JP2018010980A - 電子機器の液浸槽 - Google Patents

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Abstract

【課題】容易な設計で内圧の変動を抑制可能な電子機器の液浸槽を提供する。【解決手段】電子機器の液浸槽1Aは、電子機器4Aを収容可能であり、電子機器を液浸して冷やす液体の冷媒が循環する循環経路6Aに接続し、液体の冷媒が存在しない空間である気相部を有する槽本体2Aと、槽本体の気相部に配置され、気相部の圧力に応じて体積が変化する容器10Aと、を備え、容器の内部が槽本体の外部に連通している。【選択図】図2

Description

本願は、電子機器の液浸槽に関する。
電子機器には様々な冷却機構が用いられている(例えば、特許文献1−5を参照)。
特開平3−91948号公報 実開平4−42749号公報 特開昭59−145548号公報 特開平04−003451号公報 実開昭61−059395号公報
データセンタにあるサーバ等の電子機器では、搭載される集積回路の集積密度や電子部品の実装密度が高密度化され、また、処理するデータ量も増大している。これに伴い、電子機器の発熱量も増大の一途を辿っており、効率的な冷却技術の実現が望まれている。電子機器を冷却する方法としては、長年用いられてきた冷却ファンによる強制空冷方式の他、近年開発がすすめられている電子機器を液体の冷媒に浸漬する液浸冷却方式がある。
電子機器を液浸する液冷用の冷媒の中には、比較的高価なものもあるため、系外への漏出を抑制する技術が望まれる。そこで、冷媒が系外へ漏出するのを防ぐ方策として、冷媒を密封空間に閉じ込めておくことが考えられる。しかし、冷媒が沸騰することを前提としない液浸冷却方式は、沸騰冷却のように内圧の上昇が当然に予見される冷却方式とは異なり、系内の圧力変動を抑制することが構造的に好ましい。
冷媒が沸騰することを前提としない液浸冷却方式において、冷媒を密封空間に閉じ込めた場合の圧力変動を抑制する方策としては、例えば、内圧の上昇を抑制する圧力調整弁の設置、或いは、密封空間を形成する部材の一部を伸縮可能な素材や機構で構成することが考えられる。しかし、圧力調整弁を用いる場合、圧力調整弁が開いた際に冷媒蒸気が系外へ漏出することになるので、冷媒が系外へ漏出するのを防ぐことができないし、液浸槽内が負圧になると蓋等の開閉手段を開くことが困難になる。また、電子機器が液浸される液浸槽の一部を伸縮可能な素材や機構で構成する場合、液浸槽の上部にこれらの素材や機構を用いることになるため、例えば、蓋等の開閉手段といった液浸槽の各部の設計を制約する可能性がある。
そこで、本願は、容易な設計で内圧の変動を抑制可能な電子機器の液浸槽を開示する。
本願で開示する電子機器の液浸槽は、電子機器を収容可能であり、電子機器を液浸して冷やす液体の冷媒が循環する循環経路に接続し、液体の冷媒が存在しない空間である気相部を有する槽本体と、槽本体の気相部に配置され、気相部の圧力に応じて体積が変化する容器と、を備え、容器の内部が槽本体の外部に連通している。
なお、本願で開示する電子機器の液浸槽は、電子機器を収容可能であり、電子機器を液
浸して冷やす液体の冷媒が循環する循環経路に接続し、液体の冷媒が存在しない空間である気相部を有する槽本体と、槽本体の外部に配置され、気相部の圧力に応じて内容積が変化する容器と、を備え、容器の内部が槽本体の気相部に連通しているものであってもよい。
上記の液浸槽であれば、容易な設計で内圧の変動を抑制可能である。
