射位置を検出する。また、第3のタイミングにおいて、電子ビーム10eに隣接して設けられた電子検出部40tから出力された検出信号に基づいて電子ビーム10eの照射位置を検出する。また、第4のタイミングにおいて、電子ビーム10fに隣接して設けられた電子検出部40uから出力された検出信号に基づいて電子ビーム10fの照射位置を検出する。
【0061】
上述したように、本実施形態における電子ビーム露光装置100は、所定の間隔を隔てて照射される複数の電子ビームを同時に照射させて、電子ビームの照射位置を検出することができる。したがって、所定の間隔を隔てて照射される複数の電子ビームの照射位置の検出処理を非常に少ない回数行うことによって、全ての電子ビームの照射位置を検出することができる。
【0062】
図9は、第3の実施形態に係る電子ビーム露光装置100の電子検出装置200の構成を示す。電子検出装置200は、複数の電子ビームが通過する複数の開口部54が設けられた基板42と、ウェハ44又はウェハステージ46に設けられたマーク部50から放射された電子を検出して、検出された電子量に基づく検出信号を出力する電子検出部40と、複数の開口部の間に設けられた遮蔽板56とを備える。本実施形態においては、電子検出部40は、基板42に設けられた複数の開口部54の間に複数設けられる。また、複数の電子検出部40は、複数の開口部54のそれぞれに対応して設けられる。さらに、電子検出部40は、基板42に設けられた複数の開口部54のそれぞれの周囲に設けられる。また、所定の電子ビームと、当該所定の電子ビームと隣接して照射される電子ビームとの間に、遮蔽板56が設けられる。つまり、遮蔽板56は、所定の開口部54の周囲に設けられた電子検出部40と、当該所定の開口部54に隣接する開口部の周囲に設けられた電子検出部40との間に設けられる。遮蔽板56は、所定の電子ビームと、電子検出部との間に設けられていればよい。また、遮蔽板56は、電子ビームのウェハが載置される面における照射位置と、第2電子ビームに設けられた電子検出部との間に設けられることが好ましい。また、遮蔽板56は、非磁性導体材料により形成されることが望ましい。さらに、遮蔽板56は、基板42に接地されることが望ましい。
【0063】
図10は、第3の実施形態に係る電子ビームの照射位置の検出方法を示す。照射切替手段112は、照射位置を検出すべき電子ビーム10a、10b、10c、及び10dのそれぞれをマーク部50a、50b、50c、及び50dのそれぞれに照射させる。そして、偏向部38は、照射された電子ビーム群のそれぞれを偏向し、マーク群のそれぞれを走査させる。次に、電子検出部40p、40q、40r、及び40sは、マーク部50a、50b、50c、及び50dから放射される電子を検出し、検出した電子量に基づく検出信号を出力する。次に、反射電子処理部94は、電子検出部40p、40q、40r、及び40sから出力された検出信号と、検出信号を出力した電子検出部とを対応づけて、位置検出部132に通知する。次に、位置検出部132は、電子ビーム10aに隣接して設けられた電子検出部40pから出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10aの照射位置を検出する。また、電子ビーム10bに隣接して設けられた電子検出部40qから出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10bの照射位置を検出する。また、電子ビーム10cに隣接して設けられた電子検出部40rから出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10cの照射位置を検出する。また、電子ビーム10dに隣接して設けられた電子検出部40sから出力された検出信号に基づいて、電子ビーム10dの照射位置を検出する。
【0064】
本実施形態による電子ビーム露光装置100では、複数の電子ビームのそれぞれに対応して設けられた電子検出部40のそれぞれの周囲に遮蔽板56が設けられることによって、所定の電子ビームが所定のマーク部50に照射されることにより当該所定のマーク部50から放射される電子が、当該所定の電子ビームに対応して設けられた電子検出部40以外の電子検出部40に放射されない。そのため、本実施形態における電子ビーム露光装置100では、複数の電子ビームのそれぞれを同時に複数のマーク部50のそれぞれに照射させて、複数の電子ビームの照射位置を同時に検出することができる。
【0065】
図11は、第3の実施形態に係る電子ビーム露光装置100の電子検出装置200の構成の他の例を示す。遮蔽板58は、格子状に設けられた複数の開口部54のそれぞれの周囲に設けられた電子検出部40のそれぞれの間に、格子状に設けられてもよい。また、遮蔽板58は、所定のマーク部50から放射された電子が、当該所定のマーク部50に対応して設けられた所定の電子検出部以外の他の電子検出部に放射されないように、所定の電子検出部と他の電子検出部とを遮蔽する形状であればよい。
【0066】
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることができる。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【0067】
