JPS614143A - 透過電子顕微鏡における対物レンズ - Google Patents
透過電子顕微鏡における対物レンズInfo
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- JPS614143A JPS614143A JP12574484A JP12574484A JPS614143A JP S614143 A JPS614143 A JP S614143A JP 12574484 A JP12574484 A JP 12574484A JP 12574484 A JP12574484 A JP 12574484A JP S614143 A JPS614143 A JP S614143A
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- pole piece
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 16
- 238000003780 insertion Methods 0.000 abstract description 6
- 230000037431 insertion Effects 0.000 abstract description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 abstract 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 8
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は透過電子顕微鏡に用いられる対物レンズに関す
る。
る。
［従来技術］
生物切片等を低倍率で観察する場合には、像のコントラ
ストを大きくするため、対物絞りとじて絞り穴の径がで
きるだけ小さいものを用いることが好ましい。しかるに
、従来の対物レンズを用いた電子顕微鏡においては、穴
径の小さい絞りを選択すると視野がカットされてしまう
ため、生物切片等の低倍率広視野像を良好なコントラス
トのもとで観察することはできなかった。
ストを大きくするため、対物絞りとじて絞り穴の径がで
きるだけ小さいものを用いることが好ましい。しかるに
、従来の対物レンズを用いた電子顕微鏡においては、穴
径の小さい絞りを選択すると視野がカットされてしまう
ため、生物切片等の低倍率広視野像を良好なコントラス
トのもとで観察することはできなかった。
［発明の目的］
本発明はこのような従来の欠点を解決して、生物切片等
の低倍像を良好なコントラストで観察することを可能に
する透過電子顕微鏡における対物レンズを提供すること
を目的としている。
の低倍像を良好なコントラストで観察することを可能に
する透過電子顕微鏡における対物レンズを提供すること
を目的としている。
［発明の作用コ
以下、本発明において基本になっている考えを、 説明
する。
する。
−試料ＳＰを透過した電子線ＥＢの軌跡を幾何光学的に
描りてみると、第１図に示すようになる。
描りてみると、第１図に示すようになる。
この図より、対物レンズＯＬの後焦点面Ｕの位置に回折
像ＤＩが形成されるため、この位置に絞りを挿入すれば
、極めて小さい絞り穴を有する絞りを挿入しても、視野
は何らカットされず、高いコントラストの広視野低倍像
を観察できるはずである。そこで、後焦点面がどのよう
な位置になるか、上磁極片と下磁極片の間隔が例えば１
６ｍｍで、磁極片のテーパー角が６０°であるようなレ
ンズに対して、この幾何光学的な軌跡にかえて、電子線
の軌跡を電子計算機を用いて描いてみた。この際、透過
電子顕微鏡においては、電子線は光軸に平行な軌跡をと
って試料に入射するという仮定のもとで取り扱うのが一
般的であるため、電子線ＥＢは光軸Ｃに平行な軌跡をと
って試料ＳＰに入射するものとした。その結果、電子線
ＥＢの軌跡は第２図において細線Ｍで示すようになった
。但し、第２図において、横軸は対物レンズの下磁極片
の頂面Ｋを基準とした光軸方向の座標ｚ（ｍｍ）、縦軸
は光軸Ｃからの相対距離及び磁束密度Ｂ（テスラー）を
示しており、Ｊは上磁極片の底面、曲線Ｇは軸上磁界分
布を示している。この第２図によれば、電子線ＥＢが光