図1は、第1実施形態に係る電子機器の液浸槽の一例を示した図である。 図2は、容器の状態変化を示した図である。 図3は、上記第1実施形態に係る液浸槽の第1変形例を示した図である。 図4は、上記第1実施形態に係る液浸槽の第2変形例を示した図である。 図5は、上記第1実施形態に係る液浸槽の第3変形例を示した図である。 図6は、上記第1実施形態に係る液浸槽の第4変形例を示した図である。 図7は、上記第1実施形態に係る液浸槽の第5変形例を示した図である。 図8は、上記第1実施形態に係る液浸槽の第6変形例を示した図である。 図9は、上記第1実施形態に係る液浸槽の第7変形例を示した図である。 図10は、上記第1実施形態に係る液浸槽の第8変形例を示した図である。 図11は、上記第1実施形態に係る液浸槽の第9変形例を示した図である。 図12は、上記第1実施形態に係る液浸槽の第10変形例を示した図である。 図13は、上記第1実施形態に係る液浸槽の第11変形例を示した図である。 図14は、第2実施形態に係る電子機器の液浸槽の一例を示した図である。 図15は、容器の状態変化を示した図である。 図16は、上記第2実施形態に係る液浸槽の第1変形例を示した図である。 図17は、上記第2実施形態に係る液浸槽の第2変形例を示した図である。 図18は、上記第2実施形態に係る液浸槽の第3変形例を示した図である。 図19は、上記第2実施形態に係る液浸槽の第4変形例を示した図である。 図20は、上記第2実施形態に係る液浸槽の第5変形例を示した図である。 図21は、上記第2実施形態に係る液浸槽の第6変形例を示した図である。 図22は、上記第2実施形態に係る液浸槽の第7変形例を示した図である。
以下、実施形態について説明する。以下に示す実施形態は、単なる例示であり、本開示の技術的範囲を以下の態様に限定するものではない。
図1は、第1実施形態に係る電子機器の液浸槽の一例を示した図である。液浸槽1Aは、液体の冷媒3Aが入る槽本体2Aを備える。槽本体2Aには、冷媒3Aに液浸された電
子機器4Aが収容されている。電子機器4Aは、作動中に冷却することが好ましい電子機器であり、例えば、サーバ、データベース、通信機器、医療や各種実験設備用の電子機器、その他の様々な電子機器が適用可能である。槽本体2Aには、冷媒3Aを槽本体2Aの内外で強制循環させるポンプ5A付きの循環経路6Aが接続されている。循環経路6Aには、ポンプ5Aで強制循環された冷媒3Aが循環している。
槽本体2Aには、電子機器4Aのメンテナンスを容易にするため、気相部側から電子機器4Aへの手入れを可能にする蓋7Aが備わっている。蓋7Aは、槽本体2Aの上部を開閉可能な気密性の蓋であり、電子機器4Aの作動中は閉鎖される。よって、電子機器4Aの熱で膨張収縮する液相部の冷媒3Aと、冷媒3Aに溶存するガスの出現や冷媒3Aへのガスの溶け込み、気相部の気体の体積変化により、槽本体2Aの内外で圧力差が生じるのを防ぐため、液浸槽1Aには槽本体2Aの気相部に連通する容器10Aが備わっている。
容器10Aは、槽本体2Aの気相部の圧力に応じて内容積が変化する容器であり、例えば、微小な差圧で伸縮できる柔軟なベローズを有する容器、柔軟な素材で形成された袋状の容器、差圧によってピストンが摺動するシリンダ状の容器、その他の各種容器を適用可能である。また、容器10Aの大きさは、冷媒3Aの量、冷媒3Aの種類、槽本体2Aの気相部にある空気や冷媒蒸気の量、槽本体2Aの気相部の大きさ等にもよるが、想定される気相部の呼吸量に応じて適宜決定される。
なお、図1では、容器10Aの内部がチューブ8Aを介して槽本体2Aの気相部と連通しているが、容器10Aは、チューブ8Aに代えて、柔軟性の無いパイプを介して槽本体2Aの気相部と連通してもよいし、後述するように容器10Aの内部と槽本体2Aの気相部とが直接連通してもよい。また、図1では、容器10Aが槽本体2Aの外側面に固定された気密性の無い箱状の収納部9Aに収納されているが、容器10Aは、その他の部位に設置されてもよい。容器10Aの内部と槽本体2Aの気相部とを連通するチューブ8Aその他の連通手段は、溶接、コンプレッションフィッティング等の着脱自在な継手、その他の様々な手法で容器10Aおよび槽本体2Aに取り付け可能である。