【発明の効果】
上記説明から明らかなように、本発明によれば、複数の電子ビームの照射位置を短時間で精度よく検出する電子ビーム露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置100の構成を示す図である。
【図2】第1の実施形態に係る電子ビーム露光装置100の電子検出装置200の構成を示す図である。
【図3】第1の実施形態に係る電子ビームの照射位置の検出方法を示す図である。
【図4】第1の実施形態に係る電子ビームの照射位置の検出順序の一例を示す図である。
【図5】第1の実施形態における電子ビームの照射位置の検出方法の他の実施例を示す図である。
【図6】第2の実施形態に係る電子ビーム露光装置100の電子検出装置200の構成を示す図である。
【図7】第2の実施形態に係る電子ビームの照射位置の検出方法を示す図である。
【図8】第2の実施形態に係る電子ビームの照射位置の検出順序の一例を示す図である。
【図9】第3の実施形態に係る電子ビーム露光装置100の電子検出装置200の構成を示す図である。
【図10】第3の実施形態に係る電子ビームの照射位置の検出方法を示す図である。
【図11】第3の実施形態に係る電子ビーム露光装置100の電子検出装置200構成の他の例を示す図である。
【符号の説明】
8・・筐体、10・・電子ビーム発生部、10a〜10f・・電子ビーム、14・・第1成形部材、16・・第1多軸電子レンズ、18・・第1成形偏向部、20・・第2成形偏向部、22・・第2成形部材、24・・第2多軸電子レンズ、26・・ブランキング電極アレイ、28・・電子ビーム遮蔽部材、34・・第3多軸電子レンズ、36・・第4多軸電子レンズ、38・・偏向部、40・・電子検出部、40a〜40u・・電子検出部、42・・基板、44・・ウェハ、46・・ウェハステージ、48・・ウェハステージ駆動部、50・・マーク部、50a〜50d・・マーク部、52・・第5多軸電子レンズ、54・・開口部、56・・遮蔽板、58・・遮蔽板、80・・電子ビーム制御部、82・・多軸電子レンズ制御部、84・・成形偏向制御部、86・・ブランキング電極アレイ制御部、92・・偏向制御部、94・・反射電子処理部、96・・ウェハステージ制御部、100・・電子ビーム露光装置、110・・電子ビーム成形手段、112・・照射切替手段、114・・ウェハ用投影系、120・・個別制御系、130・・統括制御部、132・・位置検出部、140・・制御系、150・・露光部、200・・電子検出装置
Claims (20)
- 複数の電子ビームにより、ウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、
前記複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、
前記電子ビームが照射され、前記電子ビームの照射位置を検出させるマーク部と、
前記複数の電子ビームの間に設けられており、前記マーク部から放射された電子を検出して、検出された電子量に基づく検出信号を出力する第1電子検出部と、
前記検出信号に基づいて、前記電子ビームの照射位置を検出する位置検出部と、
前記複数の電子ビームを前記マーク部に照射させるか否かを独立して切り替える照射切替手段と
を備え、
前記照射切替手段は、第1のタイミングにおいて、前記複数の電子ビームのうちの第1電子ビームを照射させ、第2のタイミングにおいて、前記第1電子ビームと隣接する第2電子ビームを照射させ、
前記位置検出部は、前記第1のタイミングにおいて、前記第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、前記第1電子ビームの照射位置を検出し、前記第2のタイミングにおいて、前記第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、前記第2電子ビームの照射位置を検出する電子ビーム露光装置。 - 前記第1電子ビームの光軸と、第2電子ビームの光軸と、前記第1電子検出部とは、実質的に同一直線上に設けられる請求項1に記載の電子ビーム露光装置。
- 前記電子ビーム発生部は、3つ以上の電子ビームを略等しい間隔を隔てて発生し、
前記第1電子検出部は、前記3つ以上の電子ビームのそれぞれの間に設けられる請求項1または2に記載の電子ビーム露光装置。 - 前記第1電子検出部は、前記複数の電子ビームのうちの2つの電子ビームの間に複数設けられる請求項1から3のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
- 前記複数の第1電子検出部は、前記複数の電子ビームのそれぞれに対応して設けられる請求項4に記載の電子ビーム露光装置。
- 前記照射切替手段は、前記第1のタイミングにおいて、前記複数の電子ビームのうちの第1電子ビームを照射させ、前記第2のタイミングにおいて、前記第1電子ビームと隣接する第2電子ビームを照射させ、