軸Ｃと交わる位置は図中ａで示した点であり、回折像は
この点を含む面に形成されるはずである。ところで、絞
りは通常下磁極片の頂面にと試料ホルダーとの間の第２
図において一点鎖線Ａで示される位置の近傍に挿入され
るが、もし実際の対物レンズにおける電子線の軌跡がこ
の第２図の通りであるとすれば、絞りの挿入位置を下側
（図中右側）に移動させる程視野は拡大するはずである
が、経験上は全く逆に絞りの挿入位置を上側（図中左側
）に移動させる程視野は拡大する。そこで、この第２図
と実際との相違がどこで生じたか検討した。第２図から
明らかなように、試料ＳＰに光軸Ｃと平行な電子線を入
射させるためには、試料ＳＰよりわずか１２ｍｍ程度上
側の位置において、電子線ＥＢを大きな角度で光軸Ｃと
交差するように入射させなければならないことが分かる
。しかしながら、このようなことは、対物レンズよりは
るか上方にあるコンデンサレンズによっては困難である
はずであり、従って、光軸Ｃに平行な軌跡をとって電子
線ＥＢが試料ＳＰに入射するということはなく、実際に
は電子線ＥＢは対物レンズに入射する位置で光軸Ｃに平
行になる程度であると思われる。このような前提のもと
で、電子計算機を利用して上記対物レンズに対して電子
線の軌跡を描いてみると、第３図において細線Ｍ′で示
すようなものとなり、絞りの挿入位置を上側に移動させ
る程、視野が拡大するという経験とも一致することが分
った。尚、第３図においては、第２図と同一の要素に対
しては同一番号を付していると共に、横軸及び縦軸は２
図と同一にとられている。この第３図より、光軸Ｃに平
行な軌跡をとって対物レンズに入射する電子線ＥＢが光
軸Ｃと交差する点の位置（以下ＺＱで表わす）が、試料
位置く以下ＺＯで表わす）から大きく離れるような特性
を有する電子レンズを求めるべきであることが分った。
像ＤＩが形成されるため、この位置に絞りを挿入すれば
、極めて小さい絞り穴を有する絞りを挿入しても、視野
は何らカットされず、高いコントラストの広視野低倍像
を観察できるはずである。そこで、後焦点面がどのよう
な位置になるか、上磁極片と下磁極片の間隔が例えば１
６ｍｍで、磁極片のテーパー角が６０°であるようなレ
ンズに対して、この幾何光学的な軌跡にかえて、電子線
の軌跡を電子計算機を用いて描いてみた。この際、透過
電子顕微鏡においては、電子線は光軸に平行な軌跡をと
って試料に入射するという仮定のもとで取り扱うのが一
般的であるため、電子線ＥＢは光軸Ｃに平行な軌跡をと
って試料ＳＰに入射するものとした。その結果、電子線
ＥＢの軌跡は第２図において細線Ｍで示すようになった
。但し、第２図において、横軸は対物レンズの下磁極片
の頂面Ｋを基準とした光軸方向の座標ｚ（ｍｍ）、縦軸
は光軸Ｃからの相対距離及び磁束密度Ｂ（テスラー）を
示しており、Ｊは上磁極片の底面、曲線Ｇは軸上磁界分
布を示している。この第２図によれば、電子線ＥＢが光
軸Ｃと交わる位置は図中ａで示した点であり、回折像は
この点を含む面に形成されるはずである。ところで、絞
りは通常下磁極片の頂面にと試料ホルダーとの間の第２
図において一点鎖線Ａで示される位置の近傍に挿入され
るが、もし実際の対物レンズにおける電子線の軌跡がこ
の第２図の通りであるとすれば、絞りの挿入位置を下側
（図中右側）に移動させる程視野は拡大するはずである
が、経験上は全く逆に絞りの挿入位置を上側（図中左側
）に移動させる程視野は拡大する。そこで、この第２図
と実際との相違がどこで生じたか検討した。第２図から
明らかなように、試料ＳＰに光軸Ｃと平行な電子線を入
射させるためには、試料ＳＰよりわずか１２ｍｍ程度上
側の位置において、電子線ＥＢを大きな角度で光軸Ｃと
交差するように入射させなければならないことが分かる
。しかしながら、このようなことは、対物レンズよりは
るか上方にあるコンデンサレンズによっては困難である
はずであり、従って、光軸Ｃに平行な軌跡をとって電子
線ＥＢが試料ＳＰに入射するということはなく、実際に
は電子線ＥＢは対物レンズに入射する位置で光軸Ｃに平
行になる程度であると思われる。このような前提のもと
で、電子計算機を利用して上記対物レンズに対して電子
線の軌跡を描いてみると、第３図において細線Ｍ′で示