上記第1実施形態の液浸槽1Aは、内圧の変動を抑制可能である。図2は、容器10Aの状態変化を示した図である。槽本体2Aの気相部に連通する容器10Aは、槽本体2Aの気相部と外気との圧力差に応じて膨張あるいは収縮する。例えば、容器10Aが図2(A)の状態において、電子機器4Aの熱等で槽本体2Aの内部の温度が上がると、気相部にあるガスの体積膨張、冷媒3Aに溶存するガスの出現、或いは冷媒3Aの体積膨張により、気相部のガスの一部が容器10Aへ流れ、図2(B)に示されるように容器10Aが膨張する。また、例えば、容器10Aが図2(A)の状態において、槽本体2Aの内部の温度が下がると、気相部にあるガスの体積収縮、冷媒3Aへのガスの溶け込み、或いは冷媒3Aの体積収縮により、容器10A内のガスの一部が液浸槽1Aへ流れ、図2(C)に示されるように容器10Aが収縮する。
上記第1実施形態の液浸槽1Aは、冷媒が沸騰することを前提としない液冷式の冷却機構であり、循環経路6Aの途中に設けられる除熱手段において冷媒3Aが液相のまま除熱される機構となっている。よって、沸騰冷却のように内圧の上昇が当然に予見される冷却機構とは異なり、沸騰冷却を前提とする冷却機構で要求されるような耐圧性能を液浸槽1Aおよび循環経路6Aに付与する必要が無い。よって、上記第1実施形態の液浸槽1Aでは、冷媒の系外への漏出量が可及的に抑制されるように冷媒3Aが密封空間に閉じ込められているが、槽本体2Aの気相部の圧力に応じて膨張あるいは収縮する容器10Aが備わっているので、液浸槽1Aの内圧は大気圧とほぼ同じ状態に保たれる構造になっており、冷媒3Aの密封に伴う耐圧性能の付与も不要である。
また、上記第1実施形態の液浸槽1Aは、容易な設計で内圧の変動を抑制可能である。すなわち、上記第1実施形態の液浸槽1Aは、例えば、電子機器4Aに気相部側から手入れする際に開閉される蓋7Aからは離した任意の箇所に容器10Aを設けることができるため、蓋7Aの位置といった液浸槽1Aの各部の設計を制約する可能性が低い。
液浸槽1Aに用いる冷媒3Aとしては、導電性の部材に触れても漏電しない絶縁性の液体であり、且つ、電子機器4Aの熱で沸騰しない液体が適用可能である。絶縁性の液体としては、合成オイル系のものとフッ化炭素系のものとが挙げられる。冷媒3Aとしては合成オイル系の液体とフッ化炭素系の液体の何れも適用可能である。しかし、合成オイル系の液体はフッ化炭素系の液体に比べて揮発性が低く、粘性が高いため、電子機器4Aをメンテナンスする際、電子機器4Aからの除去が容易でない。よって、フッ化炭素系の液体の方が便利である。フッ化炭素系の液体としては、例えば、3M社の商品名「Novec」(登録商標)や「フロリナート」(登録商標)が挙げられるが、電子機器4Aの熱で沸騰しにくい高沸点な「フロリナート」の方が「Novec」よりも好適である。
電子機器4Aを液体の冷媒3Aで冷却すれば、空気等の気体に比べて単位体積当たり数百倍以上の熱量を運ぶことができる。このため、空冷方式の場合よりも遥かに高密度実装の電子機器を冷却可能である。また、電子機器4Aの熱が液体の冷媒3Aで運ばれるため、データセンタ等で用いられるような大型の空調システムが不要であり、空調システムで消費される電力の削減や、ファンの稼働による気流等の騒音の低減が図られる。
ところで、上記第1実施形態の液浸槽1Aは、例えば、以下のように変形することもできる。
