JP2002150989A - 電子ビーム露光装置及び電子レンズ - Google Patents
電子ビーム露光装置及び電子レンズInfo
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数の電子ビームをそれぞれ独立に精度よく
集束させることができる電子ビーム露光装置及び電子レ
ンズを提供する。 【解決手段】 複数の電子ビームにより、ウェハを露光
する電子ビーム露光装置であって、複数の電子ビームを
発生する電子ビーム発生部と、複数の電子ビームをそれ
ぞれ独立に集束させる電子レンズ部と備え、電子レンズ
部は、複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を
含む第１主磁性導体部と、第１主磁性導体部に対して略
平行に配置され、複数の電子ビームが通過する複数の第
２開口部を含む第２主磁性導体部と、第１主磁性導体部
において、第１開口部の周囲に、電子ビームの照射方向
に略平行な方向に突出するように設けられた複数の第１
副磁性導体部とを有する。
集束させることができる電子ビーム露光装置及び電子レ
ンズを提供する。 【解決手段】 複数の電子ビームにより、ウェハを露光
する電子ビーム露光装置であって、複数の電子ビームを
発生する電子ビーム発生部と、複数の電子ビームをそれ
ぞれ独立に集束させる電子レンズ部と備え、電子レンズ
部は、複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を
含む第１主磁性導体部と、第１主磁性導体部に対して略
平行に配置され、複数の電子ビームが通過する複数の第
２開口部を含む第２主磁性導体部と、第１主磁性導体部
において、第１開口部の周囲に、電子ビームの照射方向
に略平行な方向に突出するように設けられた複数の第１
副磁性導体部とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム露光装
置及び電子レンズに関する。特に本発明は、複数の電子
ビームをそれぞれ独立に集束させることができる電子ビ
ーム露光装置及び電子レンズに関する。
置及び電子レンズに関する。特に本発明は、複数の電子
ビームをそれぞれ独立に集束させることができる電子ビ
ーム露光装置及び電子レンズに関する。
【０００２】
【従来の技術】図１は、従来の電子ビーム露光装置にお
ける多軸電子レンズ３００の断面図である。多軸電子レ
ンズ３００では、１つのレンズコイル３１０と、複数の
開口部３２０を有する２つの磁性導体部材３３０とを用
いることにより、当該複数の開口部３２０のそれぞれに
おいて複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させてい
た。
ける多軸電子レンズ３００の断面図である。多軸電子レ
ンズ３００では、１つのレンズコイル３１０と、複数の
開口部３２０を有する２つの磁性導体部材３３０とを用
いることにより、当該複数の開口部３２０のそれぞれに
おいて複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させてい
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、１つの
レンズコイル３１０によって複数の開口部３２０に生じ
る磁界３４０は、開口部３２０の中心軸に対して対称と
ならないため、それぞれの開口部３２０を通過する複数
の電子ビームを同じ位置で結像させることが困難であっ
た。
レンズコイル３１０によって複数の開口部３２０に生じ
る磁界３４０は、開口部３２０の中心軸に対して対称と
ならないため、それぞれの開口部３２０を通過する複数
の電子ビームを同じ位置で結像させることが困難であっ
た。
【０００４】そこで本発明は、上記の課題を解決するこ
とのできる電子ビーム露光装置及び電子レンズを提供す
ることを目的とする。この目的は特許請求の範囲におけ
る独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。
また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
とのできる電子ビーム露光装置及び電子レンズを提供す
ることを目的とする。この目的は特許請求の範囲におけ
る独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。
また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明の第１の形
態によると、複数の電子ビームにより、ウェハを露光す
る電子ビーム露光装置であって、複数の電子ビームを発
生する電子ビーム発生部と、複数の電子ビームをそれぞ
れ独立に集束させる電子レンズ部とを備え、電子レンズ
部は、複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を
含む第１主磁性導体部と、第１主磁性導体部に対して略
平行に配置され、複数の電子ビームが通過する複数の第
２開口部を含む第２主磁性導体部と、第１主磁性導体部
において、第１開口部の周囲に、電子ビームの照射方向
に略平行な方向に突出するように設けられた複数の第１
副磁性導体部とを有する。
態によると、複数の電子ビームにより、ウェハを露光す
る電子ビーム露光装置であって、複数の電子ビームを発
生する電子ビーム発生部と、複数の電子ビームをそれぞ
れ独立に集束させる電子レンズ部とを備え、電子レンズ
部は、複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を
含む第１主磁性導体部と、第１主磁性導体部に対して略
平行に配置され、複数の電子ビームが通過する複数の第
２開口部を含む第２主磁性導体部と、第１主磁性導体部
において、第１開口部の周囲に、電子ビームの照射方向
に略平行な方向に突出するように設けられた複数の第１
副磁性導体部とを有する。
【０００６】電子レンズ部は、第２主磁性導体部との間
隔が異なる複数の第１副磁性導体部を有してもよい。電
子レンズ部は、第１主磁性導体部及び第２主磁性導体部
の周囲に設けられ、磁界を発生させるコイル部をさらに
有してもよい。所定の第１副磁性導体部と第２主磁性導
体部との間隔は、所定の第１副磁性導体部よりコイル部
から遠い位置に配置された他の第１副磁性導体部と第２
主磁性導体部との間隔より大きくてもよい。
隔が異なる複数の第１副磁性導体部を有してもよい。電
子レンズ部は、第１主磁性導体部及び第２主磁性導体部
の周囲に設けられ、磁界を発生させるコイル部をさらに
有してもよい。所定の第１副磁性導体部と第２主磁性導
体部との間隔は、所定の第１副磁性導体部よりコイル部
から遠い位置に配置された他の第１副磁性導体部と第２
主磁性導体部との間隔より大きくてもよい。
【０００７】複数の第１副磁性導体部のそれぞれと、第
２主磁性導体部との間隔は、第２主磁性導体部における
複数の第２開口部が設けられた領域の中心軸に対して略
対称であってもよい。電子レンズ部は、第２主磁性導体
部において、第２開口部の周囲に、電子ビームの照射方
向に略平行な方向に突出するように設けられた複数の第
２副磁性導体部をさらに有してもよい。
２主磁性導体部との間隔は、第２主磁性導体部における
複数の第２開口部が設けられた領域の中心軸に対して略
対称であってもよい。電子レンズ部は、第２主磁性導体
部において、第２開口部の周囲に、電子ビームの照射方
向に略平行な方向に突出するように設けられた複数の第
２副磁性導体部をさらに有してもよい。
【０００８】所定の第１副磁性導体部と、当該所定の第
１副磁性導体部に対向する所定の第２副磁性導体部との
間隔は、他の第１副磁性導体部と、当該他の第１磁性導
体部と対向する他の第２副磁性導体部との間隔と異なっ