前記位置検出部は、前記第1のタイミングにおいて、前記第1電子ビームに対応して設けられた前記第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、前記第1電子ビームの照射位置を検出し、前記第2のタイミングにおいて、前記第2電子ビームに対応して設けられた前記第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、前記第2電子ビームの照射位置を検出する請求項5に記載の電子ビーム露光装置。 - 前記照射切替手段は、前記第1のタイミングにおいて、前記第1電子ビームを含む第1電子ビーム群を照射させ、前記第2のタイミングにおいて、前記第1電子ビーム群以外の電子ビームであって、前記第2電子ビームを含む第2電子ビーム群を照射させる請求項1から6のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
- 前記第1電子検出部は、前記第1電子ビーム群に含まれる電子ビームのそれぞれと、前記第2電子ビーム群に含まれる電子ビームのそれぞれとのそれぞれの間に設けられており、
前記位置検出部は、前記第1のタイミングにおいて、前記第1電子ビーム群に含まれる電子ビームの照射位置を、当該電子ビームに隣接する前記第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて検出し、前記第2のタイミングにおいて、前記第2電子ビーム群に含まれる電子ビームの照射位置を、当該電子ビームに隣接する前記第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて検出する請求項7に記載の電子ビーム露光装置。 - 前記電子ビーム発生部は、前記複数の電子ビームを格子状に発生し、
前記第1電子検出部は、前記複数の電子ビームのそれぞれの間に設けられており、
前記位置検出部は、前記第1のタイミングにおいて、前記第1電子ビーム群に含まれるそれぞれの電子ビームの周囲に設けられた前記第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、前記第1電子ビーム群に含まれる電子ビームの照射位置を検出し、前記第2のタイミングにおいて、前記第2電子ビーム群に含まれるそれぞれの電子ビームの周囲に設けられた前記第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、前記第2電子ビーム群に含まれる電子ビームの照射位置を検出する請求項8に記載の電子ビーム露光装置。 - 前記第1電子ビーム群及び前記第2電子ビーム群は、略等しい間隔を隔てて照射される複数の電子ビームを有する請求項7から9のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
- 複数の電子ビームにより、ウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、
第1電子ビームと、第2電子ビームとを含む前記複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、
前記電子ビームが照射され、前記電子ビームの照射位置を検出させるマーク部と、
前記第1電子ビームと前記第2電子ビームの間に設けられており、前記マーク部から放射された電子を検出して、検出された電子量に基づく検出信号を出力する第1電子検出部と、
前記検出信号に基づいて、前記電子ビームの照射位置を検出する位置検出部と、
前記複数の電子ビームを独立に偏向する偏向部と、
前記偏向部を制御する偏向制御部と、
前記第1電子ビームに対して、前記第1電子ビームから前記第1電子検出部への方向である第1の方向と略垂直な方向である第2の方向に設けられた第2電子検出部と
をさらに備え、
前記偏向制御部は、前記偏向部を制御し、前記第1電子ビームを前記第2の方向に偏向させ、前記第2電子ビームを前記第1の方向に偏向させ、
前記位置検出部は、前記第2電子検出部から出力される検出信号に基づいて、前記第1電子ビームの照射位置を検出し、前記第1電子検出部から出力される検出信号に基づいて、前記第2電子ビームの照射位置を検出する電子ビーム露光装置。 - 前記第1電子ビームを挟んで、前記第2電子検出部に対向する位置に設けられた第3電子検出部と、
前記第2電子ビームを挟んで、前記第1電子検出部に対向する位置に設けられた第4電子検出部と
をさらに備え、
前記位置検出部は、前記第2電子検出部及び前記第3電子検出部から出力される検出信号に基づいて、前記第1電子ビームの照射位置を検出し、前記第1電子検出部及び前記第4電子検出部から出力される検出信号に基づいて、前記第2電子ビームの照射位置を検出する請求項11に記載の電子ビーム露光装置。 - 前記第1電子ビームを挟んで、前記第1電子検出部に対向する位置に設けられた第5電子検出部と、
前記第2電子ビームに対して、前記第2の方向に設けられた第6電子検出部と、
前記第2電子ビームを挟んで、前記第6電子検出部に対向する位置に設けられた第7電子検出部と
をさらに備え、
前記偏向制御部は、前記偏向部を制御し、第1のタイミングにおいて、前記第1電子ビームを前記第2の方向に偏向させ、前記第2電子ビームを前記第1の方向に偏向させ、第2のタイミングにおいて、前記第1電子ビームを前記第1の方向に偏向させ、前記第2電子ビームを前記第2の方向に偏向させ、