図3は、上記第1実施形態に係る液浸槽1Aの第1変形例を示した図である。上記第1実施形態の液浸槽1Aは、槽本体2A内の冷媒3Aの液面より低い位置に容器10Aを備えていた。しかし、上記第1実施形態の液浸槽1Aは、例えば、図3に示されるように、槽本体2A内の冷媒3Aの液面より高い位置に容器10Aが備わっており、チューブ8Aが容器10Aの下部に繋がり、さらにそれより低い位置に槽本体2Aとチューブ8Aが繋がっていてもよい。槽本体2A内の冷媒3Aの液面より高い位置に容器10Aが備わっており、チューブ8Aが容器10Aの下部に繋がり、さらにそれより低い位置に槽本体2Aとチューブ8Aが繋がっている液浸槽1Aであれば、容器10A内に冷媒蒸気が凝結した場合であっても、容器10A内に溜まった冷媒3Aがチューブ8Aを通じて槽本体2A内へ流下する。よって、容器10Aの底部やチューブ8Aに冷媒3Aが溜り、槽本体2A内の気相部と容器10A内との間のガスの流通が滞る可能性を抑制することができる。
図4は、上記第1実施形態に係る液浸槽1Aの第2変形例を示した図である。上記第1実施形態の液浸槽1Aは、容器10Aを1つ備えていた。しかし、上記第1実施形態の液浸槽1Aは、例えば、図4に示されるように、容器10Aを複数備えていてもよい。容器10Aの数は、各容器10Aの大きさ、冷媒3Aの量、冷媒3Aの種類、槽本体2Aの気相部にある空気や冷媒蒸気の量、槽本体2Aの気相部の大きさ等に応じて適宜決定される。
図5は、上記第1実施形態に係る液浸槽1Aの第3変形例を示した図である。上記第1実施形態の液浸槽1Aは、例えば、図5に示されるように、槽本体2Aの気相部に冷却器11Aを備えていてもよい。冷却器11Aには、例えば、冷凍機によって冷却された冷却水、クーリングタワーによって冷却された冷却水、その他の各種冷却水が流通する冷却配管12Aが接続される。槽本体2Aの気相部に冷却器11Aが備わっていれば、例えば、電子機器4Aの熱で気化した冷媒を凝縮させることができる。槽本体2Aの気相部にある気化した状態の冷媒が凝縮すれば、気相部にあるガスの量が減るので、槽本体2Aの内圧
の上昇が抑制される。よって、容器10Aを小さいものにすることが可能となる。
図6は、上記第1実施形態に係る液浸槽1Aの第4変形例を示した図である。上記第1実施形態の液浸槽1Aは、例えば、図6に示されるように、槽本体2Aの上部に槽本体2Aの内外で熱交換を行う放熱器13Aを備えていてもよい。槽本体2Aの上部に放熱器13Aが備わっていれば、例えば、電子機器4Aの熱で気化した冷媒を凝縮させることができる。槽本体2Aの気相部にある気化した状態の冷媒が凝縮すれば、気相部にあるガスの量が減るので、槽本体2Aの内圧の上昇が抑制される。よって、容器10Aを小さいものにすることが可能となる。
図7は、上記第1実施形態に係る液浸槽1Aの第5変形例を示した図である。上記第1実施形態の液浸槽1Aは、例えば、図7に示されるように、槽本体2Aの気相部に気相部の容積を実質的に縮減させる各種の物体14Aを備えていてもよい。槽本体2Aの気相部の容積が各種の物体に縮減されると、気相部のガスが熱で膨張した際の膨張量も減るため、容器10Aを小さいものにすることが可能となる。
図8は、上記第1実施形態に係る液浸槽1Aの第6変形例を示した図である。上記第1実施形態の液浸槽1Aは、例えば、上述の第3変形例のような冷却器11Aの他、槽本体2Aの気相部の温度を測定する温度計15A、槽本体2Aの気相部の圧力を測定する圧力計16Aを備えていてもよい。そして、冷却器11Aには、温度計15Aや圧力計16Aの測定値に応じて温度調整された冷却水が流通する冷却配管12Aが接続される。冷却器11Aを流通する冷却水の温度が、温度計15Aや圧力計16Aの測定値に応じて調整されれば、気相部にある気化した状態の冷媒の凝縮量が調整可能となる。