ていてもよい。所定の第１副磁性導体部と所定の第２副
磁性導体部との間隔は、所定の第１副磁性導体部よりコ
イル部から遠い位置に配置された他の第１副磁性導体部
と他の第２副磁性導体部との間隔より大きくてもよい。
１副磁性導体部に対向する所定の第２副磁性導体部との
間隔は、他の第１副磁性導体部と、当該他の第１磁性導
体部と対向する他の第２副磁性導体部との間隔と異なっ
ていてもよい。所定の第１副磁性導体部と所定の第２副
磁性導体部との間隔は、所定の第１副磁性導体部よりコ
イル部から遠い位置に配置された他の第１副磁性導体部
と他の第２副磁性導体部との間隔より大きくてもよい。
【０００９】複数の第１副磁性導体部のそれぞれと、複
数の第２副磁性導体部のそれぞれとの間隔は、第２主磁
性導体部における複数の第２開口部が設けられた領域の
中心軸に対して略対称であってもよい。
数の第２副磁性導体部のそれぞれとの間隔は、第２主磁
性導体部における複数の第２開口部が設けられた領域の
中心軸に対して略対称であってもよい。
【００１０】電子レンズ部は、第１副磁性導体部と、第
１副磁性導体部と略同一軸上に設けられた第２副磁性導
体部との周囲に設けられた非磁性導体部をさらに有して
もよい。非磁性導体部は、第１副磁性導体部と第２副磁
性導体部とに挟まれてもよい。
１副磁性導体部と略同一軸上に設けられた第２副磁性導
体部との周囲に設けられた非磁性導体部をさらに有して
もよい。非磁性導体部は、第１副磁性導体部と第２副磁
性導体部とに挟まれてもよい。
【００１１】本発明の他の形態によると、複数の電子ビ
ームをそれぞれ独立に集束させる電子レンズ部であっ
て、電子レンズ部は、複数の電子ビームが通過する複数
の第１開口部を含む第１主磁性導体部と、第１主磁性導
体部に対して略平行に配置され、複数の電子ビームが通
過する複数の第２開口部を含む第２主磁性導体部と、第
１主磁性導体部において、第１開口部の周囲に、電子ビ
ームの照射方向に略平行な方向に突出するように設けら
れた複数の第１副磁性導体部とを備える。
ームをそれぞれ独立に集束させる電子レンズ部であっ
て、電子レンズ部は、複数の電子ビームが通過する複数
の第１開口部を含む第１主磁性導体部と、第１主磁性導
体部に対して略平行に配置され、複数の電子ビームが通
過する複数の第２開口部を含む第２主磁性導体部と、第
１主磁性導体部において、第１開口部の周囲に、電子ビ
ームの照射方向に略平行な方向に突出するように設けら
れた複数の第１副磁性導体部とを備える。
【００１２】なお上記の発明の概要は、本発明の必要な
特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群の
サブコンビネーションも又発明となりうる。
特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群の
サブコンビネーションも又発明となりうる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態を通じて
本発明を説明するが、以下の実施形態はクレームにかか
る発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明
されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に
必須であるとは限らない。
本発明を説明するが、以下の実施形態はクレームにかか
る発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明
されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に
必須であるとは限らない。
【００１４】図２は、本発明の一実施形態に係る電子ビ
ーム露光装置１００の構成を示す。電子ビーム露光装置
１００は、電子ビームによりウェハ４４に所定の露光処
理を施す露光部１５０と、露光部１５０に含まれる各構
成の動作を制御する制御系１４０を備える。
ーム露光装置１００の構成を示す。電子ビーム露光装置
１００は、電子ビームによりウェハ４４に所定の露光処
理を施す露光部１５０と、露光部１５０に含まれる各構
成の動作を制御する制御系１４０を備える。
【００１５】露光部１５０は、筐体８内部において複数
の電子ビームを発生し、電子ビームの断面形状を所望に
成形する電子ビーム成形手段１１０と、複数の電子ビー
ムをウェハ４４に照射するか否かを、それぞれの電子ビ
ームに対して独立に切替える照射切替手段１１２と、ウ
ェハ４４に転写されるパターンの像の向き及びサイズを
調整するウェハ用投影系１１４を含む電子光学系を備え
る。また、露光部１５０は、パターンを露光すべきウェ
ハ４４を載置するウェハステージ４６と、ウェハステー
ジ４６を駆動するウェハステージ駆動部４８とを含むス
テージ系を備える。さらに、露光部１５０は、ウェハ４
４又はウェハステージ４６に設けられるマーク部に照射
された電子ビームにより、マーク部から放射された２次
電子や反射電子等を検出する電子検出部４０を備える。
電子検出部４０は、検出した反射電子の量に対応した検
出信号を反射電子処理部９４に出力する。
の電子ビームを発生し、電子ビームの断面形状を所望に
成形する電子ビーム成形手段１１０と、複数の電子ビー
ムをウェハ４４に照射するか否かを、それぞれの電子ビ
ームに対して独立に切替える照射切替手段１１２と、ウ
ェハ４４に転写されるパターンの像の向き及びサイズを
調整するウェハ用投影系１１４を含む電子光学系を備え
る。また、露光部１５０は、パターンを露光すべきウェ
ハ４４を載置するウェハステージ４６と、ウェハステー
ジ４６を駆動するウェハステージ駆動部４８とを含むス
テージ系を備える。さらに、露光部１５０は、ウェハ４
４又はウェハステージ４６に設けられるマーク部に照射
された電子ビームにより、マーク部から放射された２次
電子や反射電子等を検出する電子検出部４０を備える。
電子検出部４０は、検出した反射電子の量に対応した検
出信号を反射電子処理部９４に出力する。
【００１６】電子ビーム成形手段１１０は、複数の電子
ビームを発生させる電子ビーム発生部１０と、電子ビー
ムを通過させることにより、照射された電子ビームの断
面形状を成形する複数の開口部を有する第１成形部材１
４および第２成形部材２２と、複数の電子ビームをそれ
ぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する
第１多軸電子レンズ１６と、第１成形部材１４を通過し
た複数の電子ビームを独立に偏向する第１成形偏向部１
８および第２成形偏向部２０とを有する。
ビームを発生させる電子ビーム発生部１０と、電子ビー
ムを通過させることにより、照射された電子ビームの断
面形状を成形する複数の開口部を有する第１成形部材１
４および第２成形部材２２と、複数の電子ビームをそれ
ぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する
第１多軸電子レンズ１６と、第１成形部材１４を通過し
た複数の電子ビームを独立に偏向する第１成形偏向部１
８および第２成形偏向部２０とを有する。
【００１７】第１多軸電子レンズ１６は、複数の電子ビ
ームが通過する複数の開口部を含む第１主磁性導体部２
１０ａと、当該第１主磁性導体部２１０ａに略平行して
配置され、複数の電子ビームが通過する複数の開口部を
含む第２主磁性導体部２１０ｂと、第１主磁性導体部２
１０ａ及び第２主磁性導体部２１０ｂの開口部の周囲
に、電子ビームの照射方向に略平行な方向に突出するよ
うに設けられた複数の副磁性導体部２０６を有する。な
お、第２多軸電子レンズ２４、第３多軸電子レンズ３
４、第４多軸電子レンズ３６、及び第５多軸電子レンズ
５２も、上述した第１多軸電子レンズと同様の構成を有
してもよい。
