JP2017525651A - 高シリカアルミナ比のy型分子篩の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Y型分子篩は、現在、主に触媒及び吸着分離剤として用いられている。高シリカY型ゼオライト触媒は、活性が高く、安定性に優れるなどの利点を有するため、その製造方法についての研究が注目されている。
従来、工業上に使用されている高シリカY型ゼオライトは、主にY型ゼオライトの原粉に対して化学脱アルミニウム及び物理脱アルミニウムなどの後処理を行う方法で得られる。
しかし、このような後処理によって脱アルミニウムしてシリカアルミナ比を向上させる方法は、過程が煩雑でエネルギー消耗が高く、汚染が大きい。
直接法である水熱/溶剤熱により高シリカY型ゼオライトを合成することは、煩雑な後処理過程を避け、大量な労働、物資を節約でき、環境への汚染を低減することができる。
同時に、水熱/溶剤熱により合成された高シリカY型ゼオライトは、完全な結晶体構造、均一な化学分布を有しているため、より良い触媒効果を有する。
前記Y型分子篩の製造方法は、テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物をテンプレート剤として、Y型分子篩を製造し、
前記テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物の化学構造式は、式(1)で表されることを特徴とするものである。
好ましくは、前記式(1)中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に炭素数1〜5のアルキル基から選択され、X-mは、OH-、BF4 -、F-、Cl-、Br-、I-、NO3 -、H2PO3 -、HPO3 2-、PO3 3-、SO4 2-、HSO4 -からなる群より選択される少なくとも一種である。
好ましくは、前記式(1)中、R1、R2、R3、R4が同一のアルキル基である。
好ましくは、前記式(1)中、R1、R2、R3、R4がいずれもエチル基である。
前記炭素数1〜10のアルキル基は、炭素数1〜10の任意のアルカンが任意の1つの水素原子を失って形成された基であり、炭素数1〜10の任意のアルカンは、直鎖アルカン、分岐鎖を含有するアルカン、及びシクロアルカンのいずれかである。
好ましくは、前記テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物は、水酸化テトラエチルアンモニウム(TEAOHと略する)、テトラエチルアンモニウムクロライド(TEAClと略する)、テトラエチルアンモニウムブロマイド(TEABrと略する)、テトラエチルアンモニウムヨージド (TEAIと略する)、テトラフルオロホウ酸テトラエチルアンモニウム(TEABF4と略する)、水酸化テトラブチルアンモニウム(TBAOHと略する)、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAOHと略する)、水酸化テトラプロピルアンモニウム(TPAOHと略する)からなる群より選ばれる少なくとも一種である。
本発明の一つの態様によれば、前記Y型分子篩の製造方法は少なくとも下記の工程を含む。
a)脱イオン水、ケイ素源、アルミニウム源、アルカリ源及び前記テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物を混合させ、下記モル比の初期ゲル混合物を得る工程。
SiO2/Al2O3=6〜20
アルカリ源/Al2O3=1〜8(アルカリ源のモル数はアルカリ源中の金属元素の酸化物のモル数によるものである)
H2O/Al2O3=100〜400
テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物/Al2O3=0.1〜6(テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物のモル数は化合物中の窒素元素のモル数によるものである)
b)工程a)で得られる初期ゲル混合物をオートクレーブに入れて、密閉し、70〜130℃で1〜30日結晶化させた後、洗浄、乾燥を行い、前記Y型分子篩を得る工程。
前記初期ゲルにおいて、ケイ素源のモル数はSiO2のモル数によるものであり、アルミニウム源のモル数はAl2O3によるものであり、アルカリ源のモル数はアルカリ源中の金属元素の酸化物のモル数によるものであり、アルカリ源が水酸化ナトリウムであれば、前記アルカリ源/Al2O3=1〜8がNa2O/Al2O3=1〜8であり、アルカリ源が水酸化カリウムであれば、前記アルカリ源/Al2O3=1〜8がK2O/Al2O3=1〜8であり、アルカリ源が水酸化ナトリウムと水酸化カリウムであれば、前記アルカリ源/Al2O3=1〜8が(K2O+Na2O)/Al2O3=1〜8であり、テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物のモル数は化合物中の窒素元素のモル数によるものである。
好ましくは、工程a)において、初期ゲル混合物中のSiO2/Al2O3の割合範囲は、上限が20、15、12のいずれかから選択され、下限が6、10のいずれかから選択される。アルカリ源/Al2O3の割合範囲は、上限が5、3.5、2.5のいずれかから選択され、下限が1、2.5のいずれかから選択される。H2O/Al2O3の割合範囲は、上限が400、300のいずれかから選択され、下限が100、220のいずれかから選択される。テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物/Al2O3の割合範囲は、上限が6、3のいずれかから選択され、下限が0.1、1.0、1.8のいずれかから選択される。