すようなものとなり、絞りの挿入位置を上側に移動させ
る程、視野が拡大するという経験とも一致することが分
った。尚、第３図においては、第２図と同一の要素に対
しては同一番号を付していると共に、横軸及び縦軸は２
図と同一にとられている。この第３図より、光軸Ｃに平
行な軌跡をとって対物レンズに入射する電子線ＥＢが光
軸Ｃと交差する点の位置（以下ＺＱで表わす）が、試料
位置く以下ＺＯで表わす）から大きく離れるような特性
を有する電子レンズを求めるべきであることが分った。
本発明者は、対物レンズの形状を種々変化させ゛ると共
に、対物レンズの励磁強度を種々変化させて、レンズ特
性の変化を電子計算機を用いて算出してみた。まず、前
方磁界を弱くするために上磁極片の穴径ｂ１を小さくし
てみた。上磁極片の穴径ｂ１を小さくすると磁界分−布
のピークが上磁極側に吸い寄せられるため、むしろＺ−
Ｑと２（、はやや近づく程度の変化はあるものの、ｚＣ
とｚＯの距離はさほど大きな変化がないことが分った。
に、対物レンズの励磁強度を種々変化させて、レンズ特
性の変化を電子計算機を用いて算出してみた。まず、前
方磁界を弱くするために上磁極片の穴径ｂ１を小さくし
てみた。上磁極片の穴径ｂ１を小さくすると磁界分−布
のピークが上磁極側に吸い寄せられるため、むしろＺ−
Ｑと２（、はやや近づく程度の変化はあるものの、ｚＣ
とｚＯの距離はさほど大きな変化がないことが分った。
そこで、球面収差係数Ｃ３を最も小さくする′ための公
知の条件である０、８８≦ｂ１≦ １．２Ｓに従って上
磁極片の穴径ｂ１を定めれば良い。次に上磁極片の底面
の径Ｄ１の穴径ｂ１に対する大きさを種々変化させたと
ころ、第４図（ａ）にその磁極片の形状を示すようにＤ
１≦３ｂ１にした場合には、対物レンズの各励磁強度に
対して前記交差点の位置ｚｃ及び試料位置ｚＯは各々第
４図（ｂ）において曲線ｚｃ、ＺＯで示す如きものとな
った。但し第４図（ａ）及び後述する第５図（ａ′）、
第６図（ａ）、第８図（ｆｌｌｌ ’）において、縦軸
は試料ＳＰが配置される位置を原点とする位置座標（ｍ
ｍ）を示しており、横軸の右半分は磁束密度を表わして
いる。又、第４図（−ｂ ）及び後述する第５図（ｂ）
、第６図（ｂ）、第７図（ｂ）！第８図（ｂ）において
、横軸はレンズの励磁強度（ＫＡＴ）を、又縦軸は長さ
くｍｍ）を示しており、曲線Ｚｃ、Ｚｏ、’ Ｃｓ、Ｃ
ｃ、 Ｆｏは各々各励磁強度における交差点の位置ＺＱ
、試料位置２０、球面収差係数、色収差係数、焦点距離
を示している。
知の条件である０、８８≦ｂ１≦ １．２Ｓに従って上
磁極片の穴径ｂ１を定めれば良い。次に上磁極片の底面
の径Ｄ１の穴径ｂ１に対する大きさを種々変化させたと
ころ、第４図（ａ）にその磁極片の形状を示すようにＤ
１≦３ｂ１にした場合には、対物レンズの各励磁強度に
対して前記交差点の位置ｚｃ及び試料位置ｚＯは各々第
４図（ｂ）において曲線ｚｃ、ＺＯで示す如きものとな
った。但し第４図（ａ）及び後述する第５図（ａ′）、
第６図（ａ）、第８図（ｆｌｌｌ ’）において、縦軸
は試料ＳＰが配置される位置を原点とする位置座標（ｍ
ｍ）を示しており、横軸の右半分は磁束密度を表わして
いる。又、第４図（−ｂ ）及び後述する第５図（ｂ）
、第６図（ｂ）、第７図（ｂ）！第８図（ｂ）において
、横軸はレンズの励磁強度（ＫＡＴ）を、又縦軸は長さ
くｍｍ）を示しており、曲線Ｚｃ、Ｚｏ、’ Ｃｓ、Ｃ
ｃ、 Ｆｏは各々各励磁強度における交差点の位置ＺＱ
、試料位置２０、球面収差係数、色収差係数、焦点距離
を示している。
これに対して第５図（ａ）にその磁極片の形状を示すよ
うにＤ１≧３ｂ１とした場合には、ＺＱとＺＯは第５図
（ｂ）に示すような値をとることが分った。この第４図
（ｂ）と第５図（ｂ）を用いて、試料ＳＰを座標原点に
配置する実際の場合において比較すると、第５図（ａ）
のようにＤ１≧３ｂｌとした場合には、ＺｃとＺｏの距
離は１゜４１１１１１１程度以上となり、第４図（ａ）
に示したそうでない場合より大きくすることかできるこ
とか分った。次に、下磁極片の穴径及び頂面の径を各々
ｂ２ 、Ｄ２とすると、第６図（ａ）にその磁極片の形
状を示すようにＤ２≦３ｂ２とした場合には、ＺｃとＺ
ｏは第６図（ｂ）に示すような値をとり、試料ＳＰを座
標原点に配置する実際の場合におけるＺｃとＺｏとの距