ームが通過する複数の開口部を含む第１主磁性導体部２
１０ａと、当該第１主磁性導体部２１０ａに略平行して
配置され、複数の電子ビームが通過する複数の開口部を
含む第２主磁性導体部２１０ｂと、第１主磁性導体部２
１０ａ及び第２主磁性導体部２１０ｂの開口部の周囲
に、電子ビームの照射方向に略平行な方向に突出するよ
うに設けられた複数の副磁性導体部２０６を有する。な
お、第２多軸電子レンズ２４、第３多軸電子レンズ３
４、第４多軸電子レンズ３６、及び第５多軸電子レンズ
５２も、上述した第１多軸電子レンズと同様の構成を有
してもよい。
【００１８】電子ビーム発生部１０は、複数の電子銃１
０４と、電子銃１０４が形成される基材１０６とを有す
る。電子銃１０４は、熱電子を発生させるカソード１２
と、カソード１２を囲むように形成され、カソード１２
で発生した熱電子を安定させるグリッド１０２とを有す
る。カソード１２とグリッド１０２とは、電気的に絶縁
されるのが望ましい。本実施例において、電子ビーム発
生部１０は、基材１０６に、複数の電子銃１０４を、所
定の間隔に有することにより、電子銃アレイを形成す
る。
０４と、電子銃１０４が形成される基材１０６とを有す
る。電子銃１０４は、熱電子を発生させるカソード１２
と、カソード１２を囲むように形成され、カソード１２
で発生した熱電子を安定させるグリッド１０２とを有す
る。カソード１２とグリッド１０２とは、電気的に絶縁
されるのが望ましい。本実施例において、電子ビーム発
生部１０は、基材１０６に、複数の電子銃１０４を、所
定の間隔に有することにより、電子銃アレイを形成す
る。
【００１９】照射切替手段１１２は、複数の電子ビーム
を独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第
２多軸電子レンズ２４と、複数の電子ビームをそれぞれ
独立に偏向させることにより、それぞれの電子ビームを
ウェハ４４に照射するか否かを、それぞれの電子ビーム
に対して独立に切替えるブランキング電極アレイ２６
と、電子ビームを通過させる複数の開口部を含み、ブラ
ンキング電極アレイ２６で偏向された電子ビームを遮蔽
する電子ビーム遮蔽部材２８とを有する。他の例におい
てブランキング電極アレイ２６は、ブランキング・アパ
ーチャ・アレイ・デバイスであってもよい。
を独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第
２多軸電子レンズ２４と、複数の電子ビームをそれぞれ
独立に偏向させることにより、それぞれの電子ビームを
ウェハ４４に照射するか否かを、それぞれの電子ビーム
に対して独立に切替えるブランキング電極アレイ２６
と、電子ビームを通過させる複数の開口部を含み、ブラ
ンキング電極アレイ２６で偏向された電子ビームを遮蔽
する電子ビーム遮蔽部材２８とを有する。他の例におい
てブランキング電極アレイ２６は、ブランキング・アパ
ーチャ・アレイ・デバイスであってもよい。
【００２０】ウェハ用投影系１１４は、複数の電子ビー
ムをそれぞれ独立に集束し、電子ビームの照射径を縮小
する第３多軸電子レンズ３４と、複数の電子ビームをそ
れぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整す
る第４多軸電子レンズ３６と、複数の電子ビームをウェ
ハ４４の所望の位置に、それぞれの電子ビームに対して
独立に偏向する偏向部３８と、ウェハ４４に対する対物
レンズとして機能し、複数の電子ビームをそれぞれ独立
に集束する第５多軸電子レンズ５２とを有する。
ムをそれぞれ独立に集束し、電子ビームの照射径を縮小
する第３多軸電子レンズ３４と、複数の電子ビームをそ
れぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整す
る第４多軸電子レンズ３６と、複数の電子ビームをウェ
ハ４４の所望の位置に、それぞれの電子ビームに対して
独立に偏向する偏向部３８と、ウェハ４４に対する対物
レンズとして機能し、複数の電子ビームをそれぞれ独立
に集束する第５多軸電子レンズ５２とを有する。
【００２１】制御系１４０は、統括制御部１３０及び個
別制御部１２０を備える。個別制御部１２０は、電子ビ
ーム制御部８０と、多軸電子レンズ制御部８２と、成形
偏向制御部８４と、ブランキング電極アレイ制御部８６
と、偏向制御部９２と、反射電子処理部９４と、ウェハ
ステージ制御部９６とを有する。統括制御部１３０は、
例えばワークステーションであって、個別制御部１２０
に含まれる各制御部を統括制御する。電子ビーム制御部
８０は、電子ビーム発生部１０を制御する。多軸電子レ
ンズ制御部８２は、第１多軸電子レンズ１６、第２多軸
電子レンズ２４、第３多軸電子レンズ３４、第４多軸電
子レンズ３６および第５多軸電子レンズ５２に供給する
電流を制御する。
別制御部１２０を備える。個別制御部１２０は、電子ビ
ーム制御部８０と、多軸電子レンズ制御部８２と、成形
偏向制御部８４と、ブランキング電極アレイ制御部８６
と、偏向制御部９２と、反射電子処理部９４と、ウェハ
ステージ制御部９６とを有する。統括制御部１３０は、
例えばワークステーションであって、個別制御部１２０
に含まれる各制御部を統括制御する。電子ビーム制御部
８０は、電子ビーム発生部１０を制御する。多軸電子レ
ンズ制御部８２は、第１多軸電子レンズ１６、第２多軸
電子レンズ２４、第３多軸電子レンズ３４、第４多軸電
子レンズ３６および第５多軸電子レンズ５２に供給する
電流を制御する。
【００２２】成形偏向制御部８４は、第１成形偏向部１
８および第２成形偏向部２０を制御する。ブランキング
電極アレイ制御部８６は、ブランキング電極アレイ２６
に含まれる偏向電極に印加する電圧を制御する。偏向制
御部９２は、偏向部３８に含まれる複数の偏向器が有す
る偏向電極に印加する電圧を制御する。反射電子処理部
９４は、電子検出部４０から出力された検出信号に基づ
いて反射電子の量を検出し、統括制御部１３０に通知す
る。ウェハステージ制御部９６は、ウェハステージ駆動
部４８を制御し、ウェハステージ４６を所定の位置に移
動させる。
８および第２成形偏向部２０を制御する。ブランキング
電極アレイ制御部８６は、ブランキング電極アレイ２６
に含まれる偏向電極に印加する電圧を制御する。偏向制
御部９２は、偏向部３８に含まれる複数の偏向器が有す
る偏向電極に印加する電圧を制御する。反射電子処理部
９４は、電子検出部４０から出力された検出信号に基づ
いて反射電子の量を検出し、統括制御部１３０に通知す
る。ウェハステージ制御部９６は、ウェハステージ駆動
部４８を制御し、ウェハステージ４６を所定の位置に移
動させる。
【００２３】本実施形態に係る電子ビーム露光装置１０
０の動作について説明する。まず、電子ビーム発生部１
０は、複数の電子ビームを生成する。第１成形部材１４
は、電子ビーム発生部１０により発生し、第１成形部材
１４に照射された複数の電子ビームを、第１成形部材１
４に設けられた複数の開口部を通過させることにより成
形する。他の例においては、電子ビーム発生部１０にお
いて発生した電子ビームを複数の電子ビームに分割する
手段を更に有することにより、複数の電子ビームを生成
してもよい。
０の動作について説明する。まず、電子ビーム発生部１
０は、複数の電子ビームを生成する。第１成形部材１４
は、電子ビーム発生部１０により発生し、第１成形部材
１４に照射された複数の電子ビームを、第１成形部材１
４に設けられた複数の開口部を通過させることにより成
形する。他の例においては、電子ビーム発生部１０にお
いて発生した電子ビームを複数の電子ビームに分割する
手段を更に有することにより、複数の電子ビームを生成
してもよい。
【００２４】第１多軸電子レンズ１６は、矩形に成形さ
れた複数の電子ビームを独立に集束し、第２成形部材２
２に対する電子ビームの焦点を、電子ビーム毎に独立に