好ましくは、前記工程b)において、初期ゲル混合物を、まず50℃以下の温度で1〜100時間エージングさせ、さらにオートクレーブに充填する。
好ましくは、前記工程a) において、ケイ素源は、シリカゾル、活性シリカ、オルトケイ酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも一種であり、アルミニウム源は、アルミン酸ナトリウム、活性アルミナ、アルミニウムアルコキシドからなる群より選ばれる少なくとも一種であり、アルカリ源は水酸化ナトリウム及び/又は水酸化カリウムである。
好ましくは、前記工程b)において、初期ゲル混合物を、まず10〜50℃の温度で8〜72時間エージングさせ、さらにオートクレーブに充填する。
好ましくは、前記工程b)において、結晶化温度が80〜120℃であり、結晶化時間が3〜20日である。
好ましくは、前記工程b)における結晶化が静的又は動的に行われる。
本発明において、前記結晶化過程が静的に行われることとは、結晶化過程において、初期ゲル混合物が充填されているオートクレーブをオーブンに静置し、かつ、オートクレーブ内の混合物を攪拌しないことを指す。
本発明において、前記結晶化過程が動的に行われることとは、初期ゲル混合物が充填されているオートクレーブは、結晶化過程において、例えば、ひっくり返し、回転など、非静止の状態にあること、又は、結晶化過程においてオートクレーブ内部の混合物を攪拌することを指す。
1つの好ましい実施形態として、前記方法は下記の工程を含む。
a)脱イオン水、ケイ素源、アルミニウム源、水酸化ナトリウム及びテトラエチルアンモニウムカチオン含有化合物を混合させ、下記配合比を有する初期ゲル混合物を得る工程。
SiO2/Al2O3=6〜20
Na2O/Al2O3=1〜8
H2O/Al2O3=100〜400
TEA+/Al2O3=0.1〜6(TEA+はテトラエチルアンモニウムカチオンを表す。)
b)工程a)で得られる初期ゲル混合物を50℃以下の温度に保持して1〜100時間攪拌エージングさせ、均一なゲル混合物を得る工程。
c)工程b)で得られる均一なゲル混合物をオートクレーブに充填し、密閉し、70〜130℃に昇温し、自発圧力で1〜30日結晶化させる工程。
d)結晶化完了後、固形生成物を分離させ、脱イオン水で中性となるように洗浄し、乾燥させた後に前記高シリカアルミナ比のNaY型分子篩を得る工程。
前記テトラエチルアンモニウムカチオン含有化合物は、式(1)においてR1、R2、R3、R4のいずれもエチル基である化合物である。
本発明はさらに上記方法により得られる高シリカアルミナ比のY型分子篩であって、前記Y型分子篩のシリカアルミナ比が6以上であることを特徴とするものを提供する。
本発明はさらに上記方法により得られる高シリカアルミナ比のNaY型分子篩であって、前記NaY型分子篩のシリカアルミナ比が6以上であることを特徴とするものを提供する。
本発明の有益な効果は、
(1)テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物をテンプレート剤として、水熱方法を用いて高シリカアルミナ比のY型分子篩を直接に製造することができた。
(2)得られるY型分子篩のシリカアルミナ比が6以上であり、かつ、結晶化度が高く、活性が高く、安定性に優れている。
本発明において、生成物のX線粉末回折物相分析(XRD)では、オランダパナリティカル(PANalytical)社のX’PertPROX線回折装置(Cuターゲット、Kα放射線源(λ=0.15418nm)、電圧40KV、電流40mA)を使用した。生成物の相対結晶化度は、111、331、533結晶面のXRDピーク強度の合計により算出され、試料1の結晶化度を100%とし、その他の試料をそれと比較して相対結晶化度を得た。
本発明において、生成物のSEM形態分析には、HitachのSU8020走査型電子顕微鏡が用いられる。
本発明において、生成物のシリカアルミナ比は、Philips社のMagix2424X型放射線蛍光分析装置(XRF)により測定されるものである。
本発明において、生成物のケイ素核磁気共鳴(29Si MAS NMR)分析には、アメリカのVarian社のInfinity plus400WB固体核磁気スペクトル分析装置が用いられ、BBOMASプローブが用いられ、動作磁界強度が9.4Tである。生成物のシリカアルミナ比も29Si MAS NMRの結果により算出可能であり、その公式を次のように示す。
NMR SiO2/Al2O3=8*(SQ0+SQ1+SQ2+SQ3+SQ4)/(SQ1+2SQ2+3SQ3+4SQ4)
ただし、Qiはケイ素酸素四面体(SiO4)周囲のアルミニウム原子個数が異なる(i=0,1,2,3,4)ことを表し、SQiはQiのケイ素核磁気スペクトルにおいて対応するピーク面積を表す。
実施例1 試料1〜試料41の作製
テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物及びアルカリ源を脱イオン水に溶解させ、その後、アルミニウム源を添加し、清澄となるまで攪拌し、その後、さらにケイ素源を添加し、均一に混合させて初期ゲル混合物を得た。該初期ゲル混合物を室温で24時間攪拌して均一なゲル混合物を作製した。該均一なゲル混合物をステンレスオートクレーブ内に移行した。
オートクレーブを密閉してオーブンに入れて、自発圧力で一定の時間結晶化させた。結晶化終了後、固形生成物を遠心分離させ、脱イオン水で中性となるまで洗浄し、100℃で空気中で乾燥させた後、試料を得た。
得られた試料の番号、各原料の種類及びモル使用量、結晶化温度及び時間を表1に示す。
初期ゲルに水酸化テトラエチルアンモニウムを添加しない以外に、合成過程、原料配合比及び分析過程が実施例1と同じであり、得られた試料を試料42と記す。具体的な原料配合比、結晶化反応条件及び分析結果を表1に示す。
実施例2 試料1〜42のXRD構造の特性評価