離は、２．７ｍｍ程度以上となり、ｄ Ｄ２
＞３ｂ２とした場合に比較してかなり大ぎくすることが
できることが分った。又、ｂ２を小さくすることはＺｃ
とＺＯの距離を大きくする上で極めて有効であることが
分った。即しｂ２を小さくした場合にＺｃとＺＱとの距
離がどのように変化するかをＤ２ ＝２ｂ２ 、 ｂｌ
＝ ０，９Ｓ、 ０１−３．６ｂｌ、θ２＝４５°の
レンズに対して算出したところ、第７図における曲線し
で示す如き結果が得られた。この結果より、ｂ２を小さ
くすればする程、ＺｃとＺｏとの距離は大きくなること
が分った。ところで、充分なコントラストを得るために
は、絞りの径は経験から２００１１Ｉｌｌ程度以下でな
ければならないが、そのためには第３図から明らかなよ
うにＺｃとＺｏとの距離は２．７ｍｍ程度以上あること
が必要である。この条件を第７図に示した結果に当て嵌
めると、ｂ２は０．５Ｓ程度以下であることが必要であ
る。一方、ｂ２の変化に伴う球面収差係数Ｃ５の変化を
も算出したところ、第７図において曲線Ｖで示す如きも
のとなった。この第７図よりＺＱとＺｏとの距離を大き
くするためには、ｂ２をできるだけ小さくすれば良いが
、ｂ２を０．２Ｓ程度にづ−ると、ＣＳは１Ｑｎｕｎ稈
度になってしまい、実用上問題が生じる。従ってｂ２は
０．３Ｓ程度以上であることが必要である。以上より結
局０．３８≦ｂ２≦０．５８程度が望ましいことが分っ
た。更に下磁極片のテーパー角θ２もＺＣとＺｏとの距
離を大きくする上で関係があり、第８図（ａ）にその磁
極片の形状を示すように、下磁極片のテーパー角θ２を
６０’よりも小ざくして、略４５°程度にすると、Ｚｃ
とＺｏは第８図（ｂ）に示すような値をとり、ＺｃとＺ
ｏの距離は３．８ｍｍとなり、他の条件が同じならば最
も長くできることが分った。このとき軸上磁界分布の頂
点は下磁極片の頂面に極めて近付いていることが分る。
うにＤ１≧３ｂ１とした場合には、ＺＱとＺＯは第５図
（ｂ）に示すような値をとることが分った。この第４図
（ｂ）と第５図（ｂ）を用いて、試料ＳＰを座標原点に
配置する実際の場合において比較すると、第５図（ａ）
のようにＤ１≧３ｂｌとした場合には、ＺｃとＺｏの距
離は１゜４１１１１１１程度以上となり、第４図（ａ）
に示したそうでない場合より大きくすることかできるこ
とか分った。次に、下磁極片の穴径及び頂面の径を各々
ｂ２ 、Ｄ２とすると、第６図（ａ）にその磁極片の形
状を示すようにＤ２≦３ｂ２とした場合には、ＺｃとＺ
ｏは第６図（ｂ）に示すような値をとり、試料ＳＰを座
標原点に配置する実際の場合におけるＺｃとＺｏとの距
離は、２．７ｍｍ程度以上となり、ｄ Ｄ２
＞３ｂ２とした場合に比較してかなり大ぎくすることが
できることが分った。又、ｂ２を小さくすることはＺｃ
とＺＯの距離を大きくする上で極めて有効であることが
分った。即しｂ２を小さくした場合にＺｃとＺＱとの距
離がどのように変化するかをＤ２ ＝２ｂ２ 、 ｂｌ
＝ ０，９Ｓ、 ０１−３．６ｂｌ、θ２＝４５°の
レンズに対して算出したところ、第７図における曲線し
で示す如き結果が得られた。この結果より、ｂ２を小さ
くすればする程、ＺｃとＺｏとの距離は大きくなること
が分った。ところで、充分なコントラストを得るために
は、絞りの径は経験から２００１１Ｉｌｌ程度以下でな
ければならないが、そのためには第３図から明らかなよ
うにＺｃとＺｏとの距離は２．７ｍｍ程度以上あること
が必要である。この条件を第７図に示した結果に当て嵌
めると、ｂ２は０．５Ｓ程度以下であることが必要であ
る。一方、ｂ２の変化に伴う球面収差係数Ｃ５の変化を
も算出したところ、第７図において曲線Ｖで示す如きも
のとなった。この第７図よりＺＱとＺｏとの距離を大き
くするためには、ｂ２をできるだけ小さくすれば良いが
、ｂ２を０．２Ｓ程度にづ−ると、ＣＳは１Ｑｎｕｎ稈
度になってしまい、実用上問題が生じる。従ってｂ２は
０．３Ｓ程度以上であることが必要である。以上より結
局０．３８≦ｂ２≦０．５８程度が望ましいことが分っ
た。更に下磁極片のテーパー角θ２もＺＣとＺｏとの距
離を大きくする上で関係があり、第８図（ａ）にその磁
極片の形状を示すように、下磁極片のテーパー角θ２を
６０’よりも小ざくして、略４５°程度にすると、Ｚｃ