調整する。第１成形偏向部１８は、第１成形部材１４に
おいて矩形形状に成形された複数の電子ビームを、第２
成形部材における所望の位置に照射するように、それぞ
れ独立に偏向する。
れた複数の電子ビームを独立に集束し、第２成形部材２
２に対する電子ビームの焦点を、電子ビーム毎に独立に
調整する。第１成形偏向部１８は、第１成形部材１４に
おいて矩形形状に成形された複数の電子ビームを、第２
成形部材における所望の位置に照射するように、それぞ
れ独立に偏向する。
【００２５】第２成形偏向部２０は、第１成形偏向部１
８で偏向された複数の電子ビームを、第２成形部材２２
に対して略垂直な方向にそれぞれ偏向し、第２成形部材
２２に照射する。そして矩形形状を有する複数の開口部
を含む第２成形部材２２は、第２成形部材２２に照射さ
れた矩形の断面形状を有する複数の電子ビームを、ウェ
ハ４４に照射すべき所望の断面形状を有する電子ビーム
にさらに成形する。
８で偏向された複数の電子ビームを、第２成形部材２２
に対して略垂直な方向にそれぞれ偏向し、第２成形部材
２２に照射する。そして矩形形状を有する複数の開口部
を含む第２成形部材２２は、第２成形部材２２に照射さ
れた矩形の断面形状を有する複数の電子ビームを、ウェ
ハ４４に照射すべき所望の断面形状を有する電子ビーム
にさらに成形する。
【００２６】第２多軸電子レンズ２４は、複数の電子ビ
ームを独立に集束して、ブランキング電極アレイ２６に
対する電子ビームの焦点を、それぞれ独立に調整する。
そして、第２多軸電子レンズ２４により焦点がそれぞれ
調整された複数の電子ビームは、ブランキング電極アレ
イ２６に含まれる複数のアパーチャを通過する。
ームを独立に集束して、ブランキング電極アレイ２６に
対する電子ビームの焦点を、それぞれ独立に調整する。
そして、第２多軸電子レンズ２４により焦点がそれぞれ
調整された複数の電子ビームは、ブランキング電極アレ
イ２６に含まれる複数のアパーチャを通過する。
【００２７】ブランキング電極アレイ制御部８６は、ブ
ランキング電極アレイ２６における各アパーチャの近傍
に設けられた偏向電極に電圧を印加するか否かを制御す
る。ブランキング電極アレイ２６は、偏向電極に印加さ
れる電圧に基づいて、電子ビームをウェハ４４に照射さ
せるか否かを切替える。
ランキング電極アレイ２６における各アパーチャの近傍
に設けられた偏向電極に電圧を印加するか否かを制御す
る。ブランキング電極アレイ２６は、偏向電極に印加さ
れる電圧に基づいて、電子ビームをウェハ４４に照射さ
せるか否かを切替える。
【００２８】ブランキング電極アレイに２６により偏向
されない電子ビームは、第３多軸電子レンズ３４を通過
する。そして第３多軸電子レンズ３４は、第３多軸電子
レンズ３４を通過する電子ビームの電子ビーム径を縮小
する。縮小された電子ビームは、電子ビーム遮蔽部材２
８に含まれる開口部を通過する。また、電子ビーム遮蔽
部材２８は、ブランキング電極アレイ２６により偏向さ
れた電子ビームを遮蔽する。電子ビーム遮蔽部材２８を
通過した電子ビームは、第４多軸電子レンズ３６に入射
される。そして第４多軸電子レンズ３６は、入射された
電子ビームをそれぞれ独立に集束し、偏向部３８に対す
る電子ビームの焦点をそれぞれ調整する。第４多軸電子
レンズ３６により焦点が調整された電子ビームは、偏向
部３８に入射される。
されない電子ビームは、第３多軸電子レンズ３４を通過
する。そして第３多軸電子レンズ３４は、第３多軸電子
レンズ３４を通過する電子ビームの電子ビーム径を縮小
する。縮小された電子ビームは、電子ビーム遮蔽部材２
８に含まれる開口部を通過する。また、電子ビーム遮蔽
部材２８は、ブランキング電極アレイ２６により偏向さ
れた電子ビームを遮蔽する。電子ビーム遮蔽部材２８を
通過した電子ビームは、第４多軸電子レンズ３６に入射
される。そして第４多軸電子レンズ３６は、入射された
電子ビームをそれぞれ独立に集束し、偏向部３８に対す
る電子ビームの焦点をそれぞれ調整する。第４多軸電子
レンズ３６により焦点が調整された電子ビームは、偏向
部３８に入射される。
【００２９】偏向制御部９２は、偏向部３８に含まれる
複数の偏向器を制御し、偏向部３８に入射されたそれぞ
れの電子ビームを、ウェハ４４に対して照射すべき位置
にそれぞれ独立に偏向する。第５多軸電子レンズ５２
は、第５多軸電子レンズ５２を通過するそれぞれの電子
ビームのウェハ４４に対する焦点を調整する。そしてウ
ェハ４４に照射すべき断面形状を有するそれぞれの電子
ビームは、ウェハ４４に対して照射すべき所望の位置に
照射される。
複数の偏向器を制御し、偏向部３８に入射されたそれぞ
れの電子ビームを、ウェハ４４に対して照射すべき位置
にそれぞれ独立に偏向する。第５多軸電子レンズ５２
は、第５多軸電子レンズ５２を通過するそれぞれの電子
ビームのウェハ４４に対する焦点を調整する。そしてウ
ェハ４４に照射すべき断面形状を有するそれぞれの電子
ビームは、ウェハ４４に対して照射すべき所望の位置に
照射される。
【００３０】露光処理中、ウェハステージ駆動部４８
は、ウェハステージ制御部９６からの指示に基づき、一
定方向にウェハステージ４６を連続移動させるのが好ま
しい。そして、ウェハ４４の移動に合わせて、電子ビー
ムの断面形状をウェハ４４に照射すべき形状に成形し、
ウェハ４４に照射すべき電子ビームを通過させるアパー
チャを定め、さらに偏向部３８によりそれぞれの電子ビ
ームをウェハ４４に対して照射すべき位置に偏向させる
ことにより、ウェハ４４に所望の回路パターンを露光す
ることができる。
は、ウェハステージ制御部９６からの指示に基づき、一
定方向にウェハステージ４６を連続移動させるのが好ま
しい。そして、ウェハ４４の移動に合わせて、電子ビー
ムの断面形状をウェハ４４に照射すべき形状に成形し、
ウェハ４４に照射すべき電子ビームを通過させるアパー
チャを定め、さらに偏向部３８によりそれぞれの電子ビ
ームをウェハ４４に対して照射すべき位置に偏向させる
ことにより、ウェハ４４に所望の回路パターンを露光す
ることができる。
【００３１】図３は、本発明の一実施形態に係る第１多
軸電子レンズ１６の上面図を示す。なお、電子ビーム露
光装置１００に含まれる第２多軸電子レンズ２４、第３
多軸電子レンズ３４、第４多軸電子レンズ３６、及び第
５多軸電子レンズ５２も、第１多軸電子レンズ１６と同
様の構成を有してよく、以下において、多軸電子レンズ
の構成に関して、代表して第１多軸電子レンズ１６の構
成に基づいて説明する。
軸電子レンズ１６の上面図を示す。なお、電子ビーム露
光装置１００に含まれる第２多軸電子レンズ２４、第３
多軸電子レンズ３４、第４多軸電子レンズ３６、及び第
５多軸電子レンズ５２も、第１多軸電子レンズ１６と同
様の構成を有してよく、以下において、多軸電子レンズ
の構成に関して、代表して第１多軸電子レンズ１６の構
成に基づいて説明する。
【００３２】第１多軸電子レンズ１６は、レンズ部２０
２およびレンズ部２０２の周囲に設けられ磁界を発生す
るコイル部２００を備える。レンズ部２０２は、電子ビ
ームが通過するレンズ開口部２０４、およびレンズ開口
部２０４に設けられた副磁性導体部２０６を有する。各
電子ビームが通過するレンズ開口部２０４は、ブランキ
ング電極アレイ２６に含まれる複数のアパーチャ、及び
偏向部３８に含まれる複数の偏向器の位置に対応して配
置されるのが好ましい。本例において、レンズ開口部２
０４、アパーチャ、及び偏向器は、実質的に同一軸上に
配置される。
２およびレンズ部２０２の周囲に設けられ磁界を発生す
るコイル部２００を備える。レンズ部２０２は、電子ビ
ームが通過するレンズ開口部２０４、およびレンズ開口
部２０４に設けられた副磁性導体部２０６を有する。各
電子ビームが通過するレンズ開口部２０４は、ブランキ
ング電極アレイ２６に含まれる複数のアパーチャ、及び