X線粉末回折を用いて試料1〜42に対して特性評価を行い、その結果、試料1〜42のいずれもY型分子篩の構造特徴を有することがわかった。試料1を典型的な代表とし、そのXRD回折データの結果は表2に示され、XRDスペクトルは図1に示される。試料2〜42のX線粉末回折データの結果はいずれも表2に類似し、すなわち、ピーク位置及び形状が同じであり、合成条件の変化によりピークの相対ピーク強度が±20%の範囲内で変動する。
試料の相対結晶化度は111、331、533結晶面のXRDピーク強度の合計により算出され、試料1の結晶化度を100%とし、その他の試料をそれと比較して相対結晶化度を得た。
走査型電子顕微鏡を用いて試料1〜41に対して形態の特性評価を行い、その結果、ほとんどが八面体結晶粒子であり、粒子径の範囲が0.5μm〜30μmであることがわかった。試料1を典型的な代表とし、その走査型電子顕微鏡の写真が図2に示され、粒子径の範囲が1μm〜20μmであった。
実施例4
X線蛍光分析装置(XRF)を用いて試料1〜42のシリカアルミナ比を測定し、その結果は表1における「XRF(SiO2/Al2O3)」列のデータに詳しく示されている。
ケイ素核磁気共鳴(29Si MAS NMR)を用いて試料1〜42を測定し、算出した結果、骨格中のシリカアルミナ比を得、その結果は表1における「NMR(SiO2/Al2O3)」列のデータに詳しく示されている。試料1〜41のケイ素核磁気スペクトル(29Si−NMR)の結果が類似し、試料1を典型的な代表として図3に示されている。上記表1の結果からわかるように、本発明の方法により合成されたY型分子篩試料1〜41については、XRF方法により確認された生成物のシリカアルミナ比であっても、ケイ素核磁気データにより確認された生成物骨格のシリカアルミナ比であっても、シリカアルミナ比のいずれも6以上である。テトラアルキルアンモニウムカチオンを使用しない比較例で合成された試料42は、結晶化度及びシリカアルミナ比がいずれも試料1〜41よりも低い。接触分解プロセスについての研究によれば、高結晶化度及び高シリカアルミナ比のY型分子篩は、接触分解の活性及び安定性を顕著に向上させることができる。
本発明は、好適な実施例により上記のように開示しているが、請求の範囲を限定するためのものではなく、当業者であれば、本発明の趣旨を逸脱しない限り、可能な変動及び修正をある程度にすることができるので、本発明の保護範囲は本発明の請求の範囲に画定される範囲に準じるべきである。
Claims (9)
- 前記式(1)中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ、独立に炭素数1〜5のアルキル基から選択され、X-mは、OH-、BF4 -、F-、Cl-、Br-、I-、NO3 -、H2PO3 -、HPO3 2-、PO3 3-、SO4 2-、HSO4 -からなる群より選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物は、水酸化テトラエチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムヨージド、テトラフルオロホウ酸テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 少なくとも、
a)脱イオン水、ケイ素源、アルミニウム源、アルカリ源及び前記テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物を混合させ、下記モル比の初期ゲル混合物を得る工程と、
SiO2/Al2O3=6〜20
アルカリ源/Al2O3=1〜8(アルカリ源のモル数は、アルカリ源中の金属元素の酸化物のモル数によるものである)
H2O/Al2O3=100〜400
テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物/Al2O3=0.1〜6(テトラアルキルアンモニウムカチオン含有化合物のモル数は、化合物中の窒素元素のモル数によるものである)
b)工程a)で得られる初期ゲル混合物をエージングさせた後にオートクレーブに入れて、密閉し、70〜130℃で1〜30日結晶化させた後、洗浄、乾燥を行い、前記Y型分子篩を得る工程と、
を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。。 - 前記工程b)において初期ゲル混合物を、まず50℃以下の温度で1〜100時間エージングさせ、さらにオートクレーブに充填することを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記工程a)において、ケイ素源はシリカゾル、活性シリカ、オルトケイ酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも一種であり、アルミニウム源はアルミン酸ナトリウム、活性アルミナ、アルミニウムアルコキシドからなる群より選ばれる少なくとも一種であり、アルカリ源は水酸化ナトリウム及び/又は水酸化カリウムであることを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記工程b)において、初期ゲル混合物を、まず10〜50℃の温度で8〜72時間エージングさせ、さらにオートクレーブに充填することを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記工程b)において結晶化温度が80〜120℃であり、結晶化時間が3〜20日であることを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記工程b)における結晶化が静的又は動的に行われることを特徴とする請求項4に記載の方法。
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