図9は、上記第1実施形態に係る液浸槽1Aの第7変形例を示した図である。上記第1実施形態の液浸槽1Aは、例えば、図9に示されるように、槽本体2Aの気相部が所定の圧力に達すると弁が開く圧力調整弁17Aを備えていてもよい。圧力調整弁17Aが開く圧力は、槽本体2Aの耐圧および容器10Aの耐圧のうち何れか低い方の圧力よりも低い値に設定されることが好ましい。いわゆる安全弁として機能するこのような圧力調整弁17Aが備わっていれば、例えば、容器10Aが膨張可能な圧力の範囲の限界を超えてなお槽本体2Aの気相部の圧力が上昇する場合に、圧力調整弁17Aが開いて槽本体2Aあるいは容器10Aの破壊を防ぐことができる。
図10は、上記第1実施形態に係る液浸槽1Aの第8変形例を示した図である。上記第1実施形態の液浸槽1Aは、槽本体2A内の外側面に容器10Aを備えていた。しかし、上記第1実施形態の液浸槽1Aは、例えば、図10に示されるように、槽本体2Aの上部に容器10Aが設置されており、チューブ8Aを介さずに、容器10A内が槽本体2Aの気相部と容器10Aの下部で繋がっていてもよい。槽本体2Aの上に容器10Aが備わっており、チューブ8Aを介さずに容器10Aの下部と槽本体2Aの気相部とが繋がっている液浸槽1Aであれば、容器10A内に冷媒蒸気が凝結した場合であっても、容器10A内に溜まった冷媒3Aが槽本体2A内へ流下する。よって、容器10Aの底部に冷媒3Aが溜り、槽本体2A内の気相部と容器10A内との間のガスの流通が滞る可能性を抑制することができる。
図11は、上記第1実施形態に係る液浸槽1Aの第9変形例を示した図である。上記第1実施形態の液浸槽1Aは、槽本体2A内の外側面に容器10Aを備えていた。しかし、上記第1実施形態の液浸槽1Aは、例えば、図11に示されるように、槽本体2Aから離れた位置に容器10Aが備わっていてもよい。容器10Aが槽本体2Aからチューブ8Aを介して離れた位置に設置されている液浸槽1Aであれば、槽本体2Aの周辺への各種の機器や工作物の設置が容易になる。
図12は、上記第1実施形態に係る液浸槽1Aの第10変形例を示した図である。上記第1実施形態の液浸槽1Aは、容器10Aが収納部9Aに格納されていた。しかし、上記第1実施形態の液浸槽1Aは、例えば、図12に示されるように、収納部9Aが省略されていてもよい。
図13は、上記第1実施形態に係る液浸槽1Aの第11変形例を示した図である。上記第1実施形態の液浸槽1Aは、例えば、図13に示されるように、容器10Aの内部に加熱器18Aが設けられていてもよい。容器10Aの内部に加熱器18Aが設けられていれば、槽本体2A内で気化した冷媒3Bが容器10A内に溜っても、冷媒3Bを加熱器18Aで加熱して気化させ、槽本体2Aへ戻すことができる。
図14は、第2実施形態に係る電子機器の液浸槽の一例を示した図である。液浸槽1Bは、上記第1実施形態の液浸槽1Aと同様、冷媒3Bが入る槽本体2Bを備える。そして、槽本体2Bには電子機器4Bが収容されている。また、槽本体2Bにはポンプ5B付きの循環経路6Bが接続されている。
また、槽本体2Bには、電子機器4Bのメンテナンスを容易にするため、蓋7Bが備わっている。蓋7Bは、槽本体2Bの上部を開閉可能な気密性の蓋であり、電子機器4Bの作動中は閉鎖される。よって、電子機器4Bの熱で膨張収縮する液相部の冷媒3Aと気相部の気体の体積変化により、槽本体2Bの内外で圧力差が生じるのを防ぐため、液浸槽1Bの気相部には内部が槽本体2Aの外部と連通する容器10Bが備わっている。
容器10Bは、槽本体2Bの気相部の圧力に応じて体積が変化する容器であり、例えば、微小な差圧で伸縮できる柔軟なベローズを有する容器、柔軟な素材で形成された袋状の容器、差圧によってピストンが摺動するシリンダ状の容器、その他の各種容器を適用可能である。また、容器10Bの大きさは、冷媒3Aの量、冷媒3Aの種類、槽本体2Bの気相部にある空気や冷媒蒸気の量、槽本体2Aの気相部の大きさ等にもよるが、想定される気相部の呼吸量に応じて適宜決定される。