偏向部３８に含まれる複数の偏向器の位置に対応して配
置されるのが好ましい。本例において、レンズ開口部２
０４、アパーチャ、及び偏向器は、実質的に同一軸上に
配置される。
【００３３】図４は、本発明の一実施形態に係る第１多
軸電子レンズ１６の断面図を示す。第２多軸電子レンズ
２４、第３多軸電子レンズ３４、第４多軸電子レンズ３
６、及び第５多軸電子レンズ５２も、第１多軸電子レン
ズ１６と同様の構成を有してよく、以下において、多軸
電子レンズの構成に関して、代表して第１多軸電子レン
ズ１６の構成に基づいて説明する。
軸電子レンズ１６の断面図を示す。第２多軸電子レンズ
２４、第３多軸電子レンズ３４、第４多軸電子レンズ３
６、及び第５多軸電子レンズ５２も、第１多軸電子レン
ズ１６と同様の構成を有してよく、以下において、多軸
電子レンズの構成に関して、代表して第１多軸電子レン
ズ１６の構成に基づいて説明する。
【００３４】図４（ａ）に示すように、コイル部２００
は、磁性導体部材であるコイル部磁性導体部材２１２、
および磁界を発生するコイル２１４を有する。また、レ
ンズ部２０２は、複数の電子ビームが通過する複数の第
１開口部２０４ａを含む第１主磁性導体部２１０ａ、及
び第１主磁性導体部２１０ａに対して略平行に配置され
複数の電子ビームが通過する複数の第２開口部２０４ｂ
を含む第２主磁性導体部２１０ｂを有する主磁性導体部
材２１０と、第１開口部２０４ａの周囲に電子ビームの
照射方向に略平行な方向に突出するように設けられた複
数の第１副磁性導体部２０６ａと、第２開口部２０４ｂ
の周囲に電子ビームの照射方向に略平行な方向に突出す
るように設けられた複数の第２副磁性導体部２０６ｂと
を有する。
は、磁性導体部材であるコイル部磁性導体部材２１２、
および磁界を発生するコイル２１４を有する。また、レ
ンズ部２０２は、複数の電子ビームが通過する複数の第
１開口部２０４ａを含む第１主磁性導体部２１０ａ、及
び第１主磁性導体部２１０ａに対して略平行に配置され
複数の電子ビームが通過する複数の第２開口部２０４ｂ
を含む第２主磁性導体部２１０ｂを有する主磁性導体部
材２１０と、第１開口部２０４ａの周囲に電子ビームの
照射方向に略平行な方向に突出するように設けられた複
数の第１副磁性導体部２０６ａと、第２開口部２０４ｂ
の周囲に電子ビームの照射方向に略平行な方向に突出す
るように設けられた複数の第２副磁性導体部２０６ｂと
を有する。
【００３５】第１主磁性導体部２１０ａと第２主磁性導
体部２１０ｂとは、実質的に等しい形状及び大きさであ
ることが好ましい。また、第１副磁性導体部２０６ａ及
び第２副磁性導体部２０６ｂは、円筒形状であることが
好ましい。本例においては、第１開口部２０４ａの内側
に第１副磁性導体部２０６ａが設けられ、また、第２開
口部２０４ｂの内側に第２副磁性導体部２０６ｂが設け
られる。第１副磁性導体部２０６の開口部及び第２副磁
性導体部２０６ｂの開口部が、電子ビームを通過させる
レンズ開口部２０４を形成する。レンズ開口部２０４に
おいて、第１副磁性導体部２０６ａ及び第２副磁性導体
部２０６ｂにより磁界が形成される。レンズ開口部２０
４に入射した電子ビームは、第１副磁性導体部２０６ａ
と第２副磁性導体部２０６ｂとの間において発生する磁
界の影響を受けて、それぞれ独立に集束される。
体部２１０ｂとは、実質的に等しい形状及び大きさであ
ることが好ましい。また、第１副磁性導体部２０６ａ及
び第２副磁性導体部２０６ｂは、円筒形状であることが
好ましい。本例においては、第１開口部２０４ａの内側
に第１副磁性導体部２０６ａが設けられ、また、第２開
口部２０４ｂの内側に第２副磁性導体部２０６ｂが設け
られる。第１副磁性導体部２０６の開口部及び第２副磁
性導体部２０６ｂの開口部が、電子ビームを通過させる
レンズ開口部２０４を形成する。レンズ開口部２０４に
おいて、第１副磁性導体部２０６ａ及び第２副磁性導体
部２０６ｂにより磁界が形成される。レンズ開口部２０
４に入射した電子ビームは、第１副磁性導体部２０６ａ
と第２副磁性導体部２０６ｂとの間において発生する磁
界の影響を受けて、それぞれ独立に集束される。
【００３６】所定の第１副磁性導体部２０６ａと、当該
所定の第１副磁性導体部２０６ａと対向する第２副磁性
導体部２０６ｂとの間隔は、他の第１副磁性導体部２０
６ａと、当該他の第１副磁性導体部２０６ａと対向する
第２副磁性導体部２０６ｂとの間隔と異なってもよい。
図４（ｂ）に示すように、主磁性導体部２１０は、間隔
が異なる第１副磁性導体部２０６ａと第２副磁性導体部
２０６ｂとを有することにより、各レンズ開口部２０４
に形成される磁界２２０の強度を調整することができ
る。即ち、各レンズ開口部２０４に形成される磁界２０
０の強度を均一にすることができる。また、各レンズ開
口部２０４に形成されるレンズ軸を、電子ビームの照射
方向に略平行な方向に向けることができる。さらに、各
レンズ開口部２０４を通過する複数の電子ビームを略等
しい面で集束させることができる。
所定の第１副磁性導体部２０６ａと対向する第２副磁性
導体部２０６ｂとの間隔は、他の第１副磁性導体部２０
６ａと、当該他の第１副磁性導体部２０６ａと対向する
第２副磁性導体部２０６ｂとの間隔と異なってもよい。
図４（ｂ）に示すように、主磁性導体部２１０は、間隔
が異なる第１副磁性導体部２０６ａと第２副磁性導体部
２０６ｂとを有することにより、各レンズ開口部２０４
に形成される磁界２２０の強度を調整することができ
る。即ち、各レンズ開口部２０４に形成される磁界２０
０の強度を均一にすることができる。また、各レンズ開
口部２０４に形成されるレンズ軸を、電子ビームの照射
方向に略平行な方向に向けることができる。さらに、各
レンズ開口部２０４を通過する複数の電子ビームを略等
しい面で集束させることができる。
【００３７】例えば、レンズ開口部２０４に形成される
磁界強度が、主磁性導体部２１０の中心部より外周部の
方が強い場合には、所定の第１副磁性導体部２０６ａ
と、当該所定の第１副磁性導体部２０６ａと対向する第
２副磁性導体部２０６ｂとの間隔は、当該所定の第１副
磁性導体部２０６ａよりコイル部２００から遠い位置に
設けられた他の第１副磁性導体部２０６ａと、当該他の
第１副磁性導体部２０６ａと対向する第２副磁性導体部
２０６ｂとの間隔より大きいことが好ましい。さらに、
第１副磁性導体部２０６ａのそれぞれと、第２副磁性導
体部２０６ｂのそれぞれとの間隔は、第２主磁性導体部
２１０ｂにおける複数の第２開口部２０４ｂが設けられ
た領域の中心軸に対して略対称であることが好ましい
磁界強度が、主磁性導体部２１０の中心部より外周部の
方が強い場合には、所定の第１副磁性導体部２０６ａ
と、当該所定の第１副磁性導体部２０６ａと対向する第
２副磁性導体部２０６ｂとの間隔は、当該所定の第１副
磁性導体部２０６ａよりコイル部２００から遠い位置に
設けられた他の第１副磁性導体部２０６ａと、当該他の
第１副磁性導体部２０６ａと対向する第２副磁性導体部
２０６ｂとの間隔より大きいことが好ましい。さらに、
第１副磁性導体部２０６ａのそれぞれと、第２副磁性導
体部２０６ｂのそれぞれとの間隔は、第２主磁性導体部
２１０ｂにおける複数の第２開口部２０４ｂが設けられ
た領域の中心軸に対して略対称であることが好ましい
【００３８】図５は、本発明の一実施形態に係る第１多
軸電子レンズ１６の他の例の断面図を示す。図５（ａ）
に示すように、第１多軸電子レンズ１６は、第１副磁性
導体部２０６ａと、当該第１副磁性導体部２０６ａと略
同一軸上に設けられた第２副磁性導体部２０６ｂとの周
囲に設けられた非磁性導体部２０８を有してもよい。非
磁性導体部２０８を第１副磁性導体部２０６ａ及び第２
副磁性導体部２０６ｂの周囲に設けることにより、第１
副磁性導体部２０６ａと第２副磁性導体部２０６ｂとの
同軸度を精度よく制御することができる。また、非磁性