とＺｏは第８図（ｂ）に示すような値をとり、ＺｃとＺ
ｏの距離は３．８ｍｍとなり、他の条件が同じならば最
も長くできることが分った。このとき軸上磁界分布の頂
点は下磁極片の頂面に極めて近付いていることが分る。
Ｃ発明の構成〕
本発明は上述した考えに基づいて成されたものであり、
上磁極片の底面の径及び下磁極片の頂面の径を各々ＤＩ
、 Ｄ２ 、上下磁極片の穴径を各々ｂ１ 、 ｂ２
、上下磁極片の間隔をＳ、下磁極片のテーパー角をθ
２とするときθ２〈６０°にされた電子レンズにおいて
、０．８８≦ｂ１≦ １．２Ｓである電子レンズにおい
て、Ｄ１≧３ｂ１，０．３８≦ｂ２≦０．５Ｓ及びＤ２
≦３ｂ２を満足するように上下磁極片が形成されている
ことを特徴としている。
上磁極片の底面の径及び下磁極片の頂面の径を各々ＤＩ
、 Ｄ２ 、上下磁極片の穴径を各々ｂ１ 、 ｂ２
、上下磁極片の間隔をＳ、下磁極片のテーパー角をθ
２とするときθ２〈６０°にされた電子レンズにおいて
、０．８８≦ｂ１≦ １．２Ｓである電子レンズにおい
て、Ｄ１≧３ｂ１，０．３８≦ｂ２≦０．５Ｓ及びＤ２
≦３ｂ２を満足するように上下磁極片が形成されている
ことを特徴としている。
［実施例）
以下、図面に基づき本発明の一実施例を詳述する。
第９図は本発明の一実施例を示すためのもので、図中１
は上磁極片であり、この上磁極片の穴径ｂ１は１０ｍｍ
、底面の径Ｄ１は３６ｍｍにされている。２は下Ｗｊ、
極片であり、この下磁極片の穴径ｂ２は５ｍｍであり、
頂面の径Ｄ２は１０＋＋＋ｍに形成されている。
は上磁極片であり、この上磁極片の穴径ｂ１は１０ｍｍ
、底面の径Ｄ１は３６ｍｍにされている。２は下Ｗｊ、
極片であり、この下磁極片の穴径ｂ２は５ｍｍであり、
頂面の径Ｄ２は１０＋＋＋ｍに形成されている。
上磁極片１と下磁極片２の間隔Ｓは１１ｍｍとされてお
り、又下磁極片２のテーパー角θ２は４５°にされてい
る。３，４ば磁極片を支持するためのスペーサーであり
、５はヨークであり、６は励磁コイルである。
り、又下磁極片２のテーパー角θ２は４５°にされてい
る。３，４ば磁極片を支持するためのスペーサーであり
、５はヨークであり、６は励磁コイルである。
このような構成の対物レンズにおいて、励磁コイル６に
例えば６．５ＫＩＴ（キロアンペアターン）で励磁すれ
ば、ＺｃとＺＯとの距離を３．８ｍｍとすることができ
る。そのため、電子線ＥＢが光軸と交差する点ａを絞り
の挿入位置の極めて近傍に位置させることができる。
例えば６．５ＫＩＴ（キロアンペアターン）で励磁すれ
ば、ＺｃとＺＯとの距離を３．８ｍｍとすることができ
る。そのため、電子線ＥＢが光軸と交差する点ａを絞り
の挿入位置の極めて近傍に位置させることができる。
［効果］
上述した説明から明らかなように、本発明に基づく対物
レンズにおいては、電子線ＥＢが光軸と交差する点ａを
絞りの挿入位置の極めて近傍に位置させることができ、
そのため、本発明に基づく対物レンズを使用した透過電
子顕微鏡においては、生物接片等を観察する場合に、像
のコントラストを大きくするため絞り穴の小さい絞りを
用いても、視野は殆どカットされず、低倍率広視野像を
良好なコントラストのもとで観察することができる。
レンズにおいては、電子線ＥＢが光軸と交差する点ａを
絞りの挿入位置の極めて近傍に位置させることができ、
そのため、本発明に基づく対物レンズを使用した透過電
子顕微鏡においては、生物接片等を観察する場合に、像
のコントラストを大きくするため絞り穴の小さい絞りを
用いても、視野は殆どカットされず、低倍率広視野像を
良好なコントラストのもとで観察することができる。
第１図は小さな絞り穴を有する絞りを用いても原理的に
は視野はカットされないことを示すための幾何光学図、
第２図は試料に入射する位置で電子線が光軸に平行にな
るものと仮定した場合の電（子線の軌跡を示すための図
、第３図は対物レンズに入射する位置で電子線が光軸に
平行になるものと仮定した場合の電子線の軌跡を示すた
めの図、第４図乃至第８図は磁極片の形状を種々変化さ
せた際の各励磁強度における交差点ＺＱ、試料位置２０
、球面収差係数Ｏ３，色収差係数ＣＣ，焦点距離ＦＯの
値を示すための図、第９図は本発明の一実施例を示すた
めの図である。 ＯＬ二対物レンズ、Ｕ：後焦点面、ＤＩ：回折像、ＳＰ