なお、図14では、容器10Bの内部が柔軟なチューブ8Bを介して槽本体2Bの外部と連通しているが、容器10Bは、チューブ8Bに代えて、柔軟性の無いパイプを介して槽本体2Bの外部と連通してもよいし、後述するように容器10Bの内部と槽本体2Bの外部とが直接連通してもよい。
上記第2実施形態の液浸槽1Bは、第1実施形態の液浸槽1Aと同様、内圧の変動を抑制可能である。図15は、容器10Bの状態変化を示した図である。槽本体2Bの外部に連通する容器10Bは、槽本体2Bの気相部と外気との圧力差に応じて膨張あるいは収縮する。例えば、容器10Bが図15(A)の状態において、電子機器4Bの熱等で槽本体2Bの内部の温度が上がると、気相部にあるガスの体積膨張、冷媒3Bに溶存するガスの出現、或いは冷媒3Bの体積膨張により、図15(B)に示されるように気相部のガスが容器10Bを収縮させる。また、例えば、容器10Bが図15(A)の状態において、槽本体2Bの内部の温度が下がると、気相部にあるガスの体積収縮、冷媒3Bへのガスの溶け込み、或いは冷媒3Bの体積収縮により、図15(C)に示されるように気相部のガスが容器10Bを膨張させる。
上記第2実施形態の液浸槽1Bも第1実施形態の液浸槽1Aと同様、冷媒が沸騰することを前提としない液冷式の冷却機構であるため、沸騰冷却を前提とする冷却機構で要求されるような耐圧性能は不要である。
また、上記第2実施形態の液浸槽1Bは、容易な設計で内圧の変動を抑制可能である。すなわち、上記第2実施形態の液浸槽1Bは、槽本体2B内の気相部の任意の箇所に容器10Bを設けることができるため、蓋7Bの位置といった液浸槽1Bの各部の設計を制約する可能性が低い。
また、上記第2実施形態の液浸槽1Bは、槽本体2Bの内部に容器10Bを配置しているので、第1実施形態の液浸槽1Aよりも小型化可能である。
ところで、上記第2実施形態の液浸槽1Bは、例えば、以下のように変形することもできる。
図16は、上記第2実施形態に係る液浸槽1Bの第1変形例を示した図である。上記第2実施形態の液浸槽1Bは、容器10Bを1つ備えていた。しかし、上記第2実施形態の液浸槽1Bは、例えば、図16に示されるように、容器10Bを複数備えていてもよい。容器10Bの数は、各容器10Bの大きさ、冷媒3Bの量、冷媒3Bの種類、槽本体2Bの気相部にある空気や冷媒蒸気の量、槽本体2Bの気相部の大きさ等に応じて適宜決定される。
図17は、上記第2実施形態に係る液浸槽1Bの第2変形例を示した図である。上記第2実施形態の液浸槽1Bは、例えば、図17に示されるように、槽本体2Bの気相部に冷却器11Bを備えていてもよい。冷却器11Bには、例えば、冷凍機によって冷却された冷却水、クーリングタワーによって冷却された冷却水、その他の各種冷却水が流通する冷却配管12Bが接続される。槽本体2Bの気相部に冷却器11Bが備わっていれば、例えば、電子機器4Bの熱で気化した冷媒を凝縮させることができる。槽本体2Bの気相部にある気化した状態の冷媒が凝縮すれば、気相部にあるガスの量が減るので、槽本体2Bの内圧の上昇が抑制される。
図18は、上記第2実施形態に係る液浸槽1Bの第3変形例を示した図である。上記第2実施形態の液浸槽1Bは、例えば、図18に示されるように、槽本体2Bの上部に槽本体2Bの内外で熱交換を行う放熱器13Bを備えていてもよい。槽本体2Bの上部に放熱器13Bが備わっていれば、例えば、電子機器4Bの熱で気化した冷媒を凝縮させることができる。槽本体2Bの気相部にある気化した状態の冷媒が凝縮すれば、気相部にあるガスの量が減るので、槽本体2Bの内圧の上昇が抑制される。