導体部２０８は、第１副磁性導体部２０６ａと第２副磁
性導体部２０６ｂとに挟まれるように設けられることが
望ましい。非磁性導体部２０８を第１副磁性導体部２０
６ａと第２副磁性導体部２０６ｂとに挟まれるように設
けることにより、第１副磁性導体部２０６ａと第２副磁
性導体部２０６ｂとの間隔を精度よく制御することがで
きる。また、非磁性導体部２０８は、第１主磁性導体部
２１０ａと第２主磁性導体部２１０ｂとに挟まれるよう
に設けられてもよい。非磁性導体部２０８を第１主磁性
導体部２１０ａと第２主磁性導体部２１０ｂとに挟まれ
るように設けることにより、非磁性導体部２０８は、第
１主磁性導体部２１０ａと第２主磁性導体部２１０ｂと
のスペーサとしての機能を有する。
軸電子レンズ１６の他の例の断面図を示す。図５（ａ）
に示すように、第１多軸電子レンズ１６は、第１副磁性
導体部２０６ａと、当該第１副磁性導体部２０６ａと略
同一軸上に設けられた第２副磁性導体部２０６ｂとの周
囲に設けられた非磁性導体部２０８を有してもよい。非
磁性導体部２０８を第１副磁性導体部２０６ａ及び第２
副磁性導体部２０６ｂの周囲に設けることにより、第１
副磁性導体部２０６ａと第２副磁性導体部２０６ｂとの
同軸度を精度よく制御することができる。また、非磁性
導体部２０８は、第１副磁性導体部２０６ａと第２副磁
性導体部２０６ｂとに挟まれるように設けられることが
望ましい。非磁性導体部２０８を第１副磁性導体部２０
６ａと第２副磁性導体部２０６ｂとに挟まれるように設
けることにより、第１副磁性導体部２０６ａと第２副磁
性導体部２０６ｂとの間隔を精度よく制御することがで
きる。また、非磁性導体部２０８は、第１主磁性導体部
２１０ａと第２主磁性導体部２１０ｂとに挟まれるよう
に設けられてもよい。非磁性導体部２０８を第１主磁性
導体部２１０ａと第２主磁性導体部２１０ｂとに挟まれ
るように設けることにより、非磁性導体部２０８は、第
１主磁性導体部２１０ａと第２主磁性導体部２１０ｂと
のスペーサとしての機能を有する。
【００３９】図５（ｂ）に示すように、レンズ部２０２
は、第１の主磁性導体部２１０ａ及び第２主磁性導体部
２１０ｂの少なくとも一方に副磁性導体部２０６が設け
られてもよい。本実施例においてレンズ部２０２は、複
数の電子ビームが通過する複数の第１開口部２０４ａを
含む第１主磁性導体部２１０ａ、及び第１主磁性導体部
２１０ａに対して略平行に配置され複数の電子ビームが
通過する複数の第２開口部２０４ｂを含む第２主磁性導
体部２１０ｂを有する主磁性導体部材２１０と、第２開
口部２０４ｂの周囲に電子ビームの照射方向に略平行な
方向に突出するように設けられた複数の第２副磁性導体
部２０６ｂとを有する。このとき、第１主磁性導体部２
１０ａの第１開口部２０４ａ及び第２副磁性導体部２０
６ｂの開口部が、電子ビームを通過させるレンズ開口部
２０４を形成する。また、第１主磁性導体部２１０ａの
第１開口部２０４ａと第２副磁性導体部２０６ｂの開口
部とは、略等しい大きさであることが好ましい。
は、第１の主磁性導体部２１０ａ及び第２主磁性導体部
２１０ｂの少なくとも一方に副磁性導体部２０６が設け
られてもよい。本実施例においてレンズ部２０２は、複
数の電子ビームが通過する複数の第１開口部２０４ａを
含む第１主磁性導体部２１０ａ、及び第１主磁性導体部
２１０ａに対して略平行に配置され複数の電子ビームが
通過する複数の第２開口部２０４ｂを含む第２主磁性導
体部２１０ｂを有する主磁性導体部材２１０と、第２開
口部２０４ｂの周囲に電子ビームの照射方向に略平行な
方向に突出するように設けられた複数の第２副磁性導体
部２０６ｂとを有する。このとき、第１主磁性導体部２
１０ａの第１開口部２０４ａ及び第２副磁性導体部２０
６ｂの開口部が、電子ビームを通過させるレンズ開口部
２０４を形成する。また、第１主磁性導体部２１０ａの
第１開口部２０４ａと第２副磁性導体部２０６ｂの開口
部とは、略等しい大きさであることが好ましい。
【００４０】また、レンズ部２０２は、第１主磁性導体
部２１０ａとの間隔が異なる複数の第２副磁性導体部２
０６ｂを有してもよい。第１主磁性導体部２１０ａとの
間隔が異なる複数の第２副磁性導体部２０６ｂが、第２
主磁性導体部２１０ｂに設けられることにより、各レン
ズ開口部２０４に形成される磁界の強度を調整すること
ができる。即ち、各レンズ開口部２０４に形成される磁
界の強度を均一にすることができる。また、各レンズ開
口部２０４に形成される磁場を、レンズ開口部２０４の
中心軸に対して略対称に分布させることができる。さら
に、各レンズ開口部２０４を通過する複数の電子ビーム
を略等しい面で集束させることができる。
部２１０ａとの間隔が異なる複数の第２副磁性導体部２
０６ｂを有してもよい。第１主磁性導体部２１０ａとの
間隔が異なる複数の第２副磁性導体部２０６ｂが、第２
主磁性導体部２１０ｂに設けられることにより、各レン
ズ開口部２０４に形成される磁界の強度を調整すること
ができる。即ち、各レンズ開口部２０４に形成される磁
界の強度を均一にすることができる。また、各レンズ開
口部２０４に形成される磁場を、レンズ開口部２０４の
中心軸に対して略対称に分布させることができる。さら
に、各レンズ開口部２０４を通過する複数の電子ビーム
を略等しい面で集束させることができる。
【００４１】例えば、レンズ開口部２０４に形成される
磁界強度が、主磁性導体部２１０の中心部より外周部の
方が強い場合には、所定の第２副磁性導体部２０６ｂ
と、第２主磁性導体部２１０ａとの間隔は、当該所定の
第２副磁性導体部２０６ｂよりコイル部２００から遠い
位置に設けられた他の第２副磁性導体部２０６ｂと、第
１主磁性導体部２１０ａとの間隔より大きいことが好ま
しい。さらに、第２副磁性導体部２０６ｂのそれぞれ
と、第１主磁性導体部２１０ａとの間隔は、第１主磁性
導体部２１０ａにおける複数の第１開口部２０４ａが設
けられた領域の中心軸に対して略対称であることが好ま
しい。
磁界強度が、主磁性導体部２１０の中心部より外周部の
方が強い場合には、所定の第２副磁性導体部２０６ｂ
と、第２主磁性導体部２１０ａとの間隔は、当該所定の
第２副磁性導体部２０６ｂよりコイル部２００から遠い
位置に設けられた他の第２副磁性導体部２０６ｂと、第
１主磁性導体部２１０ａとの間隔より大きいことが好ま
しい。さらに、第２副磁性導体部２０６ｂのそれぞれ
と、第１主磁性導体部２１０ａとの間隔は、第１主磁性
導体部２１０ａにおける複数の第１開口部２０４ａが設
けられた領域の中心軸に対して略対称であることが好ま
しい。
【００４２】図５（ｃ）に示すように、第１副磁性導体
部２０６ａは、第１主磁性導体部２１０ａにおける第２
主磁性導体部２１０ｂと対向する面に設けられ、第２副
磁性導体部２０６ｂは、第２主磁性導体部２１０ｂにお
ける第１主磁性導体部２１０ａと対向する面に設けられ
てもよい。このとき、第１副磁性導体部２０６ａ及び第
２副磁性導体部２１０ｂの開口部は、第１主磁性導体部
２１０ａの第１開口部２０４ａ及び第２主磁性導体部２
１０ｂの第２開口部２０４ｂと略等しいことが好まし
い。第１副磁性導体部２０６ａの開口部、第２副磁性導
体部２０６ｂの開口部、及び非磁性導体部２０８の開口
部が、電子ビームを通過させるレンズ開口部２０４を形
成する。
部２０６ａは、第１主磁性導体部２１０ａにおける第２
主磁性導体部２１０ｂと対向する面に設けられ、第２副
磁性導体部２０６ｂは、第２主磁性導体部２１０ｂにお
ける第１主磁性導体部２１０ａと対向する面に設けられ
てもよい。このとき、第１副磁性導体部２０６ａ及び第
２副磁性導体部２１０ｂの開口部は、第１主磁性導体部
２１０ａの第１開口部２０４ａ及び第２主磁性導体部２
１０ｂの第２開口部２０４ｂと略等しいことが好まし
い。第１副磁性導体部２０６ａの開口部、第２副磁性導