：試料、Ｃ：光軸、ＦＢ＝電子線、Ｋ：上磁極片の底面
、Ｊ：下磁極片の頂面、１：上磁極片、２：下磁極片、
３，４ニスペーサ−１５：ヨーク、６：励磁コイル。
は視野はカットされないことを示すための幾何光学図、
第２図は試料に入射する位置で電子線が光軸に平行にな
るものと仮定した場合の電（子線の軌跡を示すための図
、第３図は対物レンズに入射する位置で電子線が光軸に
平行になるものと仮定した場合の電子線の軌跡を示すた
めの図、第４図乃至第８図は磁極片の形状を種々変化さ
せた際の各励磁強度における交差点ＺＱ、試料位置２０
、球面収差係数Ｏ３，色収差係数ＣＣ，焦点距離ＦＯの
値を示すための図、第９図は本発明の一実施例を示すた
めの図である。 ＯＬ二対物レンズ、Ｕ：後焦点面、ＤＩ：回折像、ＳＰ
：試料、Ｃ：光軸、ＦＢ＝電子線、Ｋ：上磁極片の底面
、Ｊ：下磁極片の頂面、１：上磁極片、２：下磁極片、
３，４ニスペーサ−１５：ヨーク、６：励磁コイル。
Claims (1)
- 上磁極片の底面の径及び下磁極片の頂面の径を各々Ｄ１
、Ｄ２、上下磁極片の穴径を各々ｂ１、ｂ２、上下磁極
片の間隔をＳ、下磁極片のテーパー角をθ２とするとき
θ２＜６０°にされた電子レンズにおいて、０．８Ｓ≦
ｂ１≦１．２Ｓである電子レンズにおいて、Ｄ１≧３ｂ
１、０．３Ｓ≦ｂ２≦０．５Ｓ及びＤ２≦３ｂ２を満足
するように上下磁極片が形成されていることを特徴とす
る透過電子顕微鏡における対物レンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12574484A JPS614143A (ja) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | 透過電子顕微鏡における対物レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12574484A JPS614143A (ja) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | 透過電子顕微鏡における対物レンズ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS614143A true JPS614143A (ja) | 1986-01-10 |
| JPH0562422B2 JPH0562422B2 (ja) | 1993-09-08 |
Family
ID=14917721
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12574484A Granted JPS614143A (ja) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | 透過電子顕微鏡における対物レンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS614143A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002150989A (ja) * | 2000-11-13 | 2002-05-24 | Advantest Corp | 電子ビーム露光装置及び電子レンズ |
-
1984
- 1984-06-19 JP JP12574484A patent/JPS614143A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002150989A (ja) * | 2000-11-13 | 2002-05-24 | Advantest Corp | 電子ビーム露光装置及び電子レンズ |
| JP4535602B2 (ja) * | 2000-11-13 | 2010-09-01 | 株式会社アドバンテスト | 電子ビーム露光装置及び電子レンズ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0562422B2 (ja) | 1993-09-08 |
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