図19は、上記第2実施形態に係る液浸槽1Bの第4変形例を示した図である。上記第2実施形態の液浸槽1Bは、例えば、図19に示されるように、槽本体2Bの気相部に気相部の容積を実質的に縮減させる各種の物体14Bを備えていてもよい。槽本体2Bの気相部の容積が各種の物体に縮減されると、気相部のガスが熱で膨張した際の膨張量も減るため、容器10Bを小さいものにすることが可能となる。
図20は、上記第2実施形態に係る液浸槽1Bの第5変形例を示した図である。上記第2実施形態の液浸槽1Bは、例えば、上述の第2変形例のような冷却器11Bの他、槽本体2Bの気相部の温度を測定する温度計15B、槽本体2Bの気相部の圧力を測定する圧力計16Bを備えていてもよい。そして、冷却器11Bには、温度計15Bや圧力計16Bの測定値に応じて温度調整された冷却水が流通する冷却配管12Bが接続される。冷却器11Bを流通する冷却水の温度が、温度計15Bや圧力計16Bの測定値に応じて調整されれば、気相部にある気化した状態の冷媒の凝縮量が調整されるので、槽本体2Bの内圧を適当な範囲に調整することが可能となる。
図21は、上記第2実施形態に係る液浸槽1Bの第6変形例を示した図である。上記第
2実施形態の液浸槽1Bは、例えば、図21に示されるように、槽本体2Bの気相部が所定の圧力に達すると弁が開く圧力調整弁17Bを備えていてもよい。圧力調整弁17Bが開く圧力は、槽本体2Bの耐圧および容器10Bの耐圧のうち何れか低い方の圧力よりも低い値に設定されることが好ましい。いわゆる安全弁として機能するこのような圧力調整弁17Bが備わっていれば、例えば、容器10Bが収縮可能な圧力の範囲の限界を超えてなお槽本体2Bの気相部の圧力が上昇する場合に、圧力調整弁17Bが開いて槽本体2Bあるいは容器10Bの破壊を防ぐことができる。
図22は、上記第2実施形態に係る液浸槽1Bの第7変形例を示した図である。上記第2実施形態の液浸槽1Bは、槽本体2B内の内面から離れた位置に容器10Bを備えていた。しかし、上記第2実施形態の液浸槽1Bは、例えば、図22に示されるように、槽本体2Bの内面に容器10Bが備わっており、チューブ8Bを介さずに容器10Bの内部と槽本体2Bの外部とが繋がっていてもよい。
なお、上記各実施形態や各変形例は適宜組み合わせることも可能である。
上記第2実施形態の液浸槽1Bについて検証を行ったので、その結果を以下に説明する。
本検証においては、幅1.0m、奥行き1.0m、深さ1.0mの内寸法を持つ槽本体を2種類用意し、深さ0.7mまで冷媒を入れた。用意した2種類の槽本体のうち一方は第2実施形態の液浸槽1Bを模擬した形態になっており、容器10Bに相当するものを設けた(以下、「実施例」という)。また、用意した2種類の槽本体のうち他方は容器10Bに相当するものを設けておらず、単なる密封された槽本体とした(以下、「比較例」という)。
実施例および比較例の何れも、槽内の温度が20℃、内部圧力が100kPa(絶対圧力)の時に蓋を閉め、槽内の温度が70℃まで上昇した時を想定する。この時、冷媒に溶けている溶存空気の発生は無視する。比較例の場合は内部圧力が理論上、144kPaまで上昇するため、液浸槽の耐圧への考慮が必要となる。一方、実施例の場合は内部圧力を大気圧と同じ100kPa(絶対圧力)に保つことができる。
3M社の商品「Novec7200」を用いた実験によれば、開口面積177cm2
槽本体にNovec7200を入れて最高温度約20℃の室内にて放置した場合、蒸発速度は約0.0121g/cm2hであった。よって、幅1.0m、奥行き1.0m、深さ
1.0mの槽本体に高さ0.7mまで冷媒を入れ且つ上部を開放した状態にすると、半年間で冷媒が約540kg蒸発すると推計される。また冷媒が加熱されて温度が上がると、蒸発量はさらに大きくなると予想される。一方、槽本体が密封されている場合、蒸発の影響はない。