体部２０６ｂの開口部、及び非磁性導体部２０８の開口
部が、電子ビームを通過させるレンズ開口部２０４を形
成する。
【００４３】以上、本発明を実施の形態を用いて説明し
たが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範
囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又
は改良を加えることができる。その様な変更又は改良を
加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、
特許請求の範囲の記載から明らかである。
たが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範
囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又
は改良を加えることができる。その様な変更又は改良を
加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、
特許請求の範囲の記載から明らかである。
【００４４】
【発明の効果】上記説明から明らかなように、本発明に
よれば、複数の電子ビームをそれぞれ独立に精度よく集
束させることができる電子ビーム露光装置及び電子レン
ズを提供することができる。
よれば、複数の電子ビームをそれぞれ独立に精度よく集
束させることができる電子ビーム露光装置及び電子レン
ズを提供することができる。
【図１】従来の電子ビーム露光装置における多軸電子レ
ンズ３００の断面図である。
ンズ３００の断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置
１００の構成を示す図である。
１００の構成を示す図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る第１多軸電子レンズ
１６の上面図である。
１６の上面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る第１多軸電子レンズ
１６の断面図である。
１６の断面図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る第１多軸電子レンズ
１６の他の例の断面図である。
１６の他の例の断面図である。
８・・筐体、１０・・電子ビーム発生部、１４・・第１
成形部材、１６・・第１多軸電子レンズ、１８・・第１
成形偏向部、２０・・第２成形偏向部、２２・・第２成
形部材、２４・・第２多軸電子レンズ、２６・・ブラン
キング電極アレイ、２８・・電子ビーム遮蔽部材、３４
・・第３多軸電子レンズ、３６・・第４多軸電子レン
ズ、３８・・偏向部、４０・・電子検出部、４４・・ウ
ェハ、４６・・ウェハステージ、４８・・ウェハステー
ジ駆動部、５２・・第５多軸電子レンズ、８０・・電子
ビーム制御部、８２・・多軸電子レンズ制御部、８４・
・成形偏向制御部、８６・・ブランキング電極アレイ制
御部、９２・・偏向制御部、９４・・反射電子処理部、
９６・・ウェハステージ制御部、１００・・電子ビーム
露光装置、１０４・・電子銃、１１０・・電子ビーム成
形手段、１１２・・照射切替手段、１１４・・ウェハ用
投影系、１２０・・個別制御系、１３０・・統括制御
部、１４０・・制御系、１５０・・露光部、２００・・
コイル部、２０２・・レンズ部、２０４・・レンズ開口
部、２０４ａ・・第１開口部、２０４ｂ・・第２開口
部、２０６・・副磁性導体部、２０６ａ・・第１副磁性
導体部、２０６ｂ・・第２副磁性導体部、２０８・・非
磁性導体部、２１０・・主磁性導体部、２１０ａ・・第
１主磁性導体部、２１０ｂ・・第２主磁性導体部、２１
２・・コイル部磁性導体部材、２１４・・コイル、２２
０・・磁界
成形部材、１６・・第１多軸電子レンズ、１８・・第１
成形偏向部、２０・・第２成形偏向部、２２・・第２成
形部材、２４・・第２多軸電子レンズ、２６・・ブラン
キング電極アレイ、２８・・電子ビーム遮蔽部材、３４
・・第３多軸電子レンズ、３６・・第４多軸電子レン
ズ、３８・・偏向部、４０・・電子検出部、４４・・ウ
ェハ、４６・・ウェハステージ、４８・・ウェハステー
ジ駆動部、５２・・第５多軸電子レンズ、８０・・電子
ビーム制御部、８２・・多軸電子レンズ制御部、８４・
・成形偏向制御部、８６・・ブランキング電極アレイ制
御部、９２・・偏向制御部、９４・・反射電子処理部、
９６・・ウェハステージ制御部、１００・・電子ビーム
露光装置、１０４・・電子銃、１１０・・電子ビーム成
形手段、１１２・・照射切替手段、１１４・・ウェハ用
投影系、１２０・・個別制御系、１３０・・統括制御
部、１４０・・制御系、１５０・・露光部、２００・・
コイル部、２０２・・レンズ部、２０４・・レンズ開口
部、２０４ａ・・第１開口部、２０４ｂ・・第２開口
部、２０６・・副磁性導体部、２０６ａ・・第１副磁性
導体部、２０６ｂ・・第２副磁性導体部、２０８・・非
磁性導体部、２１０・・主磁性導体部、２１０ａ・・第
１主磁性導体部、２１０ｂ・・第２主磁性導体部、２１
２・・コイル部磁性導体部材、２１４・・コイル、２２
０・・磁界
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/30 ５４１Ｗ
Claims (12)
- 【請求項１】 複数の電子ビームにより、ウェハを露光
する電子ビーム露光装置であって、 前記複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、 前記複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させる電子
レンズ部とを備え、 前記電子レンズ部は、 前記複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を含
む第１主磁性導体部と、 前記第１主磁性導体部に対して略平行に配置され、前記
複数の電子ビームが通過する複数の第２開口部を含む第
２主磁性導体部と、 前記第１主磁性導体部において、前記第１開口部の周囲
に、前記電子ビームの照射方向に略平行な方向に突出す
るように設けられた複数の第１副磁性導体部とを有する
ことを特徴とする電子ビーム露光装置。 - 【請求項２】 前記電子レンズ部は、前記第２主磁性導
体部との間隔が異なる前記複数の第１副磁性導体部を有
することを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム露光
装置。 - 【請求項３】 前記電子レンズ部は、前記第１主磁性導
体部及び前記第２主磁性導体部の周囲に設けられ、磁界
を発生させるコイル部をさらに有することを特徴とする
請求項２に記載の電子ビーム露光装置。 - 【請求項４】 所定の前記第１副磁性導体部と前記第２
主磁性導体部との間隔は、前記所定の第１副磁性導体部
より前記コイル部から遠い位置に配置された他の前記第
１副磁性導体部と前記第２主磁性導体部との間隔より大
きいことを特徴とする請求項３に記載の電子ビーム露光
装置。 - 【請求項５】 前記複数の第１副磁性導体部のそれぞれ
と、前記第２主磁性導体部との間隔は、前記第２主磁性
導体部における前記複数の第２開口部が設けられた領域
の中心軸に対して略対称であることを特徴とする請求項
４に記載の電子ビーム露光装置。 - 【請求項６】 前記電子レンズ部は、前記第２主磁性導
体部において、前記第２開口部の周囲に、前記電子ビー
ムの照射方向に略平行な方向に突出するように設けられ
た複数の第２副磁性導体部をさらに有することを特徴と
する請求項１に記載の電子ビーム露光装置。 - 【請求項７】 所定の前記第１副磁性導体部と、当該所
定の前記第１副磁性導体部に対向する所定の前記第２副
磁性導体部との間隔は、他の前記第１副磁性導体部と、