前記位置検出部は、前記第1のタイミングにおいて前記第2電子検出部及び前記第3電子検出部から出力される検出信号と、前記第2のタイミングにおいて前記第1電子検出部及び前記第5電子検出部から出力される検出信号とに基づいて、前記第1電子ビームの照射位置を検出し、前記第1のタイミングにおいて前記第1電子検出部及び前記第4電子検出部から出力される検出信号と、第2のタイミングにおいて前記第6電子検出部及び前記第7電子検出部から出力される検出信号とに基づいて、前記第2電子ビームの照射位置を検出する請求項12に記載の電子ビーム露光装置。 - 複数の電子ビームのそれぞれをマーク部に照射させ、マーク部から放射された電子量を検出する電子検出部を用いて、前記複数の電子ビームの照射位置を検出する照射位置検出方法であって、
第1電子ビーム及び第2電子ビームを含む前記複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生段階と、
前記第1電子ビームをマーク部に照射する第1照射段階と、
前記第1電子ビームと前記第2電子ビームとの間に設けられた第1電子検出部を用いて、マーク部から放射された電子を検出する第1電子検出段階と、
前記第1電子検出部から出力される検出信号に基づいて、前記第1電子ビームの照射位置を検出する第1位置検出段階と、
前記第2電子ビームをマーク部に照射する第2照射段階と、
前記第1電子検出部を用いて、マーク部から放射された電子を検出する第2電子検出段階と、
前記第1電子検出部から出力される検出信号に基づいて、前記第2電子ビームの照射位置を検出する第2位置検出段階と
を備える照射位置検出方法。 - 前記第1電子検出段階は、前記第1電子検出部に含まれる第1電子検出器を用いて、マーク部から放射された電子を検出し、
前記第1位置検出段階は、前記第1電子検出器から出力される検出信号に基づいて、前記第1電子ビームの照射位置を検出し、
前記第2電子検出段階は、前記第1電子検出部に含まれる第2電子検出器を用いて、マーク部から放射された電子を検出し、
前記第2位置検出段階は、前記第2電子検出器から出力される検出信号に基づいて、前記第2電子ビームの照射位置を検出する請求項14に記載の照射位置検出方法。 - 前記第1照射段階は、前記第1電子ビームを含む第1電子ビーム群を照射し、
前記第2照射段階は、前前記第1電子ビーム群以外の電子ビームであって、前記第2電子ビームを含む第2電子ビーム群を照射させる請求項14または15に記載の照射位置検出方法。 - 前記第1照射段階は、前記第1電子ビーム群に含まれる複数の電子ビームを略等しい間隔を隔てて照射し、
前記第2照射段階は、前記第2電子ビーム群に含まれる複数の電子ビームを略等しい間隔を隔てて照射する請求項16に記載の照射位置検出方法。 - 前記電子ビーム発生段階は、前記第1電子ビーム群に含まれる第3電子ビームと、前記第2電子ビーム群に含まれる第4電子ビームを発生する段階を含み、
前記第1照射段階は、前記第3電子ビームをマーク部に照射する段階を含み、
前記第1電子検出段階は、前記第3電子ビームと前記第4電子ビームとの間に設けられた第2電子検出部を用いて、マーク部から放射された電子を検出する段階を含み、
前記第1位置検出段階は、前記第2電子検出部から出力される検出信号に基づいて、前記第3電子ビームの照射位置を検出する段階を含み、
前記第2照射段階は、前記第4電子ビームをマーク部に照射する段階を含み、
前記第2電子検出段階は、前記第2電子検出部を用いて、マーク部から放射された電子を検出する段階を含み、
前記第2位置検出段階は、前記第2電子検出部から出力される検出信号に基づいて、前記第4電子ビームの照射位置を検出する段階を含む請求項16または17に記載の照射位置検出方法。 - 複数の電子ビームのそれぞれをマーク部に照射させ、マーク部から放射された電子量を検出する電子検出部を用いて、前記複数の電子ビームの照射位置を検出する照射位置検出方法であって、
第1電子ビームと、前記第1電子ビームに隣接して照射される第2電子ビームとを含む前記複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生段階と、
前記第1電子ビームを、前記第1電子ビームから前記第2電子ビームの方向である第1の方向に偏向させてマーク部に照射し、前記第2電子ビームを前記第1の方向に略垂直な方向である第2の方向に偏向させてマーク部に照射する第1照射段階と、
前記第1電子ビームに対して前記第1の方向に設けられた第1電子検出部が出力する検出信号に基づいて、前記第1電子ビームの照射位置を検出し、前記第2電子ビームに対して前記第2の方向に設けられた第2電子検出部が出力する検出信号に基づいて、前記第2電子ビームの照射位置を検出する第1位置検出段階と
を備える照射位置検出方法。 - 前記第1電子ビームを前記第2の方向と略平行な方向に偏向させてマーク部に照射し、前記第2電子ビームを前記第1の方向と略平行な方向に偏向させてマーク部に照射する第2照射段階と、
前記第1電子ビームに対して、前記第2の方向と略平行な方向に設けられた第3電子検出部から出力される検出信号に基づいて、前記第1電子ビームの照射位置を検出し、前記第1電子検出部から出力される検出信号に基づいて、前記第2電子ビームの照射位置を検出する第2位置検出段階と
をさらに備える請求項19に記載の照射位置検出方法。
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