なお、第1実施形態の液浸槽1Aと第2実施形態の液浸槽1Bとの比較検証についても行ったので、その結果を以下に示す。例えば、幅1.0m、奥行き1.0m、深さ1.0mの内寸法を持つ槽本体に深さ0.7mまで冷媒を入れ、槽内の温度が20℃、内部圧力が100kPa(絶対圧力)の時に蓋を閉め、70℃まで温度が上昇した時を想定する。この時、冷媒に溶けている溶存空気の発生は無視する。この場合、内部圧力を100kPaに保つために必要な容器の容積は、第2実施形態の液浸槽1Bの容器10Bに相当する内蔵型の場合で0.120m3、第1実施形態の液浸槽1Aの容器10Aに相当する外付
け型の場合で0.131m3である。この検証により、内蔵型は外付け型に比べて、容器
サイズを0.011m3小さくすることができ、さらに槽本体の外側に0.131m3の領域を確保せずに済むことが判る。
1A,1B・・液浸槽:2A,2B・・槽本体:3A,3B・・冷媒:4A,4B・・電子機器:5A,5B・・ポンプ:6A,6B・・循環経路:7A,7B・・蓋:8A,8B・・チューブ:9A・・収納部:10A,10B・・容器:11A,11B・・冷却器:12A,12B・・冷却配管:13A,13B・・放熱器:14A,14B・・物体:15A,15B・・温度計:16A,16B・・圧力計:17A,17B・・圧力調整弁:18A・・加熱器

Claims (12)

  1. 電子機器を収容可能であり、前記電子機器を液浸して冷やす液体の冷媒が循環する循環経路に接続し、前記液体の冷媒が存在しない空間である気相部を有する槽本体と、
    前記槽本体の気相部に配置され、前記気相部の圧力に応じて体積が変化する容器と、を備え、
    前記容器の内部が前記槽本体の外部に連通している、
    電子機器の液浸槽。
  2. 前記容器は前記槽本体の内面に設置されている、
    請求項1に記載の電子機器の液浸槽。
  3. 前記容器は前記槽本体の外部とチューブを介して連通している、
    請求項1または2に記載の電子機器の液浸槽。
  4. 電子機器を収容可能であり、前記電子機器を液浸して冷やす液体の冷媒が循環する循環経路に接続し、前記液体の冷媒が存在しない空間である気相部を有する槽本体と、
    前記槽本体の外部に配置され、前記気相部の圧力に応じて内容積が変化する容器と、を備え、
    前記容器の内部が前記槽本体の気相部に連通している、
    電子機器の液浸槽。
  5. 前記容器は、前記槽本体内の冷媒の液面よりも高い位置に配置される、
    請求項4に記載の電子機器の液浸槽。
  6. 前記容器は前記槽本体の上部に設置されており、前記容器の内部が前記槽本体の気相部と前記容器の下部で繋がっている、
    請求項4または5に記載の電子機器の液浸槽。
  7. 前記容器は、前記槽本体の気相部とチューブを介して連通している、
    請求項4から6の何れか一項に記載の電子機器の液浸槽。
  8. 前記容器の内部を加熱する加熱器を更に備える、
    請求項4から7の何れか一項に記載の電子機器の液浸槽。
  9. 前記槽本体は、上部に蓋を有する、
    請求項1から8の何れか一項に記載の電子機器の液浸槽。
  10. 前記槽本体は、冷却水が流通する冷却器を前記気相部に有する、
    請求項1から9の何れか一項に記載の電子機器の液浸槽。
  11. 前記槽本体は、内部の熱を外部へ伝熱する放熱器を上部に有する、
    請求項1から10の何れか一項に記載の電子機器の液浸槽。
  12. 前記槽本体は、気相部が所定の圧力に達すると弁が開く圧力調整弁を有する、
    請求項1から11の何れか一項に記載の電子機器の液浸槽。
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