当該他の前記第１磁性導体部と対向する他の前記第２副
磁性導体部との間隔と異なることを特徴とする請求項６
に記載の電子ビーム露光装置。 - 【請求項８】 前記所定の第１副磁性導体部と前記所定
の第２副磁性導体部との間隔は、前記所定の第１副磁性
導体部より前記コイル部から遠い位置に配置された前記
他の第１副磁性導体部と前記他の第２副磁性導体部との
間隔より大きいことを特徴とする請求項７に記載の電子
ビーム露光装置。 - 【請求項９】 前記複数の第１副磁性導体部のそれぞれ
と、前記複数の第２副磁性導体部のそれぞれとの間隔
は、前記第２主磁性導体部における前記複数の第２開口
部が設けられた領域の中心軸に対して略対称であること
を特徴とする請求項８に記載の電子ビーム露光装置。 - 【請求項１０】 前記電子レンズ部は、前記第１副磁性
導体部と、前記第１副磁性導体部と略同一軸上に設けら
れた前記第２副磁性導体部との周囲に設けられた非磁性
導体部をさらに有することを特徴とする請求項６に記載
の電子ビーム露光装置。 - 【請求項１１】 前記非磁性導体部は、前記第１副磁性
導体部と前記第２副磁性導体部とに挟まれることを特徴
とする請求項１０に記載の電子ビーム露光装置。 - 【請求項１２】 複数の電子ビームをそれぞれ独立に集
束させる電子レンズ部であって、 前記電子レンズ部は、 前記複数の電子ビームが通過する複数の第１開口部を含
む第１主磁性導体部と、 前記第１主磁性導体部に対して略平行に配置され、前記
複数の電子ビームが通過する複数の第２開口部を含む第
２主磁性導体部と、 前記第１主磁性導体部において、前記第１開口部の周囲
に、前記電子ビームの照射方向に略平行な方向に突出す
るように設けられた複数の第１副磁性導体部とを備える
ことを特徴とする電子レンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000344731A JP4535602B2 (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 電子ビーム露光装置及び電子レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000344731A JP4535602B2 (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 電子ビーム露光装置及び電子レンズ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002150989A true JP2002150989A (ja) | 2002-05-24 |
| JP4535602B2 JP4535602B2 (ja) | 2010-09-01 |
Family
ID=18818882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000344731A Expired - Fee Related JP4535602B2 (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 電子ビーム露光装置及び電子レンズ |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4535602B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1432008A1 (en) * | 2002-12-17 | 2004-06-23 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Multi-axis compound lens, beam system making use of the compound lens, and method using the compound lens |
| US7705321B2 (en) | 2007-05-30 | 2010-04-27 | Nuflare Technology, Inc. | Charged particle beam writing apparatus and method |
| WO2011071549A1 (en) | 2009-12-11 | 2011-06-16 | Hermes Microvision, Inc. | A multi-axis magnetic lens |
| JP2013511820A (ja) * | 2010-12-14 | 2013-04-04 | エルメス−マイクロビジョン，インコーポレーテッド | 多軸磁気レンズを有するマルチ荷電粒子ビーム装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS5423476A (en) * | 1977-07-25 | 1979-02-22 | Akashi Seisakusho Kk | Composite electron lens |
| JPS614143A (ja) * | 1984-06-19 | 1986-01-10 | Jeol Ltd | 透過電子顕微鏡における対物レンズ |
| WO2001075946A1 (fr) * | 2000-04-04 | 2001-10-11 | Advantest Corporation | Appareil d'exposition a faisceau multiple comprenant un objectif electronique a axes multiples, objectif electronique a axes multiples pour mettre au point le faisceau electronique multiple, et procede de production d'un appareil a semi-conducteur |
-
2000
- 2000-11-13 JP JP2000344731A patent/JP4535602B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| WO2011071549A1 (en) | 2009-12-11 | 2011-06-16 | Hermes Microvision, Inc. | A multi-axis magnetic lens |
| JP2012507839A (ja) * | 2009-12-11 | 2012-03-29 | 漢民微測科技股▲分▼有限公司 | 多光軸磁気レンズ |
| EP2510523A1 (en) * | 2009-12-11 | 2012-10-17 | Hermes Microvision Inc. | A multi-axis magnetic lens |
| EP2510523A4 (en) * | 2009-12-11 | 2014-10-01 | Hermes Microvision Inc | MAGNETIC LENS WITH MULTIPLE AXIS |
| EP3244419A3 (en) * | 2009-12-11 | 2018-01-17 | Hermes Microvision Inc. | A multi-axis magnetic lens |
| JP2013511820A (ja) * | 2010-12-14 | 2013-04-04 | エルメス−マイクロビジョン，インコーポレーテッド | 多軸磁気レンズを有するマルチ荷電粒子ビーム装置 |
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|---|---|
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